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審決分類 審判 査定不服 特36条4項詳細な説明の記載不備 取り消して特許、登録(定型) H05B
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) H05B
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) H05B
管理番号 1238619
審判番号 不服2008-25590  
総通号数 140 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2011-08-26 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2008-10-06 
確定日 2011-07-05 
事件の表示 特願2002-590431号「表面に金属又はシリコン又はゲルマニウム及び酸素を含む層を形成する方法」拒絶査定不服審判事件〔平成14年11月21日国際公開、WO02/93662、平成16年11月18日国内公表、特表2004-535038号、請求項の数(4)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成14年5月13日(パリ条約による優先権主張2001年5月14日英国、2002年4月10日英国)を国際出願日とする出願であって、その請求項1ないし4に係る発明は、平成23年6月9日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1ないし4に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審で通知した拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2011-06-22 
出願番号 特願2002-590431(P2002-590431)
審決分類 P 1 8・ 537- WYF (H05B)
P 1 8・ 121- WYF (H05B)
P 1 8・ 536- WYF (H05B)
最終処分 成立  
前審関与審査官 越河 勉加藤 隆夫菅野 芳男  
特許庁審判長 北川 清伸
特許庁審判官 橋本 直明
神 悦彦
発明の名称 表面に金属又はシリコン又はゲルマニウム及び酸素を含む層を形成する方法  
代理人 田中 玲子  
代理人 森田 耕司  
代理人 大野 聖二  
代理人 北野 健  
代理人 山田 勇毅  

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