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審決分類 審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 H01L
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 H01L
管理番号 1317330
審判番号 不服2015-10735  
総通号数 201 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2016-09-30 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2015-06-08 
確定日 2016-07-22 
事件の表示 特願2012-232302「リソグラフィ装置およびデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成25年 5月20日出願公開、特開2013- 98552〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 第1 手続の経緯
本願は、平成24年10月19日(パリ条約による優先権主張2011年10月27日、米国)の出願であって、 平成25年11月25日付けで拒絶理由が通知され、平成26年2月19日付けで意見書が提出され、同年7月9日付けで拒絶理由が通知され、同年10月7日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出されたが、平成27年2月24日付けで拒絶査定がなされた。
本件は、これに対して、平成27年6月8日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。


第2 平成27年6月8日付けの手続補正についての補正の却下の決定
[補正の却下の決定の結論]
平成27年6月8日付けの手続補正を却下する。

[理由]
1 補正後の請求項に記載された発明
平成27年6月8日付けの手続補正(以下「本件補正」という。)により、本願の特許請求の範囲は、本件補正前の(平成26年10月7日付けの手続補正により補正された)特許請求の範囲である、
「【請求項1】
リソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、
熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される、リソグラフィ装置。
【請求項2】
前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画内に取り付けられる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
【請求項3】
前記熱調整ユニットおよび前記基板テーブルは、前記移送の間、互いに隣接して位置決めされる、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
【請求項4】
前記移送システムは、前記熱調整ユニットに取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備える、請求項1?3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項5】
前記ホルダは、前記基板の粗アライメントのために垂直軸を中心に前記基板を回転させる、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
【請求項6】
前記ホルダは、前記熱調整ユニットの冷却プレートの下で前記基板を保持する、請求項4または5に記載のリソグラフィ装置。
【請求項7】
前記ホルダは、前記冷却プレートの近くで前記基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にする、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
【請求項8】
前記ホルダは、前記基板テーブルが前記熱調整ユニットの下方に配置され、かつ前記基板テーブルのサポートが前記基板を支持しているときに、前記基板を解除する、請求項6または7に記載のリソグラフィ装置。
【請求項9】
前記移送システムが、前記熱調整ユニットが前記基板テーブルに隣接している時に、前記熱調整された基板を前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへと変位させるグリッパを備える、請求項1?5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項10】
前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画のローディングポートの近くに配置される、請求項1?9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項11】
前記熱調整ユニットは、前記基板の粗アライメントを行うアライメントユニットを備える、請求項1?10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項12】
熱調整ユニットを備えるリソグラフィ装置を提供することと、
露光対象の基板を前記熱調整ユニットによって受け取ることと、
前記基板を熱調整することと、
前記熱調整された基板を前記リソグラフィ装置のウェーハステージ区画内に設けられた基板テーブルへ移送することと、
前記基板上にパターン付き放射ビームを投影することと、を含み、
前記移送の間、前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットが前記装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される、デバイス製造方法。
【請求項13】
前記基板を熱調整することが、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記露光対象の基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にすることを含む、請求項12に記載のデバイス製造方法。
【請求項14】
前記移送することが、前記熱調整ユニットを前記基板テーブルに隣接して位置決めすることを含む、請求項12または13に記載のデバイス製造方法。
【請求項15】
前記熱調整ユニットに取り付けられたアライメントユニットによって前記基板の粗アライメントを行うことを含む、請求項12?14のいずれかに記載のデバイス製造方法。」
から、
「【請求項1】
リソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、
熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され、
前記移送システムは、前記熱調整ユニットに取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備え、
前記ホルダは、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にする、リソグラフィ装置。
【請求項2】
前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画内に取り付けられる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
【請求項3】
前記熱調整ユニットおよび前記基板テーブルは、前記移送の間、互いに隣接して位置決めされる、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
【請求項4】
前記ホルダは、前記基板の粗アライメントのために垂直軸を中心に前記基板を回転させる、請求項1?3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項5】
前記ホルダは、前記基板テーブルが前記熱調整ユニットの下方に配置され、かつ前記基板テーブルのサポートが前記基板を支持しているときに、前記基板を解除する、請求項1?4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項6】
前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画のローディングポートの近くに配置される、請求項1?5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項7】
前記熱調整ユニットは、前記基板の粗アライメントを行うアライメントユニットを備える、請求項1?6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項8】
熱調整ユニットを備えるリソグラフィ装置を提供することと、
露光対象の基板を前記熱調整ユニットによって受け取ることと、
前記基板を熱調整することと、
前記熱調整された基板を前記リソグラフィ装置のウェーハステージ区画内に設けられた基板テーブルへ移送することと、
前記基板上にパターン付き放射ビームを投影することと、を含み、
前記移送の間、前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットが前記装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され、
前記基板を熱調整することが、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記露光対象の基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にすることを含む、デバイス製造方法。
【請求項9】
前記移送することが、前記熱調整ユニットを前記基板テーブルに隣接して位置決めすることを含む、請求項8に記載のデバイス製造方法。
【請求項10】
前記熱調整ユニットに取り付けられたアライメントユニットによって前記基板の粗アライメントを行うことを含む、請求項8または9に記載のデバイス製造方法。」
に、補正された。(下線は、請求人が付したものである。)

