審決検索結果一覧を表示しています。

現在の検索キーワード： 藤原 敬士

215 件のヒット

  • ポートフォリオ機能
  • 絞り込み検索機能

チェックした審決を…
　 ポートフォリオ名を入力して新規に保存　→　

　既存のポートフォリオを選択して保存　→　
絞り込み検索ワード： or or 　→　
審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2010/02/16 不服
2008 -7724  		半導体製造装置 本件審判の請求は、成り立たない。   財団法人国際科学振興財団   原文 保存
該当なし 　
2010/02/15 不服
2006 -23584  		浮遊帯域溶融装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社クリスタルシステム   原文 保存
該当なし 　
2010/02/01 不服
2007 -35000  		半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/10/20 不服
2007 -19162  		半導体のリードフレームおよびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 大塚 文昭 その他   三星航空産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/08/25 不服
2007 -16745  		電着塗膜の膜厚算出方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 村松 貞男 その他   三菱自動車工業株式会社 上村工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/08/18 不服
2007 -21505  		CVD装置の洗浄方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 澤田 達也 その他   日本碍子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/07/21 不服
2007 -9506  		多結晶半導体部材およびその作成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中野 佳直 その他   株式会社東北テクノアーチ シャープ株式会社   原文 保存
 パリ条約 　
2009/07/21 不服
2007 -20259  		泡状金属を製造する装置及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ヒユツテ・クラインーライヒエンバツハ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング   原文 保存
該当なし 　
2009/07/15 不服
2007 -1961  		フレキシブルチューブを利用した半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/06/29 不服
2008 -26367  		半導体基板のエッジ成膜の制御 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 池田 成人 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
 パリ条約 　
2009/05/29 不服
2007 -21504  		III族窒化物膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 杉村 憲司 その他   日本碍子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/04/20 不服
2007 -1511  		シャワーヘッド及びシャワーヘッドを用いた半導体熱処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし 　
2009/03/24 不服
2007 -2207  		エピタキシャルウエーハ製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし 　
2009/02/04 不服
2007 -134  		プラズマ処理装置、これに用いる誘電体板及び処理容器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2008/12/17 不服
2006 -26883  		堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2008/10/21 不服
2005 -20834  		単結晶引上装置 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   株式会社SUMCO   原文 保存
 進歩性(29条2項) 　
2008/08/15 不服
2006 -9987  		ウェーハ熱処理用部材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 波多野 久   コバレントマテリアル株式会社   原文 保存
該当なし 　
2007/12/10 不服
2006 -27958  		エピタキシャルウェーハの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 木村 高久   SUMCO TECHXIV株式会社   原文 保存
該当なし 　
2007/09/10 不服
2006 -14252  		縦型拡散・CVD装置及び半導体デバイスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし 　
2007/06/06 不服
2003 -22869  		添加剤がドーピングされた高純度シリカガラスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2007/04/02 不服
2004 -17098  		半導体装置をウエーハ面上でバーンイン処理するための装置 本件審判の請求は、成り立たない。 久野 琢也 その他   インフィネオン テクノロジース アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
 パリ条約 　
2007/01/22 不服
2004 -15999  		ボールグリッドアレイ型半導体装置およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉元 弘 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2006/12/20 不服
2004 -19152  		基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小谷 悦司   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/11/27 不服
2004 -3111  		半導体ウェハの製法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 ラインハルト・アインゼル その他   ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし 　
2006/11/16 不服
2003 -20096  		コールドウォール形成膜処理装置のクリーニング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/11/07 不服
2004 -4519  		成膜装置 本件審判の請求は、成り立たない。 江口 裕之   株式会社島津製作所   原文 保存
該当なし 　
2006/11/07 不服
2005 -15167  		ウエハを支持する改善されたラダーボート 本件審判の請求は、成り立たない。 間山 進也 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2006/10/26 不服
2004 -1040  		対向ターゲット式スパッタ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   門倉 貞夫   原文 保存
該当なし 　
2006/09/06 不服
2003 -12672  		分割ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三井金属鉱業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/07/10 不服
2003 -3336  		単結晶引上装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし 　

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