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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2013/03/29 不服
2012 -12935 
炭素系ハードマスクを開く方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小林 義教   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2013/03/27 不服
2012 -12564 
成膜装置及び成膜方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 西村 竜平   株式会社堀場製作所 学校法人同志社   原文 保存
該当なし  
2013/03/12 不服
2012 -6904 
電子デバイスの製造 本件審判の請求は、成り立たない。   ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.   原文 保存
該当なし  
2013/03/01 不服
2011 -17479 
空間温度分布の制御方法及び装置 本件審判の請求は、成り立たない。 岡本 和道 その他   ラム リサーチ コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2013/01/15 不服
2011 -21501 
酸化膜の形成方法及びその装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 鵜澤 英久 その他   株式会社明電舎   原文 保存
該当なし  
2012/12/26 不服
2011 -8299 
半導体ウェーハ処理の一部分中にパルス化プラズマを供給する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大塚 文昭 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2012/12/19 不服
2012 -11311 
成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/12/14 不服
2012 -9413 
基板処理装置及びその表示方法、データ収集方法、並びにイベント収集プログラム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福岡 昌浩 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2012/11/21 不服
2012 -6725 
半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/11/08 不服
2011 -10194 
分割された電極集合体並びにプラズマ処理方法。 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 河野 直樹 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/11/07 不服
2012 -2829 
成分送給機構、プラズマリアクタ、及び、半導体基板を処理する方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2012/11/05 不服
2011 -12255 
プラズマ処理システムにおける選択性の制御方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2012/11/05 不服
2010 -17273 
基板に構造を異方性エッチングするためのプラズマ装置及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二宮 浩康 その他   ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2012/10/30 不服
2011 -458 
ボッシュプロセスに用いる乾式エッチング装置、乾式エッチング終了点検出装置及びその電気素子の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 渡部 崇   セミシスコ・カンパニー・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2012/10/30 不服
2010 -18679 
集積回路用のシリコンリッチ低熱収支窒化ケイ素 本件審判の請求は、成り立たない。 加藤 伸晃 その他   アギア システムズ インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2012/10/15 不服
2009 -5102 
プラズマ処理チャンバにおける単周波RF電力を用いたウェハ処理システム、処理装置、および処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2012/09/10 不服
2012 -8981 
エッチングされたウエハからフォトレジストを剥離するための方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2012/09/05 不服
2011 -5330 
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/08/20 不服
2010 -20246 
基板を化学的処理する処理システムおよび方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中村 誠 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/07/31 不服
2011 -14493 
多数のワークピースを超臨界処理する方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 青木 篤 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/07/31 不服
2011 -3760 
複数の光学要素を有するパッケージ化された半導体発光デバイスを圧縮成形により形成する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 林 鉐三 その他   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2012/07/25 不服
2011 -10443 
デュアル・ダマシンプロセス用の改良された充填物質 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 渡辺 望稔 その他   ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー.   原文 保存
該当なし  
2012/07/23 不服
2011 -17444 
有機ケイ酸塩ガラスについての一酸化二窒素剥脱方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小野 新次郎 その他   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2012/07/11 不服
2010 -20021 
フィルム除去方法およびフィルム除去装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 棚井 澄雄   財団法人工業技術研究院   原文 保存
該当なし  
2012/06/27 不服
2011 -17064 
AlN半導体の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中村 智廣 その他   国立大学法人東京農工大学 日本軽金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/06/15 不服
2011 -8112 
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/05/21 不服
2010 -18216 
プラズマエッチングリアクタ用の加熱ジャケットおよび加熱ジャケットを使用するエッチング法 本件審判の請求は、成り立たない。   ティーガル コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2012/05/07 不服
2011 -3317 
環状シロキサン化合物、Si含有膜形成材料、およびその用途 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東ソー株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/05/07 不服
2010 -12869 
イオンビーム抽出装置 本件審判の請求は、成り立たない。 志賀 正武 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/04/25 不服
2011 -4641 
基体上の誘電体層とその作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 朝日 伸光 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  

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