審決検索結果一覧を表示しています。

現在の検索キーワード: 小川 将之

317 件のヒット

  • ポートフォリオ機能
  • 絞り込み検索機能

チェックした審決を…
  ポートフォリオ名を入力して新規に保存 → 

 既存のポートフォリオを選択して保存 → 
絞り込み検索ワード: or or  → 
審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2020/11/11 不服
2020 -5281 
基板処理装置及び基板移送方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 伊東 忠重   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/11/10 不服
2020 -3232 
プラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/11/10 不服
2019 -15788 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2020/10/26 不服
2019 -15070 
バッチパッケージング低ピンカウント埋め込み半導体チップの構造及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   日本テキサス・インスツルメンツ合同会社 テキサス インスツルメンツ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/10/21 不服
2019 -4176 
半導体デバイスおよび製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 田中 拓人 その他   ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ   原文 保存
該当なし  
2020/10/19 不服
2019 -7681 
研磨用濡れ剤及び研磨液組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人快友国際特許事務所   東亞合成株式会社 株式会社フジミインコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2020/10/15 不服
2019 -14632 
ガラス基板の検査装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   東朋テクノロジー株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/10/07 不服
2020 -724 
3Dフラッシュメモリ応用のための誘電体金属スタック 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/10/05 異議
2020 -700461 
半導体製造用部品、複合体コーティング層を含む半導体製造用部品及びその製造方法 特許第6630025号の請求項1ないし15に係る特許を維持する。 田中 伸次 その他     原文 保存
該当なし  
2020/09/30 不服
2020 -336 
ファセット付き内面を有する保持リング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/09/30 不服
2019 -14236 
熱電式ボタンを備えた時計 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 山川 政樹 その他   ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2020/09/30 不服
2019 -5859 
クロスポイントメモリと、その製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 天田 昌行 その他   マイクロン テクノロジー,インク.   原文 保存
該当なし  
2020/09/23 不服
2020 -1006 
低K及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/09/23 不服
2019 -5632 
ウェハ構造体の形成方法、半導体デバイスの形成方法およびウェハ構造体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二宮 浩康 その他   インフィニオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2020/09/14 不服
2020 -1143 
結晶性半導体膜および板状体ならびに半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社FLOSFIA   原文 保存
該当なし  
2020/09/14 不服
2019 -9379 
二重並列チャネル構造を持つ半導体素子及びその半導体素子の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 木内 敬二 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/09/10 不服
2019 -4878 
下部固定SOT-MRAMビット構造及び製造の方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エイチジーエスティーネザーランドビーブイ   原文 保存
該当なし  
2020/08/12 不服
2019 -16642 
研磨方法及び不純物除去用組成物並びに基板及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 森 哲也 その他   株式会社フジミインコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2020/08/12 不服
2019 -14704 
基板処理装置および半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社KOKUSAI ELECTRIC   原文 保存
該当なし  
2020/08/03 不服
2019 -8671 
半導体装置および電力変換装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 有田 貴弘   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/08/03 不服
2019 -14883 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2020/07/08 不服
2019 -7378 
接続体、及び接続体の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   デクセリアルズ株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/07/08 不服
2019 -13126 
半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 高橋 英樹 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/07/02 不服
2019 -8115 
マイクロ発光ダイオードの転写方法、製造方法、マイクロ発光ダイオード装置、及び電子機器 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 加藤 和詳   ゴルテック.インク   原文 保存
該当なし  
2020/06/24 不服
2019 -2768 
基板上の三次元構造の層のNH3含有プラズマ窒化 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/06/24 不服
2018 -16020 
銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 胡田 尚則 その他   キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2020/06/17 不服
2019 -12831 
光電変換装置、撮像システムおよび光電変換装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2019 -9337 
半導体膜、及びそれを用いた半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 天田 昌行 その他   旭化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2018 -14186 
スタック型3Dメモリ、およびメモリ製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   旺宏電子股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2019 -10524 
半導体素子の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森田 拓 その他   インフィネオン テクノロジーズ オーストリア アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