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小川 将之
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2011/12/21
不服
2010 -3844
構造基板の製造方法および半導体素子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
森 幸一
ソニー株式会社 住友電気工業株式会社
原文
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該当なし
2011/12/21
不服
2009 -1183
エンハンスメント型III族窒化物デバイス
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
インターナショナル レクティフィアー コーポレイション
原文
保存
パリ条約
2011/12/20
不服
2010 -18247
半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士電機株式会社
原文
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該当なし
2011/12/20
不服
2010 -24426
半導体集積回路
本件審判の請求は、成り立たない。
緒方 雅昭 その他
エルピーダメモリ株式会社
原文
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該当なし
2011/12/19
不服
2009 -5592
不揮発性メモリの消去方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
旺宏電子股▲ふん▼有限公司
原文
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該当なし
2011/12/19
不服
2009 -17135
自己整合両面垂直MIMコンデンサ
本件審判の請求は、成り立たない。
インフィネオン テクノロジーズ ノース アメリカ コーポレイション
原文
保存
該当なし
2011/12/19
不服
2010 -29355
MOS型電界効果トランジスタの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
飯塚 雄二
ラピスセミコンダクタ宮城株式会社 ラピスセミコンダクタ株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/19
不服
2010 -14305
固体撮像素子及びその駆動方法
本件審判の請求は,成り立たない。
伊藤 仁恭
ソニー株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/19
不服
2009 -23018
炭化珪素半導体素子およびその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
山崎 宏 その他
財団法人電力中央研究所 関西電力株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/19
不服
2009 -9882
分割トラック型零相変流器
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
マルチ計測器株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/12
不服
2010 -25243
半導体積層構造、半導体素子およびHEMT素子
本件審判の請求は、成り立たない。
吉竹 英俊
日本碍子株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/12
不服
2010 -8095
熱電変換セグメント素子及びその製造方法。
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
独立行政法人産業技術総合研究所
原文
保存
該当なし
2011/12/12
不服
2010 -23912
バンド設計超格子を有する半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
大貫 進介 その他
メアーズ テクノロジーズ, インコーポレイテッド
原文
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パリ条約
2011/12/12
不服
2010 -23909
バンド設計超格子を有する半導体装置を製作する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
伊東 忠彦 その他
メアーズ テクノロジーズ, インコーポレイテッド
原文
保存
パリ条約
2011/12/12
不服
2010 -15578
積層構造物
本件審判の請求は、成り立たない。
浅村 肇 その他
エレメント シックス リミテッド
原文
保存
該当なし
2011/12/07
不服
2009 -18095
抵抗薄膜および抵抗薄膜形成用のスパッタリングターゲット
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
住友金属鉱山株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/06
不服
2009 -15364
表面実装型温度センサ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
三菱マテリアル株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/05
不服
2009 -4574
半導体装置及びその製造方法
本件審判の請求は,成り立たない。
ラピスセミコンダクタ株式会社
原文
保存
該当なし
2011/12/05
不服
2009 -5026
多結晶装置の製造方法、薄膜トランジスタを具える装置の製造方法及び多結晶シリコン薄膜トランジスタを有する装置
本件審判の請求は、成り立たない。
杉村 憲司 その他
ザ トラスティーズ オブ コロンビア ユニヴァーシティ イン ザ シティ オブ ニューヨーク
原文
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該当なし
2011/12/01
不服
2009 -5890
電解コンデンサ用電解液及びこれを用いた電解コンデンサ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
三菱化学株式会社
原文
保存
該当なし
2011/11/29
不服
2010 -4280
磁気抵抗ラム
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社ハイニックスセミコンダクター
原文
保存
パリ条約
2011/11/29
不服
2009 -17819
電気二重層コンデンサ用の分極性電極の製造方法並びに電気二重層コンデンサの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
高橋 詔男 その他
本田技研工業株式会社
原文
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新規事項の追加
2011/11/28
不服
2009 -19121
積層コイル部品およびその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社村田製作所
原文
保存
該当なし
2011/11/22
不服
2009 -20382
バイポーラ・トランジスタの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
市位 嘉宏 その他
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
原文
保存
パリ条約
2011/11/21
不服
2009 -20571
メモリ及びロジック混載のLSIデバイス
本件審判の請求は、成り立たない。
林 恒徳
富士通セミコンダクター株式会社
原文
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進歩性(29条2項)
2011/11/21
不服
2009 -23623
半導体メモリ装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
黒川 弘朗 その他
株式会社ハイニックスセミコンダクター
原文
保存
該当なし
2011/11/21
不服
2009 -20782
キャパシタと好ましくはプレーナ型のトランジスタとを有する集積回路構造およびその製造方法
本件審判の請求は,成り立たない。
インフィネオン テクノロジーズ アーゲー
原文
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該当なし
2011/11/16
不服
2010 -11382
非晶質CoFeSiB又は非晶質NiFeSiB自由層を備える磁気トンネル接合
本件審判の請求は、成り立たない。
実広 信哉
三星電子株式会社
原文
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該当なし
2011/11/15
不服
2009 -13142
誘電体薄膜キャパシタの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社村田製作所
原文
保存
該当なし
2011/11/15
不服
2010 -13538
半導体集積回路
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ルネサスエレクトロニクス株式会社
原文
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該当なし
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