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現在の検索キーワード: 三好 祥二

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/09/30 不服
2020 -16307 
測量システム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社トプコン   原文 保存
該当なし  
2019/11/18 不服
2017 -17848 
切削加工方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社IHI   原文 保存
該当なし  
2016/02/29 不服
2015 -7620 
測定装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社トプコン   原文 保存
該当なし  
2014/07/28 不服
2013 -16185 
遠隔操縦装置 本件審判の請求は、成り立たない。 三好 祥二   株式会社IHIエアロスペース 株式会社IHI   原文 保存
該当なし  
2013/07/16 不服
2013 -7766 
半導体装置の製造方法及び基板処理装置及び基板処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2012/03/26 不服
2010 -7677 
測量装置 本件審判の請求は,成り立たない。   株式会社トプコン   原文 保存
該当なし  
2011/04/27 不服
2009 -14333 
過給機の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社IHI   原文 保存
該当なし  
2010/01/26 不服
2008 -11418 
半導体製造装置及び半導体製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2009/07/09 不服
2007 -13623 
光束位置検出装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社トプコン   原文 保存
該当なし  
2009/06/26 不服
2006 -5616 
半導体製造装置及びウェーハ処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2009/05/25 不服
2006 -11930 
水素アニール処理方法及びその装置 本件審判の請求は,成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/03/09 不服
2007 -10495 
作業位置測定装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社トプコン   原文 保存
該当なし  
2007/09/10 不服
2006 -14252 
縦型拡散・CVD装置及び半導体デバイスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2006/08/16 不服
2004 -23069 
半導体製造装置のウェーハ処理方法及び半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2005/08/29 異議
2003 -72353 
半導体製造装置 訂正を認める。 特許第3388810号の請求項1ないし2に係る特許を維…… 三好 祥二     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  新規事項の追加  
2005/05/31 異議
2003 -71317 
半導体製造装置 訂正を認める。 特許第3347183号の請求項1、3に係る特許を維持す…… 三好 祥二     原文 保存
該当なし  
2005/04/26 不服
2002 -12218 
プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2005/03/24 不服
2003 -10032 
半導体製造装置及び半導体製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2004/11/01 不服
2001 -10957 
携帯用小型電子機器 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2004/09/16 異議
2003 -70193 
半導体製造装置 訂正を認める。 特許第3305818号の請求項1ないし4に係る特許を取…… 三好 祥二     原文 保存
該当なし  
2004/09/09 異議
2003 -71429 
半導体製造方法 訂正を認める。 特許第3388836号の請求項1に係る特許を維持する。 三好 祥二     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  新規事項の追加  
2004/06/08 異議
2003 -71275 
半導体製造装置 訂正を認める。 特許第3347794号の請求項1に係る特許を取り消す。 三好 祥二     原文 保存
該当なし  
2004/05/31 不服
2002 -2427 
縦型拡散・CVD装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2004/03/08 異議
2002 -72749 
半導体製造装置の制御方法及び半導体製造装置 特許第3282677号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2004/01/19 不服
2001 -582 
半導体製造装置 本件審判の請求は、成り立たない。 三好 祥二 その他   株式会社日立国際電気 株式会社日立超エル・エス・アイ・システムズ 株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2003/12/16 不服
2002 -13271 
半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2003/08/21 不服
2001 -18617 
半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2003/06/13 不服
2002 -16386 
半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2003/01/30 異議
2002 -71933 
縦型反応炉 特許第3253384号の請求項1ないし2に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2002/09/26 不服
2001 -6654 
半導体製造装置に於けるウェーハ移載方法及びその半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  

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