このうち、本件補正後の請求項1は、本件補正前の請求項1を引用する請求項4を、請求項7の内容で限定したものであるから、本件補正後の請求項1は、特許請求の範囲の減縮を目的として補正されたものであって、本件補正後の請求項1に係る発明(以下「本願補正発明」という。)は、本件補正後の請求項1に記載された事項により特定されるとおりのものである。(上記本件補正後の請求項1の記載を参照)

そこで、本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か(特許法第17条の2第6項において準用する同法第126条第7項の規定に違反するか否か)について、以下に検討する。

2 引用刊行物
(1)本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開2002-280287号公報(以下「引用文献1」という。なお、引用文献1は、平成25年11月25日付けの拒絶理由通知で引用された引用文献1である。)には、以下の事項が記載されている。(下線は当審で付した。)

ア 「【0030】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を、図1?図12を参照して説明する。
【0031】図1には、一実施形態に係る基板搬送装置を含む露光装置100の構成が示されている。この露光装置100は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)である。
【0032】この露光装置100は、露光光源を含む照明系12、レチクルRを保持するレチクルステージRST、投影光学系PL、基板としてのウエハWが搭載されるステージ装置としてのウエハステージWST、及びこれらの制御系等を備えている。
・・中略・・
【0043】前記本体コラム93は、床面に固定される防振台94によって水平に支持された鏡筒定盤92と、この鏡筒定盤92の上面に固定された架台91とから構成されている。鏡筒定盤92には、その中央部に平面視で円形の開口が形成され、この開口内に投影光学系PLが上方から挿入されている。投影光学系PLの高さ方向の中央部分には、フランジ部98が設けられ、このフランジ部98を介して投影光学系PLが鏡筒定盤92によって下方から支持されている。
【0044】前記架台91は、鏡筒定盤92の上面に投影光学系PLを取り囲むように鉛直方向に沿って配設された4本の脚部と、これら4本の脚部上端部相互間を連結する天板部、すなわちレチクルベース13とを備えている。
【0045】前記ウエハステージWSTは、投影光学系PLの図1における下方に配置されたウエハベース盤17上に配置され、このウエハステージWST上には、基板保持部材としてのウエハホルダ18が載置されている。このウエハホルダ18上には直径12インチのウエハWが真空吸着されている。ウエハホルダ18は不図示の駆動部により、投影光学系PLの最良結像面に対し、任意方向に傾斜可能で、かつ投影光学系PLの光軸AX方向(Z方向)に微動できるように構成されている。また、このウエハホルダ18はZ軸回りの回転動作も可能になっている。なお、ウエハステージWSTとウエハホルダ18とからステージ装置としてのウエハステージ装置が構成されている。
【0046】ウエハステージWSTは走査方向(Y方向)の移動のみならず、ウエハW上の複数のショット領域を前記照明領域IARと共役な露光領域IAに位置させることができるように、走査方向に垂直な非走査方向(X方向)にも移動可能に構成されており、ウエハW上の各ショット領域を後述するようにして走査(スキャン)露光する動作と、次のショットの露光のための走査開始位置まで移動する動作とを繰り返すステップ・アンド・スキャン動作を行う。
【0047】ウエハステージWSTは、ここでは、磁気浮上型の2次元リニアアクチュエータから成るステージ駆動装置としてのウエハ駆動装置15によりX軸及びY軸の2次元方向に駆動される。なお、ウエハ駆動装置15は、上記の2次元リニアアクチュエータによって構成されるが、図1においては図示の便宜上からブロックにて示されている。
【0048】ウエハステージWSTは、Y方向の一方側(例えば、+Y方向)とX方向の一方側(例えば、-X方向)の側面にそれぞれ鏡面加工が施され、防振台94に固定されたウエハ干渉計24により、ウエハステージWSTのXY面内での位置が例えば0.5?1nm程度の分解能で常時検出されている。
