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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2010/03/01 不服
2009 -16422 
半導体装置の作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2010/02/26 不服
2007 -10630 
薄膜デバイスの転写方法 本件審判の請求は、成り立たない。 竹腰 昇 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2010/02/18 不服
2007 -9597 
薄膜デバイスの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 田中 克郎 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/02/10 不服
2007 -5918 
CMOSデバイスおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上野 剛史 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2010/01/12 不服
2007 -3485 
液晶表示装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 梶並 順 その他   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2010/01/05 不服
2006 -28625 
アクティブマトリックス有機電界発光ディスプレイ装置及びその製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 園田 吉隆   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2009/11/24 不服
2007 -5848 
SOIMOSFETデバイスおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上野 剛史 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2009/11/24 不服
2007 -5356 
二重ゲート型電界効果トランジスタおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 太佐 種一 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
 パリ条約  
2009/11/11 不服
2006 -26986 
拡散シリコンウェハおよびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   コバレントマテリアル株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  技術的範囲  
2009/11/04 不服
2006 -21462 
ポリシリコン活性層を含む薄膜トランジスタ及び製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 恩田 博宣   ピーティー プラス リミテッド   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2009/10/27 不服
2006 -22485 
レーザアニーリング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 田中 光雄 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/10/27 不服
2009 -12586 
SOIウェーハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/09/30 不服
2006 -24009 
薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法および該薄膜トランジスタを含むアクティブ・マトリックス型表示装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 間山 進也 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2009/09/28 不服
2006 -14385 
半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山形 洋一 その他   OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/09/01 不服
2006 -28307 
液晶表示装置用アレイ基板及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタ 本件審判の請求は、成り立たない。 鈴木 憲七 その他   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/08/03 不服
2007 -11095 
イオンビーム装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし  
2009/07/15 不服
2006 -25852 
薄膜トランジスタパネル 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   カシオ計算機株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/22 不服
2006 -18828 
ダブルバーティカルチャネル薄膜トランジスタのCMOS装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 恩田 博宣   瀚宇彩晶股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2009/06/01 不服
2006 -13379 
MILCを利用した多重ゲート薄膜トランジスタ及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   三星モバイルディスプレイ株式會社   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/03/27 不服
2005 -22508 
相互接続を作製するための方法 本件審判の請求は、成り立たない。 加藤 伸晃 その他   ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド   原文 保存
 パリ条約  
2009/03/27 不服
2005 -22509 
相互接続の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 越智 隆夫 その他   ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド   原文 保存
 パリ条約  
2009/03/05 不服
2006 -7515 
アモルファス膜の結晶化方法および薄膜トランジスタ 本件審判の請求は、成り立たない。 山本 秀策 その他   シャープ株式会社   原文 保存
 パリ条約  
2009/02/09 不服
2006 -11146 
薄膜デバイスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ティーピーオー ホンコン ホールディング リミテッド   原文 保存
該当なし  
2009/02/05 不服
2006 -21712 
炭化珪素半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小林 茂   日産自動車株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/01/15 不服
2006 -7752 
半導体装置の作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   シャープ株式会社 株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2008/12/16 不服
2006 -5243 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 須澤 修   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  
2008/10/07 不服
2006 -6343 
薄膜トランジスタ及びその製法と液晶表示装置とプロジェクション装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ティーピーオー ホンコン ホールディング リミテッド   原文 保存
 新規事項の追加  
2008/09/25 不服
2006 -2452 
半導体装置の製造装置、半導体装置の製造方法、および半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 中村 誠 その他   株式会社東芝   原文 保存
 新規事項の追加  
2008/07/08 不服
2005 -17302 
半導体装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社東芝   原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2008/06/09 不服
2006 -8084 
コンタクト構造の形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。   三洋電機株式会社   原文 保存
該当なし  

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