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現在の検索キーワード: 宮川 数正

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2019/02/12 不服
2018 -7492 
遊技台 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中 大介   株式会社大都技研   原文 保存
該当なし  
2019/01/29 不服
2018 -1831 
遊技機 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社三洋物産   原文 保存
該当なし  
2018/11/27 不服
2018 -3222 
遊技台 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社大都技研   原文 保存
該当なし  
2018/11/27 不服
2017 -13818 
遊技機 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社三洋物産   原文 保存
該当なし  
2018/11/27 不服
2018 -3220 
遊技台 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社大都技研   原文 保存
該当なし  
2018/11/13 不服
2018 -1193 
遊技台 本件審判の請求は、成り立たない。 中 大介   株式会社大都技研   原文 保存
該当なし  
2018/09/03 不服
2017 -16995 
遊技機 本件審判の請求は、成り立たない。 石川 好文 その他   株式会社三共   原文 保存
該当なし  
2018/09/03 不服
2017 -16997 
遊技機 本件審判の請求は、成り立たない。 溝渕 良一 その他   株式会社三共   原文 保存
該当なし  
2018/09/03 不服
2017 -16996 
遊技機 本件審判の請求は、成り立たない。 石川 好文 その他   株式会社三共   原文 保存
該当なし  
2018/06/04 不服
2017 -10760 
遊技機 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社三共   原文 保存
該当なし  
2016/09/27 不服
2014 -12276 
EUVマイクロリソグラフィ用の照明光学系、この種の照明光学系用のEUV減衰器、及びこの種の照明光学系を有する照明系及び投影露光装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 熊倉 禎男 その他   カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2016/09/26 不服
2015 -1888 
処理システム 本件審判の請求は、成り立たない。 田原 正宏 その他   クレオ ハルブライターテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2016/06/01 不服
2014 -25709 
単一のプロセスウィンドウモデルを生成するためのシステム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2016/04/05 不服
2014 -26726 
リソグラフィ装置および検出装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2016/01/05 不服
2014 -12588 
熱処理方法および熱処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉竹 英俊   株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ   原文 保存
該当なし  
2015/02/09 不服
2014 -450 
反射光学素子とその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 下地 健一   カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2014/10/17 不服
2013 -22536 
位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 高柳 司郎 その他   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/09/03 不服
2013 -21141 
フォトレジストの除去方法 本件審判の請求は、成り立たない。   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/05/14 不服
2013 -9099 
電鋳モールドパターンの作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2014/03/05 不服
2013 -2091 
フォトマスク又はマスクブランクス及びこれを用いた転写方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アルバック成膜株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/02/04 不服
2013 -8829 
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2014/01/29 不服
2013 -986 
インプリントリソグラフィ方法および装置 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2013/04/24 不服
2012 -22613 
マーカ構造およびマーカ構造を形成する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2013/03/13 不服
2012 -15878 
基板を基板テーブル上にロードする方法、デバイス製造方法、コンピュータプログラム、データキャリア、および装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/12/27 不服
2012 -4137 
パターン描画装置およびパターン描画方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2008 -32683 
デュアルレチクルイメージを露光する方法および装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  

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