【0049】ここで、実際には、ウエハ干渉計24は走査方向に3以上の複数軸、非走査方向に3以上の複数軸設けられているが、図1ではこれらが代表的にウエハ干渉計24として示されている。そして、ウエハ干渉計24による計測結果に基づいて、ウエハステージWSTのZ方向を除く5自由度方向に関する位置情報(又は速度情報)が検出されるようになっている。ウエハステージWSTの位置情報(又は速度情報)WPVは、ステージ制御装置19及びこれを介して主制御系20に送られる。ステージ制御装置19は、主制御系20からのステージ制御データSCDによる指示に応じて前記位置情報(又は速度情報)WPVに基づいて、ウエハ駆動装置15を介してウエハステージWSTを制御する。
【0050】さらに、本実施形態の露光装置100では、投影光学系PLの側面に、ウエハW上の各ショット領域に付設されたアライメントマーク(ウエハマーク)の位置を検出するためのオフ・アクシス方式の不図示のアライメント系が設けられている。かかるアライメント系には、例えば画像処理方式の結像式アライメントセンサが含まれている。このアライメントセンサの計測結果データが主制御系20に送られるようになっている。
・・中略・・
【0052】前記ウエハステージWST上には、アライメントセンサの検出中心の位置とレチクルパターンの投影像の位置との相対位置関係を計測するためのベースライン計測用基準マークその他の基準マークが形成された不図示の基準プレートが配置されている。
【0053】また、ウエハステージWST上のウエハホルダ18は、図2(A)?(C)に総合的に示されるように、下面(ウエハステージ側面)側はX方向両端の弓形部が除去された円形形状を有している。また、ウエハホルダ18の上面(ウエハ載置面)側には、+X方向端部に切り欠き30a,30bが形成されるとともに、-X方向端部に切り欠き30cが形成されている。かかる切り欠き30a,30bの下方のウエハステージWSTの表面には+Y方向に向かってウエハステージWSTの辺縁まで延びる溝31aが形成され、また、切り欠き30cの下方のウエハステージWSTの表面には+Y方向に向かってウエハステージWSTの辺縁まで延びる溝31bが形成されている。この一組の切り欠き30a,30b,30c及び一組の溝31a,31bは、後述する搬入アームを挿入するためのものである。
【0054】図1に戻り、露光装置100では、更に、ウエハ受け渡し位置に配置されたウエハプリアライメント装置32を備えている。このウエハプリアライメント装置32は、鏡筒定盤92に取り付けられており、ウエハWの撮像結果を撮像データIMDとして主制御系20へ供給している。
【0055】ウエハプリアライメント装置32は、図3(A)に示されるように、鏡筒定盤92に固定されたプリアライメント制御装置34と、このプリアライメント制御装置34の下方に設けられ、支持部材としてのウエハ搬入アーム(以下、「搬入アーム」という)36を支持して上下動及び回転する上下動・回転機構38と、搬入アーム36の上方に配置された3つのCCDカメラ40a,40b,40cとを備えている。また、ウエハプリアライメント装置32は、図3(A)及び図3(B)に総合的に示されるように、背景部材としての背景板42a,42b,42cと、当該背景板42a,42b,42cを、搬入アーム36によって支持されたウエハW’の裏面側のXY面内で、ウエハW’に接近又は離間させる方向に移動させる背景部材駆動装置としてのリニアモータ45a,45b,45cとを更に備えている。プリアライメント制御装置34の内部には、主制御系20による制御の下で、CCDカメラ40a,40b,40cからの画像信号を収集し、主制御系20へ送信する画像信号処理系、上下動・回転機構38の制御系、リニアモータ45a,45b,45cの制御系等が内蔵されている。
・・中略・・
【0060】前記CCDカメラ40a,40b,40cは、搬入アーム36に支持されたウエハWの外縁をそれぞれ検出するためのものである。CCDカメラ40a,40b,40cは、ここでは、図6の斜視図に示されるように、支持装置としての搬入アーム36に支持された12インチウエハW’のノッチNを含む外縁を撮像可能な位置に配置されている。この内、中央のCCDカメラ40aがノッチを検出するためのものである。なお、CCDカメラ40a,40b,40cによる撮像時には、背景板42a,42b,42cの一部が、ウエハW’の下面(裏面)に対向するように配置される(図6参照)。
【0061】CCDカメラ40a,40b,40cは、図5においてCCDカメラ40aについて代表的に示されるように、光源51、コリメータレンズ52、ハーフミラー54、ミラー55、結像光学系56、及びCCD撮像素子57を含んで構成されている。ここで、このCCDカメラ40aの構成各部についてその作用とともに説明する。
