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酒井 英夫
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2006/03/03
不服
2003 -22699
p型半導体膜の製造方法およびそれを用いた発光素子
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社村田製作所
原文
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該当なし
2006/02/09
不服
2004 -26048
半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
藤綱 英吉 その他
セイコーエプソン株式会社
原文
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該当なし
2005/12/19
不服
2003 -18622
基板処理装置および基板処理方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
稲岡 耕作
大日本スクリーン製造株式会社
原文
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該当なし
2005/12/08
不服
2003 -11578
シリコンゲルマニウムエッチング停止層システム
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
西山 清春 その他
マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー
原文
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該当なし
2005/10/11
異議
2003 -73003
半導体薄膜の製造方法および磁電変換素子の製造方法
訂正を認める。 特許第3414833号の請求項10、11に係る特許を維持す……
内藤 浩樹 その他
原文
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該当なし
2005/10/07
不服
2003 -15543
ICパッケージ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
産形 和央 その他
ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド
原文
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該当なし
2005/09/29
不服
2004 -3477
炭化珪素薄膜およびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
松下電器産業株式会社
原文
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該当なし
2005/09/26
不服
2003 -5777
酸化物の高選択性エッチング法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
栗田 忠彦 その他
マイクロン・テクノロジー・インコーポレーテッド
原文
保存
該当なし
2005/08/24
不服
2004 -22359
ウエット処理装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
福森 久夫
アルプス電気株式会社 大見 忠弘
原文
保存
該当なし
2005/07/01
異議
2003 -73041
プラズマ処理方法及び装置
訂正を認める。 特許第3417328号の請求項1ないし24に係る特許を維……
岩橋 文雄 その他
原文
保存
29条の2(拡大された先願の地位)
2005/06/28
不服
2003 -23855
バイポーラ高周波トランジスタ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
原文
保存
パリ条約
2005/06/27
異議
2003 -71371
半導体製造装置及びそのクリーニング方法
訂正を認める。 特許第3350590号の請求項1ないし6に係る特許を維……
高橋 敬四郎
原文
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新規事項の追加
2005/06/24
不服
2003 -14380
ノンリード・プラスチック半導体パッケージ構造
原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。
小堀 益
吉川工業株式会社
原文
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該当なし
2005/04/27
異議
2003 -73163
基板の処理法
特許第3419758号の請求項1ないし10に係る特許を維持する。
ラインハルト・アインゼル その他
原文
保存
該当なし
2005/03/29
異議
2003 -73168
配線基板の実装構造
特許第3420447号の請求項1ないし6に係る特許を維持する。
原文
保存
該当なし
2005/02/14
不服
2003 -8607
窒化物系半導体層の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
谷澤 靖久 その他
日本電気株式会社
原文
保存
該当なし
2005/02/09
不服
2003 -13827
非単結晶薄膜の形成装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
福森 久夫
大見 忠弘 アルプス電気株式会社
原文
保存
該当なし
2005/01/12
異議
2002 -71817
面付実装型樹脂封止半導体装置
訂正を認める。 特許第3249958号の請求項1ないし5に係る特許を取……
作田 康夫 その他
原文
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分割出願(出願分割)
2005/01/12
異議
2003 -72511
ウェハ処理装置およびウェハ処理方法
特許第3395696号の請求項2、11ないし17、19ないし22に係る特許を維……
原文
保存
該当なし
2004/12/17
不服
2003 -19598
メサ型半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士電機デバイステクノロジー株式会社
原文
保存
該当なし
2004/12/09
不服
2003 -9078
半導体製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
山口 栄一 その他
株式会社日立国際電気
原文
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該当なし
2004/09/06
異議
2003 -72141
蒸着装置及びボールバンプの形成方法
訂正を認める。 特許第3381454号の請求項2に係る特許を維持する。
船橋 国則
原文
保存
新規事項の追加
2004/08/09
不服
2002 -9456
プラズマCVD成膜装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
堀 明▲ひこ▼
日本エー・エス・エム株式会社
原文
保存
該当なし
2004/07/12
不服
2002 -21776
パターン内に間隔層を製造する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
原文
保存
該当なし
2004/06/03
不服
2001 -875
半導体量子ドット構造の作製法
本件審判の請求は、成り立たない。
池田 憲保 その他
日本電気株式会社 技術研究組合フェムト秒テクノロジー研究機構
原文
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該当なし
2004/04/06
不服
2003 -3207
回転式基板処理装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
吉田 正二
住友精密工業株式会社
原文
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該当なし
2004/04/05
不服
2002 -14458
気相成長方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士通株式会社
原文
保存
該当なし
2004/03/19
不服
2002 -21067
配向性膜の形成方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ソニー株式会社
原文
保存
該当なし
2004/03/03
不服
2001 -8331
インクジェットプリンタヘッドの製造方法およびシリコン基板の加工方法
本件審判の請求は、成り立たない。
セイコーエプソン株式会社
原文
保存
該当なし
2004/01/20
不服
2002 -24095
シリコンウェーハ表面粗さ制御用のエッチャント
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
三菱住友シリコン株式会社
原文
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