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現在の検索キーワード: 溝本 安展

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2018/06/11 不服
2017 -4199 
半導体ウエハと半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通セミコンダクター株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/02/19 不服
2016 -17968 
プラズマチャンバーにおいて半導体ワークピースを取り巻く導電性カラー 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 上杉 浩 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/12/26 不服
2016 -7706 
静電チャック及び半導体・液晶製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   新光電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/10/16 不服
2017 -3234 
炭化珪素半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 酒井 昭徳   富士電機株式会社 国立研究開発法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2017/08/07 不服
2016 -11938 
基板温度制御方法及びプラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/06/22 不服
2016 -6448 
GaNベース半導体結晶成長用多結晶窒化アルミニウム基材およびそれを用いたGaNベース半導体の製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 朝倉 悟 その他   株式会社東芝 東芝マテリアル株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/06/19 不服
2016 -13131 
エピタキシャルウェーハの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 好宮 幹夫   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/05/09 不服
2016 -4207 
エッチングマスク付基材の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社シンク・ラボラトリー   原文 保存
該当なし  
2017/05/09 不服
2016 -13665 
高度なパターン形成に必要な小型フィーチャのパターン形成プロセス 本件審判の請求は,成り立たない。 伊東 秀明 その他   ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー.   原文 保存
該当なし  
2017/03/29 不服
2016 -4889 
シリコン凹部低減のためのエッチングプロセス 本件審判の請求は、成り立たない。 伊東 忠彦 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/03/13 不服
2016 -8989 
基板洗浄装置 本件審判の請求は、成り立たない。 宮本 龍 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/07 不服
2015 -19264 
摺動固定ガス配送システム 本件審判の請求は、成り立たない。 竹内 茂雄 その他   パーカー・ハニフィン・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2016/12/05 異議
2015 -700266 
有機誘電体を有する有機電界効果トランジスタ 特許第5727293号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された特許…… 特許業務法人 津国 その他     原文 保存
該当なし  
2016/12/05 異議
2015 -700267 
有機誘電体を有する有機電界効果トランジスタ 特許第5727294号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された特許…… 野矢 宏彰 その他     原文 保存
該当なし  
2016/09/13 不服
2015 -1678 
半導体ドライプロセス後の残渣除去液及びそれを用いた残渣除去方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ダイキン工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/08/15 不服
2014 -24806 
半導体パッケージ構造の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   聯測科技股▼分▲有限公司   原文 保存
該当なし  
2016/07/19 不服
2014 -26308 
半導体装置とその製造方法、及び電子機器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/07/05 不服
2014 -24909 
高速スピン移動トルク書き込み手順を備えた磁気素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 江崎 光史 その他   クロッカス・テクノロジー・ソシエテ・アノニム   原文 保存
該当なし  
2016/06/06 不服
2014 -25341 
バッチ式熱処理装置及び該装置に適用されるヒータ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人 大島特許事務所 その他   株式会社テラセミコン   原文 保存
該当なし  
2016/06/01 不服
2014 -22123 
制御された量子ドット成長 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 土屋 徹雄 その他   エンパイア テクノロジー ディベロップメント エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2016/05/23 不服
2014 -20663 
半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 川崎 実夫 その他   ローム株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/04/21 不服
2015 -1507 
酸素含有半導体ウェハの処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。   インフィネオン テクノロジーズ オーストリア アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -18317 
同一の能動領域内に形成されるトランジスタにおいて能動領域内に局所的に埋め込み歪誘起半導体材質を設けることによる駆動電流調節 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 佐野 良太 その他   アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/02/23 不服
2014 -21225 
短絡チャネルを有する炭化ケイ素パワー金属酸化物半導体電界効果トランジスタおよび短絡チャネルを有する炭化ケイ素金属酸化物半導体電界効果トランジスタの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/01/15 不服
2015 -506 
基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/12/08 不服
2014 -22590 
半導体装置及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/11/27 不服
2014 -21676 
画素センサ・セル及びこれの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2014/02/27 不服
2013 -8593 
データ送受信方法、データ送受信システム、マスタ装置、及びスレーブ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 村上 啓吾 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/01/21 不服
2013 -12354 
バッテリーセルの高温スウェリングを防止できるバッテリーパック及びその方法 本件審判の請求は,成り立たない。 渡邊 隆   三星エスディアイ株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/11/25 不服
2013 -10268 
気密モジュール、及び該気密モジュールの排気方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  

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