・・中略・・
【0068】なお、本実施形態では、搬入アーム36は、平面視でT字型の形状を有し、当該T字における3つの端点部それぞれから鉛直下方に3つの指部が延びている。そして、当該3つの指部の下方端部に、ウエハWを支持する爪部が設けられている。
【0069】更に、本実施形態の露光装置100は、図7に示されるように、ウエハホルダ18上のウエハを搬出するためのウエハ搬出アーム(以下、「搬出アーム」という)42と、前記搬入アーム36にウエハを搬入するウエハ搬送アーム44及びこれらを駆動するアーム駆動機構46とを備えている。ここで、搬出アーム42及びウエハ搬送アーム44は、アーム駆動機構46によってY軸方向に沿って所定ストロークで駆動されるようになっている。
【0070】搬出アーム42は、図7からも明らかなように、前述した搬入アーム36と全く同様に構成されている。但し、搬入アーム36が上下動・回転機構38の下端に保持されていたのに対し、搬出アーム42は、リニアモータの可動子を含む上下動・スライド機構48に保持されている点が異なる。
【0071】前記主制御系20は、図8に示されるように、主制御装置60と記憶装置70とを備えている。主制御装置60は、(a)レチクルRの位置情報(速度情報)RPV及びウエハWの位置情報(速度情報)WPVに基づいて、ステージ制御系19にステージ制御データSCDを供給する等して露光装置200の動作全体を制御する制御装置69と、(b)ウエハプリアライメント装置32から供給された撮像データIMDに基づいて、ウエハWの外形を測定し、ウエハWの中心位置と半径とを検出するウエハ外形演算装置61とを備えている。
・・中略・・
【0076】以下、本実施形態の露光装置100による露光動作を、図9に示されるフローチャートに沿って、適宜他の図面を参照しながら説明する。
【0077】かかる露光動作では、まず、ステップ102において、主制御系20の制御の下で、不図示のレチクルローダにより、転写したいパターンが形成されたレチクルRがレチクルステージRSTにロードされる。また、搬送アーム44(図7参照)により、露光したいウエハWが搬入アーム36にロードされる。
【0078】次に、ステップ103において、主制御系20が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36をZ軸方向に移動させて、ウエハWの表面がCCDカメラ40a,40b,40cによる観察面の高さ位置とする。また、主制御系20が、プリアライメント制御装置34を介してリニアモータ45a,45b,45cを制御し、背景板42a,42b,42cそれぞれの一部がウエハWの裏面に対向する位置に、背景板42a,42b,42cを移動させる。
・・中略・・
【0089】次いで、ステップ106において、制御装置69は、上記で求めたウエハWの形状測定以外の露光準備用計測を行う。すなわち、制御装置69は、撮像データ格納領域72に格納されたウエハWの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハWのノッチN位置を検出する。これにより、ロードされたウエハWのZ軸回りの回転角を検出する。そして、検出されたウエハWのZ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置69が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36を回転駆動する。引き続き、制御装置69が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36を駆動して、ウエハWをウエハホルダ18にロードする。
【0090】この後、制御装置69は、ウエハWに対する露光が、第2層目以降の露光であるときには、既に形成されている回路パターンと重ね合わせ精度良く回路パターンを形成するため、上述のウエハWの形状測定結果に基づいて、ウエハWの移動すなわちウエハステージWSTの移動を規定する基準座標系と、ウエハW上の回路パターンの配列すなわちチップ領域(ショット領域)の配列に関する配列座標系との位置関係が、ウエハアライメントセンサを使用して高精度で検出される。
【0091】次いで、ステップ107において、露光が行われる。
・・中略・・
【0094】そして、ステップ108において、搬出アーム42により、露光が完了したウエハWがウエハホルダ18からアンロードされる。こうして、ウエハWの露光処理が終了する。」

