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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2015/06/01 不服
2014 -165  		マスクブランク及びその製造方法、並びに転写マスクの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/01/09 不服
2013 -25559  		大型ペリクルの枠体及び該枠体の把持方法 本件審判の請求は、成り立たない。   旭化成イーマテリアルズ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/10/01 不服
2013 -18136  		浸漬リソグラフィーのための疎水性被膜を有する光学的配置、ならびにそれを具える投影露光器機 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 杉村 憲司 その他   カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし 　
2014/05/01 不服
2013 -8552  		感光性膜露光装置及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上田 俊一 その他   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2014/03/31 不服
2013 -54  		マスク露光により三次元物体を作製する装置及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エンビジョンテク・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング   原文 保存
該当なし 　
2013/10/07 不服
2012 -23770  		階調マスクの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/07/22 不服
2012 -5097  		リソグラフィ装置及びその汚染防止又は減少方法 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし 　
2013/06/05 不服
2012 -19832  		ペリクル膜の製造方法および装置 本件審判の請求は、成り立たない。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/04/03 不服
2012 -19382  		半導体リソグラフィー用ペリクルおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/03/04 不服
2012 -9055  		版の画像付けをする方法 本件審判の請求は、成り立たない。 宮崎 昭夫 その他   ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし 　
2013/01/23 不服
2011 -26550  		液浸フォトリソグラフィシステム 本件審判の請求は、成り立たない。 須田 洋之 その他   エドワーズ リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2012/12/27 不服
2012 -3914  		露光装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立ハイテクノロジーズ   原文 保存
該当なし 　
2012/11/07 不服
2012 -4378  		フォトレジスト供給装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱化学エンジニアリング株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/10/29 不服
2011 -12099  		フォトマスク及びフォトマスクを備えた露光装置 本件審判の請求は、成り立たない。 長澤 俊一郎   独立行政法人科学技術振興機構 ウシオ電機株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/09/06 不服
2011 -26030  		フォトレジストの剥離及び清浄方法 本件審判の請求は、成り立たない。 中川 邦雄   凸版印刷株式会社 瀬戸技研工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/09/06 不服
2011 -25354  		露光装置 本件審判の請求は、成り立たない。 阿部 琢磨   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/09/04 不服
2011 -17007  		電子ビーム描画装置のショット量補正方法及び電子ビーム描画装置 本件審判の請求は、成り立たない。   日本電子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/07/25 不服
2011 -17949  		識別情報記録方法およびフォトマスクセット 本件審判の請求は、成り立たない。 奥田 誠司   日立金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/07/02 不服
2011 -5384  		多層フォトレジストのドライ現像のための方法及び装置 本件審判の請求は、成り立たない。 福原 淑弘 その他   東京エレクトロン株式会社 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2012/06/04 不服
2011 -7286  		露光線量決定方法及び露光装置 本件審判の請求は、成り立たない。   アドバンスド マスク テクノロジー センター ゲーエムベーハー ウント ツェーオー カーゲー   原文 保存
該当なし 　
2012/04/04 不服
2011 -5692  		マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/05 不服
2011 -3191  		露光装置及び露光方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西 和哉 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし 　
2012/01/26 不服
2011 -22145  		パターン形成装置および位置決め装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   松下 智雄   原文 保存
該当なし 　
2011/11/14 不服
2010 -13758  		フォトマスクの製造方法およびフォトマスク描画システム 本件審判の請求は、成り立たない。 仲村 義平 その他   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
 引用発明の認定 　
2011/10/24 不服
2010 -18033  		レジスト除去装置及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2011/08/01 不服
2010 -12715  		描画装置及び描画方法 本件審判の請求は、成り立たない。 池上 徹真 その他   株式会社ニューフレアテクノロジー   原文 保存
該当なし 　
2011/07/12 不服
2010 -8107  		マスクブランクスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 福田 修一   HOYA株式会社   原文 保存
 引用発明の認定 　
2010/12/07 不服
2009 -8805  		フォトマスクブランク用基板の選定方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 石川 武史 その他   株式会社ニコン 信越化学工業株式会社 株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2010/09/30 不服
2008 -29957  		リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし 　
2009/12/01 不服
2007 -29406  		検出組立体および該検出組立体を備えたリソグラフィ投影装置 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし 　

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