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三好 祥二
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2021/09/30
不服
2020 -16307
測量システム
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社トプコン
原文
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該当なし
2019/11/18
不服
2017 -17848
切削加工方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社IHI
原文
保存
該当なし
2016/02/29
不服
2015 -7620
測定装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社トプコン
原文
保存
該当なし
2014/07/28
不服
2013 -16185
遠隔操縦装置
本件審判の請求は、成り立たない。
三好 祥二
株式会社IHIエアロスペース 株式会社IHI
原文
保存
該当なし
2013/07/16
不服
2013 -7766
半導体装置の製造方法及び基板処理装置及び基板処理方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
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該当なし
2012/03/26
不服
2010 -7677
測量装置
本件審判の請求は,成り立たない。
株式会社トプコン
原文
保存
該当なし
2011/04/27
不服
2009 -14333
過給機の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社IHI
原文
保存
該当なし
2010/01/26
不服
2008 -11418
半導体製造装置及び半導体製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2009/07/09
不服
2007 -13623
光束位置検出装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社トプコン
原文
保存
該当なし
2009/06/26
不服
2006 -5616
半導体製造装置及びウェーハ処理方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2009/05/25
不服
2006 -11930
水素アニール処理方法及びその装置
本件審判の請求は,成り立たない。
株式会社日立国際電気
原文
保存
新規事項の追加
2009/03/09
不服
2007 -10495
作業位置測定装置
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社トプコン
原文
保存
該当なし
2007/09/10
不服
2006 -14252
縦型拡散・CVD装置及び半導体デバイスの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2006/08/16
不服
2004 -23069
半導体製造装置のウェーハ処理方法及び半導体製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2005/08/29
異議
2003 -72353
半導体製造装置
訂正を認める。 特許第3388810号の請求項1ないし2に係る特許を維……
三好 祥二
原文
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29条の2(拡大された先願の地位) 新規事項の追加
2005/05/31
異議
2003 -71317
半導体製造装置
訂正を認める。 特許第3347183号の請求項1、3に係る特許を維持す……
三好 祥二
原文
保存
該当なし
2005/04/26
不服
2002 -12218
プラズマ処理装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2005/03/24
不服
2003 -10032
半導体製造装置及び半導体製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2004/11/01
不服
2001 -10957
携帯用小型電子機器
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2004/09/16
異議
2003 -70193
半導体製造装置
訂正を認める。 特許第3305818号の請求項1ないし4に係る特許を取……
三好 祥二
原文
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該当なし
2004/09/09
異議
2003 -71429
半導体製造方法
訂正を認める。 特許第3388836号の請求項1に係る特許を維持する。
三好 祥二
原文
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29条の2(拡大された先願の地位) 新規事項の追加
2004/06/08
異議
2003 -71275
半導体製造装置
訂正を認める。 特許第3347794号の請求項1に係る特許を取り消す。
三好 祥二
原文
保存
該当なし
2004/05/31
不服
2002 -2427
縦型拡散・CVD装置
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2004/03/08
異議
2002 -72749
半導体製造装置の制御方法及び半導体製造装置
特許第3282677号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。
原文
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該当なし
2004/01/19
不服
2001 -582
半導体製造装置
本件審判の請求は、成り立たない。
三好 祥二 その他
株式会社日立国際電気 株式会社日立超エル・エス・アイ・システムズ 株式会社ルネサステクノロジ
原文
保存
該当なし
2003/12/16
不服
2002 -13271
半導体製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2003/08/21
不服
2001 -18617
半導体製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2003/06/13
不服
2002 -16386
半導体製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
保存
該当なし
2003/01/30
異議
2002 -71933
縦型反応炉
特許第3253384号の請求項1ないし2に係る特許を維持する。
原文
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該当なし
2002/09/26
不服
2001 -6654
半導体製造装置に於けるウェーハ移載方法及びその半導体製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立国際電気
原文
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該当なし
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