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現在の検索キーワード: 宮崎 園子

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/04/20 不服
2020 -15659 
蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中村 行孝 その他   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2019 -14622 
固体ソース送出用の高純度タングステンヘキサカルボニル 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   インテグリス・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 異議
2020 -700442 
リチウム金属複合酸化物粉体 特許第6626434号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した訂正…… 特許業務法人竹内・市澤国際特許事務所     原文 保存
該当なし  
2020/09/29 異議
2019 -700882 
複合化合物、リチウム含有複合酸化物、及びそれらの製造方法 特許第6510402号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂…… 鈴木 慎吾 その他     原文 保存
該当なし  
2020/07/21 不服
2018 -16636 
合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 弟子丸 健 その他   エレメント シックス テクノロジーズ リミテッド   原文 保存
該当なし  
2020/06/01 不服
2018 -16936 
フッ素プラズマに対する保護に適した保護コーティングを有するチャンバ構成要素 本件審判の請求は、成り立たない。 田中 伸一郎 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/01/20 不服
2018 -15213 
真空蒸着装置用マニホールド 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日立造船株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/01/20 不服
2018 -1168 
高出力インパルスコーティング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト,プフェフィコーン   原文 保存
該当なし  
2019/12/23 不服
2018 -14764 
導電部材、その製造方法、並びにこれを用いた燃料電池用セパレータおよび固体高分子形燃料電池 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日産自動車株式会社   原文 保存
該当なし  
2019/07/17 不服
2018 -12974 
固定された、および携帯式のコーティング装置およびコーティング法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉田 樹里 その他   ユニバーシティ オブ ヒューストン   原文 保存
該当なし  
2019/05/27 不服
2017 -16728 
窒化ガリウムおよび金属酸化物の複合基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森下 夏樹 その他   シックスポイント マテリアルズ, インコーポレイテッド ソウル セミコンダクター カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2019/05/24 不服
2017 -17553 
イオン注入を通じたサファイア特性変更 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大塚 文昭 その他   アップル インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2019/03/27 不服
2018 -385 
シリコン含有薄膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ユーピー ケミカル カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2019/03/04 不服
2017 -16880 
窒化物半導体結晶、製造方法および製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   国立大学法人東京農工大学   原文 保存
該当なし  
2019/02/12 不服
2018 -3919 
GaN結晶及びGaN結晶からなる基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱ケミカル株式会社   原文 保存
該当なし  
2019/02/04 不服
2017 -17028 
蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 佐藤 泰和 その他   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2019/01/23 不服
2017 -19201 
成膜装置 本件審判の請求は、成り立たない。 喜多 俊文   株式会社島津製作所   原文 保存
該当なし  
2018/12/07 不服
2017 -15285 
ビスマスでドープされた半絶縁III族窒化物ウエハおよびその生産方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森下 夏樹 その他   ソウル セミコンダクター カンパニー リミテッド シックスポイント マテリアルズ, インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2018/11/19 不服
2017 -18400 
GaN結晶基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/10/09 不服
2017 -12702 
ダイヤモンド基板及びダイヤモンド基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アダマンド並木精密宝石株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/09/14 不服
2017 -18429 
C粒子が分散したFe-Pt系スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/08/24 不服
2017 -5912 
SiCエピタキシャルウェハおよび半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 須藤 章 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2018/07/23 不服
2017 -13516 
炭化珪素エピタキシャル基板、炭化珪素エピタキシャル基板の製造方法、炭化珪素半導体装置の製造方法、炭化珪素成長装置および炭化珪素成長装置用部材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/05/28 不服
2017 -9332 
優れた硬度の窒化ケイ素含有剥離層 本件審判の請求は、成り立たない。 吉野 亮平 その他   スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー   原文 保存
該当なし  
2018/05/28 不服
2017 -12059 
成膜装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 土屋 亮 その他   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  
2018/05/07 不服
2017 -10412 
ダイヤモンド複合体、ダイヤモンド複合体の製造方法および単結晶ダイヤモンドの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人深見特許事務所   住友電工ハードメタル株式会社 住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/03/27 不服
2016 -16038 
低い光吸収係数を有するドープされた砒化ガリウム単結晶 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   フライベルガー・コンパウンド・マテリアルズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング   原文 保存
該当なし  
2018/02/19 不服
2017 -2854 
ロウ材の塗布方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/02/15 不服
2016 -13500 
格子調整ドメイン-マッチングエピタキシーを用いた化合物半導体のエピタキシャル成長 本件審判の請求は、成り立たない。   ウルトラテック インク   原文 保存
該当なし  
2018/02/06 不服
2016 -9365 
フロートゾーン法により製造したシリコン単結晶及びシリコン基板 本件審判の請求は、成り立たない。   ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  

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