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現在の検索キーワード: 今井 彰

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/09/17 不服
2020 -16943 
エンボスラッカー、及び、エンボス加工方法、及び、エンボスラッカーでコーティングされた基板表面 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 実広 信哉 その他   ヨアネウム・リサーチ・フォーシュングスゲゼルシャフト・エムベーハー   原文 保存
該当なし  
2021/08/20 不服
2020 -15717 
区分的位置合わせモデリング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2021/08/20 不服
2020 -14571 
基板上構造体の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 永岡 重幸   ウシオ電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/07/30 不服
2021 -163 
パターン形成方法、凹凸構造体の製造方法及びレプリカモールドの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 太田 昌孝   国立大学法人東北大学 大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/07/19 不服
2020 -14630 
マルチ荷電粒子ビーム描画装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ニューフレアテクノロジー   原文 保存
該当なし  
2021/06/30 異議
2021 -700006 
現像液の成分濃度測定方法及び装置、並びに、現像液管理方法及び装置 特許第6721157号の請求項1ないし10に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  
2021/06/03 不服
2020 -9134 
露光装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社アドテックエンジニアリング   原文 保存
該当なし  
2021/05/07 不服
2020 -13508 
溶媒含有コーティングでコーティングされたウエハのためのベーキングデバイス 令和2年9月28日になされた手続補正を却下する。 原査定を取り消…… 山田 卓二 その他   ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング   原文 保存
該当なし  
2021/04/19 不服
2020 -10810 
HHG源、検査装置、および測定を実施する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2021/03/25 不服
2020 -13423 
マルチ荷電粒子ビーム描画装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ニューフレアテクノロジー   原文 保存
該当なし  
2021/03/12 不服
2020 -8215 
ペリクル 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史 その他   旭化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/02/12 不服
2019 -16706 
露光装置及び物品の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/01/22 不服
2020 -7693 
ウエハレベル欠陥の転写性を予測する装置および方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ケーエルエー コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2020/12/07 不服
2019 -11960 
光源装置及び該光源装置を備えたプロジェクタ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 膝舘 祥治 その他   日亜化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/11/04 不服
2020 -3350 
液体フレキソ印刷版を作製する方法及び装置 本件審判の請求は、成り立たない。 流 良広 その他   マクダーミッド グラフィックス ソリューションズ エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2020/10/13 不服
2019 -15417 
リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森下 賢樹   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2020/09/09 不服
2019 -13874 
露光装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 江口 昭彦 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2020/08/19 不服
2019 -11962 
フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/08/05 不服
2019 -2127 
UV放射源のための熱-光分離 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿部 達彦 その他   エーリコン・サーフェス・ソリューションズ・アーゲー・プフェフィコン   原文 保存
該当なし  
2020/07/30 異議
2020 -700243 
フィルム状微細構造転写装置及びフィルム状微細構造体の製造方法 特許第6591161号の請求項1ないし8に係る特許を維持する。 青木 宏義 その他     原文 保存
該当なし  
2020/07/22 不服
2019 -6706 
リソグラフィ及び他の用途における極端紫外線放射で使用する材料、成分及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。 関根 宣夫 その他   ジャイスワル スプリヤ   原文 保存
該当なし  
2020/07/15 不服
2019 -16515 
リソグラフィ装置および方法 本件審判の請求は、成り立たない。 江口 昭彦 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2020/06/24 不服
2018 -14789 
インプリント方法およびインプリント用硬化性組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2019 -12880 
ツール及びプロセスの効果を分離する基板マトリクス 本件審判の請求は、成り立たない。   ケーエルエー-テンカー・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2020/03/10 不服
2019 -1564 
データ処理装置を用いたリソグラフィ装置 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2020/03/05 不服
2019 -6100 
光学システムおよび光学システムを有する装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社nittoh   原文 保存
該当なし  
2020/02/26 不服
2019 -1120 
ウェーハベースの光源パラメータ制御 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史 その他   サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー   原文 保存
該当なし  
2020/01/27 不服
2018 -2970 
光学投影を使用する基板チューニングシステム及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 進介 その他   トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド 東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/01/06 不服
2018 -2351 
確率的方法により露出するパターンの逆畳み込みを用いて電子近接効果を補正する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人川口國際特許事務所 その他   アセルタ ナノグラフィクス コミシリア ア レネルジ アトミック エ オ エナジーズ オルタネティヴズ   原文 保存
該当なし  
2019/12/24 不服
2019 -4913 
位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 押野 宏   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  

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