イ 「【図1】

【図2】

【図3】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】



ウ 上記記載事項アの段落【0043】の「前記本体コラム93は、床面に固定される防振台94によって水平に支持された鏡筒定盤92と、この鏡筒定盤92の上面に固定された架台91とから構成されている。」という記載、段落【0045】の「前記ウエハステージWSTは、投影光学系PLの図1における下方に配置されたウエハベース盤17上に配置され、」という記載、段落【0054】の「露光装置100では、更に、ウエハ受け渡し位置に配置されたウエハプリアライメント装置32を備えている。このウエハプリアライメント装置32は、鏡筒定盤92に取り付けられており、」という記載及び上記記載事項イの【図1】の記載から、「ウエハステージWST」及び「ウエハプリアライメント装置32」は、「鏡筒定盤92」、「防振台94」及び「ウエハベース盤17」に囲まれた空間に配置された構成を読み取ることができる。

すると、上記引用文献1の記載事項から、引用文献1には、以下の発明(以下「引用発明1」という。)が記載されている。

「ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置である露光装置100であって、
露光装置100は、基板としてのウエハWが搭載されるステージ装置としてのウエハステージWSTを備え、更に、ウエハ受け渡し位置に配置されたウエハプリアライメント装置32を備えており、
ウエハプリアライメント装置32は、鏡筒定盤92に固定されたプリアライメント制御装置34と、このプリアライメント制御装置34の下方に設けられ、支持部材としてのウエハ搬入アーム(以下、「搬入アーム」という)36を支持して上下動及び回転する上下動・回転機構38とを備えており、
さらに、露光装置100は、搬入アーム36にウエハを搬入するウエハ搬送アーム44及びこれらを駆動するアーム駆動機構46と、露光装置100の動作全体を制御する制御装置69を備えていて、
ウエハステージWST及びウエハプリアライメント装置32は、鏡筒定盤92、防振台94及びウエハベース盤17に囲まれた空間に配置され、
制御装置69は、撮像データ格納領域72に格納されたウエハWの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハWのノッチN位置を検出し、これにより、ロードされたウエハWのZ軸回りの回転角を検出し、検出されたウエハWのZ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置69が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36を回転駆動し、引き続き、制御装置69が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36を駆動して、ウエハWをウエハホルダ18にロードする、露光装置100。」

(2)本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開2001-110722号公報(以下「引用文献2」という。なお、引用文献2は、平成25年11月25日付けの拒絶理由通知で周知の技術事項を示すために引用された文献であり、かつ、拒絶査定に引用された引用文献1である。)には、以下の事項が記載されている。(下線は当審で付した。)

