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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2010/01/26 不服
2008 -19106 
オゾン処理方法及びオゾン処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友精密工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/01/18 不服
2008 -2893 
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/12/14 不服
2007 -19432 
絶縁性材料および絶縁膜形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/12/11 不服
2007 -28412 
ドライエッチング装置 本件審判の請求は、成り立たない。   OKIセミコンダクタ株式会社 OKIセミコンダクタ宮崎株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/12/08 不服
2007 -19885 
エマージングフィルムのためのプラズマエッチングリアクタ及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。 中村 稔 その他   ティーガル コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2009/11/25 不服
2007 -21497 
加熱装置およびそれを搭載したウェハプローバ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二島 英明 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/11/16 不服
2007 -7829 
3つの独立制御電極を具備したエッチングチャンバ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 久野 琢也 その他   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
2009/10/15 不服
2008 -21016 
平行平板電極を通じて電力を供給する誘電アンテナを有するプラズマ反応装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2009/09/14 不服
2007 -31667 
プラズマ処理装置に用いられる排気リング機構及びプラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/08/24 不服
2007 -27379 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 碓氷 裕彦 その他   株式会社デンソー   原文 保存
該当なし  
2009/08/24 不服
2007 -7212 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/08/11 不服
2007 -12902 
誘電層を形成する方法及び関連するデバイス 本件審判の請求は、成り立たない。   インテル コーポレイション   原文 保存
 進歩性(29条2項)  明確性  実施可能要件  
2009/08/04 不服
2007 -16718 
半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   セイコーインスツル株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/29 不服
2007 -24457 
半導体集積回路装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2009/06/24 不服
2007 -4418 
半導体装置のビットライン形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 掛樋 悠路 その他   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
該当なし  
2009/06/08 不服
2007 -8286 
放熱性に優れた半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   古河電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/05/13 不服
2007 -4195 
反応性イオンエッチング方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森田 哲二 その他   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  
2009/04/17 不服
2006 -28499 
マイクロ波放電装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 玉真 正美 その他   芝浦メカトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/03/24 不服
2007 -2113 
プラズマ処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 内藤 浩樹 その他   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/02/27 不服
2007 -988 
レーザエッチング装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱重工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/01/21 不服
2008 -14872 
窒化物系半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 酒井 將行 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/11/26 不服
2006 -21947 
半導体装置およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   NECエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/11/20 不服
2006 -25193 
半導体装置のエッチングマスク形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 志賀 正武 その他   三星電子株式会社   原文 保存
 パリ条約  
2008/09/16 不服
2006 -8134 
半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   カシオ計算機株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/09/01 不服
2006 -8098 
半導体基板表面の酸化膜形成方法および半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 長谷川 文廣   独立行政法人科学技術振興機構   原文 保存
該当なし  
2008/04/21 不服
2005 -20783 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/03/13 不服
2006 -26777 
発生させたプラズマ間の容量電流における位相部と逆位相部が平衡する誘導構造によって励起される高周波プラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
 パリ条約  
2008/01/07 不服
2006 -11680 
ドライエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 原田 智雄 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし  
2007/12/10 不服
2006 -18457 
IC用絶縁膜の作成方法 本件審判の請求は、成り立たない。   サムコ株式会社   原文 保存
該当なし  
2007/11/27 不服
2005 -23893 
低リーク電流および低分極疲労を有する電子デバイスを製造するためのUV照射プロセス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 藤田 篤史 その他   シメトリックス・コーポレーション 松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし  

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