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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2010/06/21 不服
2007 -23325 
半導体集積回路装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2010/06/21 不服
2007 -27402 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 木村 信行 その他   セイコーインスツル株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  
2010/05/18 不服
2007 -16562 
半導体装置及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 柳瀬 睦肇 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/05/14 不服
2006 -26113 
金属層間誘電体による拡散防止バリヤ層を有する集積回路およびその製造方法。 本件審判の請求は,成り立たない。 臼井 伸一 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2010/04/12 不服
2007 -31792 
半導体集積回路装置の製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2010/03/29 不服
2007 -12504 
相互接続用の2重層低誘電性バリアを形成する方法および形成された装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 野口 恭弘 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2010/02/22 不服
2007 -13004 
コンタクトホールの形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/02/03 不服
2006 -16455 
半導体デバイス 本件審判の請求は、成り立たない。 岡部 正夫 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
 実施可能要件  パリ条約  
2010/02/03 不服
2007 -8295 
配線構造 本件審判の請求は、成り立たない。   富士通株式会社   原文 保存
 29条1項3号  明確性  実施可能要件  
2010/01/29 不服
2007 -690 
半導体集積回路装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 田中 光雄 その他   株式会社リコー   原文 保存
該当なし  
2009/12/25 不服
2007 -1651 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   シャープ株式会社   原文 保存
 技術的範囲  
2009/11/10 不服
2008 -27965 
CMPを用いた集積回路内の多層メタライゼーション構造の平坦化の効率的かつ経済的な方法 本件審判の請求は,成り立たない。 深見 久郎 その他   アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2009/11/04 不服
2006 -29000 
極浅い接合の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 間山 進也 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2009/11/02 不服
2007 -30443 
CMOS半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   シャープ株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/06/23 不服
2006 -14038 
シリコン製MOSトランジスタの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 朝日 伸光 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2009/06/22 不服
2007 -22483 
TaN材料のバリア層を含む構造 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 坂口 博 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
 パリ条約  
2009/06/19 不服
2006 -14040 
シリコン-ゲルマニウム・トランジスタの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 朝日 伸光 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/06/02 不服
2007 -28274 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 矢野 敏雄 その他   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
2009/05/18 不服
2006 -12487 
半導体装置とその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通マイクロエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/05/08 不服
2006 -12605 
垂直トランジスタを製造する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 岡部 正夫 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/03/27 不服
2005 -22508 
相互接続を作製するための方法 本件審判の請求は、成り立たない。 越智 隆夫 その他   ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド   原文 保存
 パリ条約  
2009/03/27 不服
2005 -22509 
相互接続の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 加藤 伸晃 その他   ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド   原文 保存
 パリ条約  
2008/12/25 不服
2007 -16643 
厚い銅の相互接続を持つLDMOSトランジスタ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清水 邦明 その他   テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド   原文 保存
 パリ条約  
2008/05/08 不服
2005 -19936 
DMOS構造及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 浅村 皓 その他   テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド   原文 保存
 パリ条約  
2008/04/01 不服
2005 -9888 
特異化された多数のプラグのアラインメント許容度を改善する方法及び構造 本件審判の請求は、成り立たない。   マイクロン テクノロジー,インコーポレイテッド   原文 保存
 新規事項の追加  パリ条約  
2008/02/22 不服
2005 -22446 
半導体製造方法及び電界効果トランジスタ 本件審判の請求は、成り立たない。 石原 昌典 その他   マイクロン テクノロジー, インク.   原文 保存
 パリ条約  
2008/01/21 不服
2005 -10721 
MISトランジスタ及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 吉田 茂明 その他   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2007/05/08 不服
2005 -19104 
金属間誘電体の作用をする絶縁層の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
2007/03/30 不服
2005 -4977 
半導体装置および半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 古谷 栄男   ローム株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  
2007/01/22 不服
2005 -1056 
エアーギャップを備えたデュアルダマシンの形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   聯華電子股▲分▼有限公司   原文 保存
該当なし  

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