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現在の検索キーワード: 松岡 智也

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2017/08/16 不服
2016 -3630 
極紫外線マスクブランクの欠陥検出のための検査システム及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ケーエルエー-テンカー・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2017/07/19 不服
2016 -408 
コンフォーマルな素子を製造する方法、コンフォーマルな素子及びその使用 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 正林 真之   カナトゥ オイ   原文 保存
該当なし  
2017/07/14 不服
2016 -6376 
基板テーブルシステム、リソグラフィ装置および基板テーブル交換方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2017/06/01 異議
2016 -700536 
インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン 特許第5829177号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 特許業務法人特許事務所サイクス     原文 保存
該当なし  
2017/03/22 不服
2016 -4807 
ホイルトラップおよびこのホイルトラップを有する光源装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ウシオ電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/23 異議
2016 -700215 
ペリクル 特許第5785489号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 沖田 英樹 その他     原文 保存
該当なし  
2017/02/14 不服
2015 -8532 
ステレオリソグラフィ装置用の照射システム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ネーデルランデ オルガニサチエ ヴォール トエゲパスト-ナツールウェテンスハペリエク オンデルゾエク ティーエヌオー   原文 保存
該当なし  
2016/12/06 不服
2015 -14039 
ナノ構造の変形、破壊、および変換に基づくモニタリング装置およびモニタリング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ジェイピー ラボラトリーズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/09/26 不服
2015 -1888 
処理システム 本件審判の請求は、成り立たない。 青木 篤 その他   クレオ ハルブライターテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2016/09/14 不服
2015 -21481 
電子部品の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社村田製作所   原文 保存
該当なし  
2016/09/13 不服
2015 -913 
確率的影響を低減するための照明源マスクの最適化 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2016/09/01 不服
2015 -17258 
表示装置製造用フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 奥山 知洋 その他   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/06/24 不服
2015 -8560 
露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2016/06/13 不服
2015 -7068 
基板処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ   原文 保存
該当なし  
2016/06/13 不服
2014 -22227 
描画方法 本件審判の請求は、成り立たない。   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/06/07 不服
2015 -18431 
露光方法及びデバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2016/06/07 不服
2015 -18432 
露光装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2016/06/06 不服
2014 -20043 
基板加工およびアライメント 本件審判の請求は、成り立たない。   タールナー エリッヒ   原文 保存
該当なし  
2016/06/01 不服
2014 -25709 
単一のプロセスウィンドウモデルを生成するためのシステム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2016/05/24 異議
2015 -700190 
ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法 特許第5721164号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 棚井 澄雄 その他     原文 保存
該当なし  
2016/02/22 不服
2014 -8881 
表示装置用フェースプレートの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 木村 満   日本電気株式会社 国立大学法人 香川大学   原文 保存
該当なし  
2016/02/22 不服
2015 -7793 
投写型映像表示装置 本件審判の請求は、成り立たない。   日立マクセル株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/02/16 不服
2014 -19745 
近接場露光方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 佐藤 泰和 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2016/01/20 異議
2015 -700182 
基板処理方法および基板処理装置 特許第5715981号の請求項1ないし5に係る特許を維持する。 森 秀行 その他     原文 保存
該当なし  
2016/01/15 異議
2015 -700130 
液処理方法、液処理装置および記憶媒体 特許第5710738号の請求項に係る特許を維持する。 宮嶋 学 その他     原文 保存
該当なし  
2016/01/05 不服
2014 -12588 
熱処理方法および熱処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉竹 英俊   株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ   原文 保存
該当なし  
2016/01/05 不服
2015 -4566 
インプリント用硬化性組成物およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   富士フイルム株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/12/21 不服
2014 -20449 
メトロロジ方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィプロセシングセル、およびメトロロジターゲットを備える基板 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2015/11/24 不服
2014 -17272 
リソグラフ方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西山 清春   エルエスアイ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2015/06/01 不服
2014 -7335 
ディスプレイ用ガラス基板 本件審判の請求は、成り立たない。 伊東 忠重   旭硝子株式会社   原文 保存
該当なし  

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