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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
1999/12/06 審判
1998 -13816 
積層型変位素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   日立金属株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/12/03 審判
1999 -2062 
透明保護膜付ガラスおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   触媒化成工業株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/12/03 審判
1998 -388 
プラズマ反応装置及び薄膜形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 塩田 辰也 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
1999/12/02 異議
1999 -71211 
高強度および高靭性を有する酸化アルミニウム基セラミック製切削工具 特許第2805957号の特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  
1999/12/01 異議
1999 -72007 
被復TiCN基サーメット 特許第2828512号の特許を維持する。 鴨井 久太郎     原文 保存
該当なし  
1999/12/01 審判
1996 -20372 
半導体からなる部品 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
1999/12/01 異議
1999 -72006 
表面被復TiCN基サーメット 特許第2828511号の特許を維持する。 鴨井 久太郎     原文 保存
該当なし  
1999/11/29 審判
1996 -21486 
砂粒状物を固着した窯素系化粧板及びその化粧方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   壽工業株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/29 審判
1999 -2531 
水素同位体分離方法及びそのための熱拡散塔 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   住友重機械工業株式会社 山本 一良 金川 昭   原文 保存
該当なし  
1999/11/26 審判
1998 -10206 
半導体集積体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。 大久保 操 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/25 審判
1999 -3762 
拡散および/または濾過装置の円筒形の主部分によりなるハウジングおよびその装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。 森 徹 その他   ガンブロ デイアリザトーレン コマンデイツト ゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
1999/11/24 審判
1999 -7321 
合成樹脂製容器のリサイクル方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   加茂 守   原文 保存
該当なし  
1999/11/24 審判
1998 -1491 
薄膜半導体素子の製造方法およびその装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
1999/11/24 審判
1998 -10269 
薄膜素子及びその形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし  
1999/11/22 審判
1997 -14126 
酸化膜耐圧特性の優れたシリコン単結晶ウェハ及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   ニッテツ電子株式会社 新日本製鐵株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/22 審判
1998 -17625 
三弗化窒素ガスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   三井化学株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/22 異議
1999 -73211 
石英ガラス光学部材の製造方法 特許第2861512号の請求項1ないし6に係る特許を維持する。 鈴木 憲七 その他     原文 保存
該当なし  
1999/11/22 異議
1997 -72997 
現場打ち用の高充填性フレッシュコンクリート 訂正を認める。 特許第2567322号の請求項1ないし2に係る特許を維…… 和田 憲治 その他     原文 保存
 新規事項の追加  29条の2(拡大された先願の地位)  
1999/11/22 審判
1999 -3044 
真空シールロール装置 本件審判の請求は、成り立たない。 鈴江 武彦 その他   三菱重工業株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/19 異議
1998 -75636 
薄片状活性アルミナ担体、その製造方法及びそれを用いた複合顔料 訂正を認める。 本件特許異議の申立てを却下する。 的場 ひろみ その他     原文 保存
該当なし  
1999/11/18 審判
1998 -10986 
誘電体分離型半導体基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
1999/11/18 審判
1999 -2057 
高機能薄膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。 安富 耕二   三洋電機株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/18 異議
1998 -71495 
軽量モルタル、及び軽量モルタルパネル等の軽量モルタル構造体、建築物の躯体等の表面に形成する軽量モルタル層、並びに建築物の躯体等の表面に軽量モルタル層を形成する方法 特許第2657890号の請求項1ないし4に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  
1999/11/18 異議
1999 -71693 
化合物半導体混晶多層膜の成長方法 特許第2818852号の請求項1ないし3に係る特許を取り消す。 小池 隆彌     原文 保存
該当なし  
1999/11/17 異議
1998 -73897 
セメント硬化遅延剤およびセメント硬化遅延シ-ト 特許第2716689号の請求項1、13、24に係る特許を維持する。     原文 保存
 国内優先権  
1999/11/15 審判
1998 -35495 
接触濾材 本件審判の請求は、成り立たない。 審判費用は、請求人の負担…… 奥田 規之 その他   泰榮商工株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/15 審判
1998 -35495 
接触濾材 本件審判の請求は、成り立たない。 審判費用は、請求人の負担…… 奥田 弘之 その他   泰榮商工株式会社   原文 保存
該当なし  
1999/11/15 異議
1998 -71295 
錫またははんだめっき浴 訂正を認める。 特許第2654293号の請求項1に係る特許を維持する。 小越 勇     原文 保存
該当なし  
1999/11/12 異議
1998 -72526 
多成分溶剤クリーニング系 訂正を認める。 特許第2680930号の請求項1ないし10に係る特許を維…… 社本 一夫 その他     原文 保存
該当なし  
1999/11/11 異議
1998 -73815 
磁気特性が極めて優れた無方向性電磁鋼板及びその製造方法 訂正を認める。 本件特許異議の申立てを却下する。 田村 弘明 その他     原文 保存
 国内優先権  

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