ア 「【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置及びこれを用いた露光方法に係り、より詳細にはウェーハ冷却手段を具備する露光装置及びこれを用いた露光方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程でウェーハはいろいろな段階の工程を経ながら常温から数百度以上の温度変化を経る。これにより、ウェーハは各工程を経ながら熱膨張と収縮を経る。
【0003】ウェーハの物理的特性は工程に関係なく一定の状態を維持することが理想的であるが、前記のようにウェーハはいろいろな工程を経ながら温度変化による熱膨張と収縮でその物理的状態が変わるため、これはウェーハを整列する過程でウェーハの整列誤差を決まった範囲以上に増やす結果を招く。半導体装置の製造工程で、写真工程はウェーハ上にフォトレジストを塗布する工程から前記ウェーハを整列し露光して現像する工程を全て含む。図1は、従来の技術による整列露光装置の構成及びウェーハ移送経路を示すことであって便宜上現像工程は省略されている。
【0004】図1を参照すれば、参照番号10は、ウェーハ上にフォトレジスト膜を塗布する装備のスピンナ10を示す。前記スピンナ10でフォトレジスト膜が塗布されたウェーハは露光設備12に移送される。前記露光設備12はウェーハトランスファシステム14、ウェーハプレアライメントシステム16、ウェーハステージ18及びD-チャック20より構成されている。前記スピンナ10でフォトレジスト膜が塗布されたウェーハは、前記ウェーハトランスファシステム14を経て前記ウェーハプレアライメントシステム16へ移送される。前記ウェーハは、前記ウェーハステージ18へ移送される前に前記ウェーハプレアライメントシステム16で予備整列される。即ち、ウェーハのフラットゾーンが決まった方向に整列される。予備整列されたウェーハは前記ウェーハステージ18へ移送されて正確に整列される。次いで、露光工程が進行される。前記露光工程で前記ウェーハ上に塗布されたフォトレジスト膜にレチクルに彫られたパターンと同じパターンが転写される。以後、前記ウェーハは前記D-チャック20及びウェーハトランスファシステム14を経て前記スピンナ10に移送される。
【0005】図2は、図1に示した従来の技術に係るウェーハ整列露光装置12の一構成要素のウェーハプレアライメントシステム16の部分断面図である。これを参照すれば、従来の技術に係る整列露光装置のウェーハプレアライメントシステム16にウェーハがローディングされるP-チャック22が備わっていて、前記P-チャック22の周りにマークセンサー23及びエッジセンサー24が備わっている。前記エッジセンサー24は、前記P-チャック22上にローディングされるウェーハWのフラットゾーンを感知し、前記マークセンサー23は感知されたフラットゾーンを決まった方向に整列させる。この過程で、前記エッジセンサー24は前記ウェーハWのフラットゾーンを感知する過程で発熱し、その結果前記ウェーハWのエッジセンサー24に露出される部分の温度は高くなる。
【0006】このように従来の技術に係る整列露光装置を構成する要素はウェーハの温度を高める発熱要素を具備しているが、前記ウェーハ整列露光装置12を構成する前記ウェーハトランスファシステム14や前記ウェーハプレアライメントシステム16、前記ウェーハステージ18の温度環境は相異なる。例えば、前記ウェーハステージ18は、別の温度制御装置を使用して温度を一定に維持する。反面、前記ウェーハトランスファシステム14と前記ウェーハプレアライメントシステム16は、温度調節にクリーンルームから供給される空気を用いている。ところが、クリーンルーム内部にある各種発熱源により前記各システムにヒーティングされた空気が流入されるだけでなく前記ウェーハプレアライメントシステム16に備わったエッジセンサー24のように、ウェーハ整列露光装置12を構成する各要素自体にも発熱要素が備わっていて前記各構成要素内部はヒーティングされる。また、半導体装置の製造工程別に用いられる整列露光装置が異なってそれに属するウェーハトランスファシステムやウェーハフリーアラインシステムも相異なる。
【0007】このような理由で、前記露光設備12のウェーハトランスファシステム14や前記ウェーハプレアライメントシステム16を通過するウェーハはヒーティングされて、前記ウェーハステージ18に到達する時点で前記ウェーハ温度は前記ウェーハステージ18で維持される温度より高い状態になる。これは、ウェーハが前記ウェーハステージ18で熱膨張されうることよりさらに熱膨脹されていることを意味する。従って、前記ウェーハステージ18に到達したウェーハを整列する過程でウェーハの整列誤差が増えてウェーハに正確にパターンを転写できなくなる。これを防止するために、前記ウェーハステージ18でウェーハを長時間待機させて前記ウェーハと前記ウェーハステージ18を熱的平衡状態にした後に整列及び露光工程を進行できるが、ウェーハの待機時間が延びて生産性が急に低下する問題がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決しようとする技術的課題は、従来の技術が有するこのような問題点を解消することであって、ウェーハステージでウェーハの待機時間を延ばさずにウェーハステージとウェーハとの温度差によるウェーハの過度な熱膨張を防止して、ウェーハの整列誤差を縮められるウェーハ冷却手段を具備する露光装置を提供することにある。本発明が解決しようとする他の技術的課題は、このような露光装置を用いた露光方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成するために、本発明はウェーハトランスファシステム、P-チャック周りにマークセンサー及びエッジセンサーを具備するウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステージ及びD-チャックを具備する露光装置において、前記ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予備整列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わっている露光装置を提供する。」

