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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由)(定型) H01L
管理番号 1284522
審判番号 不服2012-18042  
総通号数 172 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2014-04-25 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2012-09-14 
確定日 2014-02-05 
事件の表示 特願2008-500606「シリコンウエハの表面品質を改善する研磨用スラリー組成物、及びそれを用いたシリコンウエハの研磨方法」拒絶査定不服審判事件〔平成18年 9月14日国際公開、WO2006/095958、平成20年 8月14日国内公表、特表2008-532329〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 本願は、平成17年12月30日の出願であって、その請求項1ないし5に係る発明は、特許請求の範囲の請求項1ないし5に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
これに対して、平成25年 5月 8日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。
そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
 
審理終結日 2013-09-09 
結審通知日 2013-09-10 
審決日 2013-09-24 
出願番号 特願2008-500606(P2008-500606)
審決分類 P 1 8・ 121- WZF (H01L)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 太田 良隆西中村 健一  
特許庁審判長 野村 亨
特許庁審判官 長屋 陽二郎
刈間 宏信
発明の名称 シリコンウエハの表面品質を改善する研磨用スラリー組成物、及びそれを用いたシリコンウエハの研磨方法  
代理人 八田国際特許業務法人  
代理人 八田国際特許業務法人  

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