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長谷部 智寿
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2013/03/06
不服
2011 -1982
高品質ホモエピタキシ用微傾斜窒化ガリウム基板
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
クリー インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2013/02/14
不服
2012 -9741
モールドパッケージの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
伊藤 高順 その他
株式会社デンソー
原文
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該当なし
2012/12/10
不服
2012 -7870
プラズマエッチング方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
SPPテクノロジーズ株式会社
原文
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該当なし
2012/12/04
不服
2011 -8488
基板を処理する装置及び方法
本件審判の請求は、成り立たない。
西島 孝喜 その他
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2012/11/20
不服
2012 -6946
ドライエッチング方法及び装置
本件審判の請求は、成り立たない。
村中 克年
株式会社アルバック
原文
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該当なし
2012/10/31
不服
2012 -5277
低温成長バッファ層の形成方法および発光素子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社光波
原文
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該当なし
2012/09/10
不服
2011 -3567
遠隔プラズマを用いた膜堆積プロセス及び多段階式のチャンバクリーニングプロセス
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
園田 吉隆
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2012/09/03
不服
2011 -14109
エピタキシコーティングされた半導体ウェハおよびデバイスならびにエピタキシコーティングされた半導体ウェハを作製する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
原文
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該当なし
2012/07/30
不服
2012 -4303
ガスクラスターイオンビームを用いた基材表面の処理方法及び処理装置
本件審判の請求は、成り立たない。
ティーイーエル エピオン インク.
原文
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該当なし
2012/07/25
不服
2011 -16284
パルス化される基板電極電力を用いたプラズマエッチング方法
本件審判の請求は、成り立たない。
篠 良一 その他
ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
原文
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該当なし
2012/06/26
不服
2011 -25651
基板支持体、プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置内の基板を熱的に制御する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ラム リサーチ コーポレーション
原文
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該当なし
2012/05/18
不服
2011 -3484
半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
シャープ株式会社
原文
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該当なし
2012/05/16
不服
2011 -17973
窒化物半導体製造装置の洗浄方法と洗浄装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
村山 靖彦 その他
大陽日酸株式会社
原文
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該当なし
2012/05/09
不服
2011 -12669
現場基板温度モニター法及び装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ラム リサーチ コーポレーション
原文
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該当なし
2012/05/07
不服
2011 -2121
二段階プロセスによる半導体のヘテロ構造体及び製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
恩田 誠 その他
シービーエル テクノロジーズ インコーポレイテッド パナソニック株式会社
原文
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該当なし
2012/03/27
不服
2010 -12753
エッチング装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
阿部 英樹 その他
株式会社アルバック 三星電子株式会社
原文
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該当なし
2012/03/27
不服
2010 -12760
エッチング装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
阿部 英樹 その他
株式会社アルバック 三星電子株式会社
原文
保存
該当なし
2012/03/12
不服
2011 -2395
誘導結合型プラズマ処理装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
サムコ株式会社
原文
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該当なし
2012/02/02
不服
2011 -15130
半導体装置および半導体装置集合体
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
稲岡 耕作
ローム株式会社
原文
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該当なし
2012/01/04
不服
2010 -14385
低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社アルバック
原文
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該当なし
2011/12/21
不服
2010 -16206
電子部品用銅系基材及び電子部品
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
戸田 俊材 その他
株式会社神戸製鋼所
原文
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該当なし
2011/12/19
不服
2010 -15783
放熱フィンおよびヒートシンク
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
江村 美彦 その他
古河電気工業株式会社
原文
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該当なし
2011/12/06
不服
2010 -7907
プラズマ発生器及びプラズマエッチング装置
本件審判の請求は、成り立たない。
住友精密工業株式会社
原文
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該当なし
2011/12/01
不服
2010 -27008
プラズマ閉込め装置及びプラズマの閉込め方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アドヴアンスド マイクロファブリケション イクィップメント アイエヌシー アジア
原文
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パリ条約
2011/11/15
不服
2010 -9845
半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
東レ・ダウコーニング株式会社
原文
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該当なし
2011/11/14
不服
2010 -6969
低汚染プラズマチャンバ構成部品とその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
下山 治 その他
ラム リサーチ コーポレーション
原文
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パリ条約
2011/10/03
不服
2010 -28505
熱界面材および半田予備成形品
本件審判の請求は、成り立たない。
フライズ メタルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2011/09/02
不服
2009 -25349
半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
岡田 義敬 その他
オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド
原文
保存
該当なし
2011/09/02
不服
2008 -12698
種々の基板を異方性プラズマ加工する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アインゼル・フェリックス=ラインハルト その他
ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
原文
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パリ条約
2011/08/17
不服
2009 -23652
リードフレーム積層物
本件審判の請求は、成り立たない。
日東電工株式会社
原文
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該当なし
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