イ 「【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係るウェーハプレアライメントシステムにウェーハ冷却手段を具備する露光装置及びこれを用いた露光方法を添付した図面を参照して詳細に説明する。
【0017】しかし本発明の実施例は色々な他の形態に変形することができ、本発明の範囲が後述する実施例に限られることと解釈されてはいけない。本発明の実施例は当業界で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。図面で層とか領域の厚さは明細書の明確性のために誇張されたことである。図面上で同じ符号で示される要素は同じ要素を示す。今から説明しようとする本発明の実施例に係る露光装置及びこれを用いた露光方法は、半導体装置の製造工程に適用される全ての写真工程に適用できるが、説明の便宜と明確性のために本発明の実施例に係る露光装置はステッパ型露光装置であるとみなす。
【0018】先ず、本発明の実施例に係る露光装置に関して詳細に説明する。図3を参照すれば、本発明の露光装置40はウェーハトランスファシステム42、ウェーハプレアライメントシステム44、ウェーハステージ46及びD-チャック48よりなっている。前記ウェーハプレアライメントシステム44にウェーハ冷却手段44aがさらに備わっている。
【0019】スピンナ10から前記ウェーハトランスファシステム42及び前記ウェーハプレアライメントシステム44を経て前記ウェーハステージ46にくる間、ウェーハは前記ウェーハプレアライメントシステム44に備わったウェーハ予備整列のためのエッジセンサーにより部分的に加熱された状態になるが、前記ウェーハ冷却手段44aは、前記ウェーハステージ46にウェーハを移送する前にウェーハの温度を冷却させる役割をする。即ち、前記ウェーハプレアライメントシステム44にくる間にヒーティングされた前記ウェーハを決まった温度まで、望ましくは前記ウェーハステージ46の温度まで冷却させる役割をする。このような役割をする前記ウェーハ冷却手段44aはエアシャワーである。
【0020】図4を参照すれば、本発明の実施例に係る露光装置の一構成要素のウェーハプレアライメントシステム50の下部にウェーハ54がローディングされるP-チャック52が備わっている。そして前記P-チャック52の周りにマークセンサー55が備わっていて、前記マークセンサー55の向かい側にエッジセンサー56が備わっている。ウェーハが前記P-チャック52上にローディングされれば、まず、前記エッジセンサー56によりウェーハ54の特定部位、即ちフラットゾーンが感知される。そして前記マークセンサー55により、前記ウェーハ54のフラットゾーンが決まった方向に整列される。
【0021】図示したように、前記P-チャック52上にウェーハ54がローディングされる時、前記ウェーハ54はその縁部が前記マークセンサー55及びエッジセンサー56に取り囲まれるようにローディングされる。即ち、前記マークセンサー55及びエッジセンサー56は二つともローディングされたウェーハ54の縁部の上下面全部と対向できる面を有している。前記ウェーハ54を介在して前記P-チャック52上に前記ウェーハ54を冷却させるためのウェーハ冷却手段58が備わっている。前記のように、前記ウェーハ冷却手段58はエアシャワーである。前記ウェーハ冷却手段58の前記ウェーハ54または前記P-チャック52と対向する面を通じて前記ウェーハ54上に冷却ガス、例えば空気が噴射される。
・・中略・・
【0025】次に、前述したような構成要素及び特徴を有する露光装置を用いた露光方法を詳細に説明する。図8を参照すれば、第1段階100は感光膜塗布及びべーク段階である。この段階では、図3に示したように、スピンナ10でウェーハ上に感光膜、例えばフォトレジスト膜を塗布した後、適正温度で前記塗布された感光膜を露光に適した状態になるまでべークする。
【0026】第2段階102はウェーハ整列及び冷却段階である。この段階では、前記スピンナ10で感光膜塗布及びべーク工程が完了すれば、ウェーハをウェーハトランスファシステム42へ移送する。前記ウェーハトランスファシステム42へ移送されたウェーハはロボットによりウェーハプレアライメントシステム44へ移送される。
【0027】図4を参照すれば、まず、エッジセンサー56によりウェーハ54のフラットゾーンが感知される。次いで、前記エッジセンサー56により感知された前記ウェーハ54のフラットゾーンはマークセンサー55により決まった方向に整列されることによって、前記ウェーハプレアライメントシステム44におけるウェーハ予備整列が完了する。
【0028】一方、図面に具体的に示されなかったが、前記エッジセンサー56のウェーハ54の下面と対向する部分に前記ウェーハ54のフラットゾーンを感知する部分がある。この部分で前記ウェーハ54のフラットゾーンは光学的方法で感知される。この過程で、前記ウェーハ54の前記エッジセンサー56の光が通過する部分は光に露出されるので、ウェーハの他の部分に比べて温度が上がる。
