審決検索結果一覧を表示しています。

現在の検索キーワード: 綿引 隆

252 件のヒット

  • ポートフォリオ機能
  • 絞り込み検索機能

チェックした審決を…
  ポートフォリオ名を入力して新規に保存 → 

 既存のポートフォリオを選択して保存 → 
絞り込み検索ワード: or or  → 
審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/10/04 不服
2020 -14676 
半導体素子及びそれを用いた電気機器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   出光興産株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/08/23 不服
2020 -14168 
ハライドシラン化合物及び組成物並びにそれを使用してケイ素含有膜を堆積するためのプロセス 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 胡田 尚則 その他   バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー   原文 保存
該当なし  
2021/06/30 不服
2021 -710 
半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/06/23 不服
2020 -16349 
半導体装置および半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ローム株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/06/23 不服
2020 -8746 
炭化珪素半導体装置およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人ゆうあい特許事務所   株式会社豊田中央研究所 株式会社デンソー   原文 保存
該当なし  
2021/06/16 不服
2019 -17732 
表示装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ジャパンディスプレイ   原文 保存
該当なし  
2021/06/09 不服
2020 -5236 
密封されたチャンバを形成するためのシステムおよび方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 近藤 直樹 その他   アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド   原文 保存
該当なし  
2021/06/09 不服
2020 -2464 
PECVD微結晶シリコンゲルマニウム(SiGe) 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上杉 浩 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2021/04/28 不服
2019 -8580 
半導体デバイス、シリコンウェハ、及びシリコンウェハの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   インフィネオン テクノロジーズ アーゲー   原文 保存
該当なし  
2021/04/26 不服
2020 -11958 
化合物半導体装置及びその製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/04/26 不服
2020 -4146 
レーザー処理及び温度誘導ストレスを用いた複合ウェハー製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 上島 類 その他   ジルテクトラ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2021/04/21 不服
2020 -10347 
最小限のクロストークで熱的に分離されたゾーンを有する静電チャック 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2021/04/21 不服
2020 -12196 
半導体装置および半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/04/14 不服
2020 -3637 
半導体デバイス構造およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中村 行孝 その他   スウェガン、アクチボラグ   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2020 -7286 
電気流路、該電気流路を含む電子デバイス及び導電体、並びに該導電体を含む回路 本件審判の請求は、成り立たない。   アバブ ハイツ(ピーティーワイ.)リミテッド   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2019 -17690 
複数の構造体を製造するための方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ソイテック   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2020 -5770 
室温金属直接ボンディング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 飯野 茂 その他   インベンサス・ボンディング・テクノロジーズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2020 -11790 
半導体装置およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/03/24 不服
2020 -13678 
堆積チャンバでエピタキシャル層を有する半導体ウエハを製造する方法、エピタキシャル層を有する半導体ウエハを製造する装置、およびエピタキシャル層を有する半導体ウエハ 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2021/02/24 不服
2020 -9660 
焼結性接合材料およびそれを用いた半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森住 憲一 その他   ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン   原文 保存
該当なし  
2021/01/27 不服
2020 -3739 
導電パターン形成方法、半導体装置、及び電子機器 本件審判の請求は、成り立たない。   イー インク コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2021/01/27 不服
2019 -8099 
ケイ素含有膜の高温原子層堆積 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 南山 知広 その他   バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー   原文 保存
該当なし  
2021/01/20 不服
2019 -16959 
結晶性酸化物半導体膜、半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社FLOSFIA   原文 保存
該当なし  
2020/11/18 不服
2019 -3403 
基板へのシリコン注入およびそのためのシリコン前駆体組成物の提供 本件審判の請求は、成り立たない。   インテグリス・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2020/10/28 不服
2019 -15246 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 高橋 英樹 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/10/19 不服
2020 -251 
メモリ構造及びメモリ構造の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 杉村 憲司   華邦電子股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2020/10/19 不服
2019 -5542 
太陽電池及び半導体製造用の噴射可能なインク 本件審判の請求は、成り立たない。 松田 奈緒子 その他   アルファ・アセンブリー・ソリューションズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/09/30 不服
2019 -9701 
基板処理のためのシステム、基板処理のためのシステム用の真空回転モジュール、及び基板処理システムを操作する方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/09/23 不服
2019 -5632 
ウェハ構造体の形成方法、半導体デバイスの形成方法およびウェハ構造体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 前川 純一 その他   インフィニオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2020/09/14 不服
2019 -17034 
結晶性酸化物半導体膜、半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社FLOSFIA   原文 保存
該当なし  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