会員機能
ポートフォリオ
新着公開ポートフォリオ
人気公開ポートフォリオ
新着審決速報メルマガ受信
新着審決速報メルマガ解除
ログイン
会員登録はこちら
ランキング
請求人別審判件数
判例データベース
特許判例
実用新案判例
商標判例
意匠判例
著作権判例
不正競争防止法判例
審決データベース
特許審決
実用新案審決
商標審決
意匠審決
審決検索結果一覧を表示しています。
1
2
3
4
5
6
次の30件
現在の検索キーワード:
桑原 清
162
件のヒット
ポートフォリオ機能
絞り込み検索機能
チェックした審決を…
ポートフォリオ名を入力して新規に保存 →
既存のポートフォリオを選択して保存 →
既存のポートフォリオから選択して下さい
絞り込み検索ワード:
or
or
→
審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2021/07/07
不服
2020 -7460
結晶性積層構造体およびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社FLOSFIA
原文
保存
該当なし
2021/05/26
不服
2020 -14258
イオン注入システム中のイオン源の寿命および性能を向上させる方法および装置
本件審判の請求は,成り立たない。
インテグリス・インコーポレーテッド
原文
保存
該当なし
2021/03/30
不服
2019 -17690
複数の構造体を製造するための方法
本件審判の請求は、成り立たない。
ソイテック
原文
保存
該当なし
2021/01/27
不服
2020 -8699
炭化珪素半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
酒井 昭徳
国立大学法人大阪大学 富士電機株式会社
原文
保存
該当なし
2020/11/16
不服
2019 -5678
ウェットエッチングプロセスを実行するためのシステムおよび方法
本件審判の請求は、成り立たない。
小田 直 その他
ビーコ プリジション サーフェイス プロセシング エルエルシー
原文
保存
該当なし
2020/06/24
不服
2019 -2768
基板上の三次元構造の層のNH3含有プラズマ窒化
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2019/06/06
不服
2018 -6183
半導体処理チャンバーのための銀リフレクタ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2019/05/08
不服
2018 -1774
半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
杉村 憲司
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2019/03/20
不服
2017 -17500
炭化珪素半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
特許業務法人深見特許事務所
住友電気工業株式会社 ルネサスエレクトロニクス株式会社
原文
保存
該当なし
2019/03/11
不服
2018 -71
エピタキシャルウェーハの製造方法及び貼り合わせウェーハの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
福井 敏夫 その他
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2018/03/29
不服
2017 -5876
エピタキシャルシリコンウェーハ
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2018/03/19
不服
2017 -9976
高圧急速熱処理のための装置および方法
本件審判の請求は、成り立たない。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2018/01/29
不服
2016 -19673
シリコンまたは類似の基板上に窒化ガリウムの厚いエピタキシャル層を形成するための方法、およびこの方法を使用して得られる層
本件審判の請求は、成り立たない。
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
ソイテック サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ スィヤンティフィック(セーエヌエルエス)
原文
保存
該当なし
2017/12/26
不服
2017 -6364
半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
福井 敏夫 その他
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2017/12/26
不服
2017 -6363
エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法、エピタキシャルシリコンウェーハ、および固体撮像素子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
杉村 憲司 その他
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2017/12/06
不服
2017 -6362
半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
杉村 憲司 その他
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2017/12/06
不服
2017 -2962
半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
杉村 憲司
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2017/11/13
不服
2017 -8491
電子デバイス用エピタキシャル基板の製造方法、並びに電子デバイスの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
好宮 幹夫 その他
信越半導体株式会社 サンケン電気株式会社
原文
保存
該当なし
2017/08/22
不服
2014 -22221
照射パルス熱処理方法および装置
本件審判の請求は、成り立たない。
マトソン テクノロジー、インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2017/06/12
不服
2016 -15432
不純物拡散層形成組成物、不純物拡散層の製造方法、太陽電池素子の製造方法、及び太陽電池
本件審判の請求は,成り立たない。
日立化成株式会社
原文
保存
該当なし
2017/05/29
不服
2016 -10872
多結晶シリコン製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
上海和輝光電有限公司
原文
保存
該当なし
2017/05/09
不服
2016 -9751
半導体素子及びその製造方法、並びに結晶積層構造体
本件審判の請求は、成り立たない。
岩永 勇二 その他
株式会社タムラ製作所 国立研究開発法人情報通信研究機構
原文
保存
該当なし
2016/11/28
不服
2015 -8395
非平面な基板表面を有する基板を処理する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2016/10/17
不服
2015 -12631
LED基板処理
本件審判の請求は、成り立たない。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2016/06/06
不服
2014 -25341
バッチ式熱処理装置及び該装置に適用されるヒータ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
勝見 陽介 その他
株式会社テラセミコン
原文
保存
該当なし
2016/04/06
不服
2014 -16708
工作物の熱誘起運動を抑制する機器及び装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
マトソン テクノロジー、インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2016/03/28
不服
2014 -16120
高抵抗シリコンウェーハの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
五十嵐 光永 その他
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2016/03/28
不服
2014 -16121
高抵抗シリコンウェーハの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
寺本 光生 その他
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2016/03/28
異議
2015 -700304
不純物のゲッタリングプロセスで絶縁層付きの半導体基板を製造する方法
特許第5752264号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。
皆川 祐一 その他
原文
保存
該当なし
2016/02/23
不服
2014 -22645
シリコンウェーハの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
1
2
3
4
5
6
次の30件