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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2014/03/31 不服
2013 -54 
マスク露光により三次元物体を作製する装置及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エンビジョンテク・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング   原文 保存
該当なし  
2013/10/07 不服
2012 -23770 
階調マスクの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/07/22 不服
2012 -5097 
リソグラフィ装置及びその汚染防止又は減少方法 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2013/06/05 不服
2012 -19832 
ペリクル膜の製造方法および装置 本件審判の請求は、成り立たない。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/04/03 不服
2012 -19382 
半導体リソグラフィー用ペリクルおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/03/04 不服
2012 -9055 
版の画像付けをする方法 本件審判の請求は、成り立たない。 宮崎 昭夫 その他   ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
2013/01/23 不服
2011 -26550 
液浸フォトリソグラフィシステム 本件審判の請求は、成り立たない。 大塚 文昭 その他   エドワーズ リミテッド   原文 保存
該当なし  
2012/12/27 不服
2012 -3914 
露光装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立ハイテクノロジーズ   原文 保存
該当なし  
2012/11/07 不服
2012 -4378 
フォトレジスト供給装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱化学エンジニアリング株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/10/29 不服
2011 -12099 
フォトマスク及びフォトマスクを備えた露光装置 本件審判の請求は、成り立たない。 長澤 俊一郎   独立行政法人科学技術振興機構 ウシオ電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/09/06 不服
2011 -25354 
露光装置 本件審判の請求は、成り立たない。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/09/06 不服
2011 -26030 
フォトレジストの剥離及び清浄方法 本件審判の請求は、成り立たない。 中川 邦雄   凸版印刷株式会社 瀬戸技研工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/09/04 不服
2011 -17007 
電子ビーム描画装置のショット量補正方法及び電子ビーム描画装置 本件審判の請求は、成り立たない。   日本電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/07/25 不服
2011 -17949 
識別情報記録方法およびフォトマスクセット 本件審判の請求は、成り立たない。 喜多 修市   日立金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/07/02 不服
2011 -5384 
多層フォトレジストのドライ現像のための方法及び装置 本件審判の請求は、成り立たない。 中村 誠 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/06/04 不服
2011 -7286 
露光線量決定方法及び露光装置 本件審判の請求は、成り立たない。   アドバンスド マスク テクノロジー センター ゲーエムベーハー ウント ツェーオー カーゲー   原文 保存
該当なし  
2012/04/04 不服
2011 -5692 
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/03/05 不服
2011 -3191 
露光装置及び露光方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西 和哉 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/01/26 不服
2011 -22145 
パターン形成装置および位置決め装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   松下 智雄   原文 保存
該当なし  
2011/11/14 不服
2010 -13758 
フォトマスクの製造方法およびフォトマスク描画システム 本件審判の請求は、成り立たない。 深見 久郎 その他   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
 引用発明の認定  
2011/10/24 不服
2010 -18033 
レジスト除去装置及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/08/01 不服
2010 -12715 
描画装置及び描画方法 本件審判の請求は、成り立たない。 松山 允之 その他   株式会社ニューフレアテクノロジー   原文 保存
該当なし  
2011/07/12 不服
2010 -8107 
マスクブランクスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 福田 修一   HOYA株式会社   原文 保存
 引用発明の認定  
2010/12/07 不服
2009 -8805 
フォトマスクブランク用基板の選定方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 石川 武史 その他   株式会社ニコン 信越化学工業株式会社 株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2010/09/30 不服
2008 -29957 
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2009/12/01 不服
2007 -29406 
検出組立体および該検出組立体を備えたリソグラフィ投影装置 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  

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