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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2006/04/18 不服
2003 -19791  		プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   沖電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/04/14 不服
2004 -3831  		プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 内藤 浩樹 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/04/12 不服
2004 -6499  		検査結果表示方法、検査結果表示装置及び記録媒体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福田 浩志 その他   沖電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/04/12 不服
2004 -1289  		基板を異方性プラズマエッチングする方法および装置、および電子部品またはセンサー素子 本件審判の請求は、成り立たない。 矢野 敏雄 その他   ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし 　
2006/04/11 不服
2002 -20847  		ウエーハの動的な気相処理および粒子気化を備える半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 栗田 忠彦 その他   セミトゥール・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし 　
2006/04/05 不服
2003 -6144  		プラズマエッチング処理装置のクリーニング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし 　
2006/04/03 不服
2003 -13735  		半導体基板の表面処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 岸本 瑛之助 その他   光洋サーモシステム株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/03/23 不服
2003 -6195  		高アスペクト比の孔を形成する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 恩田 博宣   マイクロン テクノロジー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2006/03/22 不服
2003 -9577  		プラズマエッチング電極板 本件審判の請求は、成り立たない。   日立化成工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/03/14 不服
2004 -3982  		半導体の欠陥検査装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/03/03 不服
2004 -3353  		ドライエッチング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 永野 大介 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/03/03 不服
2004 -9163  		プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 橋本 良郎 その他   財団法人名古屋産業科学研究所 株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2006/03/01 不服
2004 -8867  		半導体装置の製造装置およびドライエッチング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 岩橋 文雄 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/02/27 不服
2003 -10682  		基板の処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/02/01 不服
2004 -3362  		シリコンの異方性エッチング方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友精密工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/01/31 不服
2003 -21877  		プラズマエッチング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 浅井 章弘   東京エレクトロン株式会社 株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2006/01/13 不服
2004 -8293  		プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 岩橋 文雄 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/01/05 不服
2004 -8712  		プラズマ生成装置 本件審判の請求は、成り立たない。 小川 勝男   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし 　
2005/12/20 不服
2003 -6464  		プラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人日東国際特許事務所   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし 　
2005/12/16 不服
2003 -20242  		ウェハのドライエッチング装置およびドライエッチング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 永野 大介 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2005/11/14 不服
2004 -7402  		半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし 　
2005/11/14 不服
2004 -7403  		半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし 　
2005/11/01 不服
2002 -12408  		Al系金属配線の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし 　
2005/10/25 不服
2003 -8408  		塩化水素、塩素含有エッチャントおよび窒素を使用するアルミニウムおよびその合金のエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 鈴木 康仁 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
 パリ条約 　
2005/10/24 不服
2003 -6944  		産業用機器の遠隔保守システムおよび方法、デバイス生産方法、ならびに監視装置および方法 本件審判の請求は、成り立たない。 内尾 裕一   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2005/10/24 不服
2002 -7190  		アモルファス鉄心変圧器とその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立産機システム   原文 保存
該当なし 　
2005/10/20 不服
2003 -21535  		シリコン電極板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2005/09/29 不服
2003 -8034  		チップ搭載済基板のプラズマクリーニング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 内藤 浩樹 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2005/09/27 不服
2002 -24768  		プラズマエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし 　
2005/09/14 不服
2003 -5596  		プラズマ処理方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 河宮 治 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　

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