【0029】従って、前記ウェーハ54をこの状態で次の設備のウェーハステージへ移送して整列及び露光を実施する場合、待機時間が長くなったり整列誤差が増える問題が発生するので、これを解消するために、前記ウェーハプレアライメントシステム50の前記P-チャック52上に備わったウェーハ冷却手段58、即ちエアシャワーを使用して前記ウェーハ54を冷却させる。この時、前記ウェーハは前記ウェーハステージの温度まで冷却させることが望ましい。
【0030】第3段階104はウェーハ整列及び露光段階である。この段階では、図3を参照すれば、前記ウェーハプレアライメントシステム44で前記ウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージ46へ移送してウェーハ整列を実施した後、露光を実施する。この時、前記ウェーハステージ46の前段階、即ち前記ウェーハプレアライメントシステム44で前記ウェーハは前記ウェーハステージ46の温度まで冷却された状態であるので、前記ウェーハ54と前記ウェーハステージ46との間に熱平衡が迅速になされる。従って、ウェーハ整列過程で前記ウェーハと前記ウェーハステージ46との温度差による過度な整列誤差が現れることが防止される。
【0031】第4段階106は整列及び露光が完了したウェーハをスピンナへ移送する段階である。この段階では、図3を参照すれば、前記露光されたウェーハをD-チャック48へ移送する。次いで、前記D-チャック48から前記ウェーハトランスファシステム42を経て前記スピンナ10に前記ウェーハを移送する。
【0032】前記の説明で多くの事項が具体的に記載されているが、これらは発明の範囲を限定することというより、望ましい実施例の例示として解釈されるべきである。例えば本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、前記ウェーハ冷却手段として開示された前記エアシャワーの形態を前記実施例に開示されたものから変形して本発明を実施できることが明らかである。例えば、図5に示したウェーハ冷却手段58でガス噴射部76に形成された複数個のホール78は、完全にオープンされた状態ではない必要なガスだけを選択的に通過させうる機能を有する透気性膜に取り替えられる場合もある。そのため、本発明の範囲は説明された実施例によって決まることではなく特許請求範囲に記載された技術的思想により決まるべきである。
【0033】
【発明の効果】前述したように、本発明による露光装置は、構成要素中の一つのウェーハプレアライメントシステムへ移送されるウェーハの温度調節のための別のウェーハ冷却手段、即ちエアシャワーを備える。ウェーハトランスファシステムを経てスピンナから移送されてくる間ヒーティングされたウェーハを前記ウェーハプレアライメントシステムで、次に移送するウェーハステージの温度と同じ温度になるまで冷却させる。こうすることによって、ウェーハがウェーハステージへ移送された時、ウェーハとウェーハステージとの間に熱平衡が迅速になされる。従って、ウェーハとウェーハステージとの温度差から発生するウェーハの過度な熱膨張を防止でき、その結果ウェーハ整列過程で過度な整列誤差が発生することを防止できるので正確なウェーハ整列をなすことができる。」

ウ 「【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図8】



エ 上記記載事項イの段落【0030】の「第3段階104はウェーハ整列及び露光段階である。この段階では、図3を参照すれば、前記ウェーハプレアライメントシステム44で前記ウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージ46へ移送してウェーハ整列を実施した後、露光を実施する。」という記載から、「露光装置40」には、「ウェーハ」を、「ウェーハプレアライメントシステム44」から「ウェーハステージ46」へ移送する手段が備わっていることは明らかである。

オ ステッパ型露光装置において、一般に、ウェーハステージが所定の空間内に配置され、ウェーハステージは、常に、その空間内で移動するように構成されていることは、当業者の技術常識であるから、上記記載事項イの「ウェーハステージ46」も、常に、「ウェーハステージ46」が配置された空間内で移動するように構成されていると認められる。

すると、上記引用文献2の記載事項から、引用文献2には、以下の技術事項(以下「引用文献2の技術事項」という。)が記載されている。

「露光設備12のウェーハトランスファシステム14やウェーハプレアライメントシステム16を通過するウェーハはヒーティングされて、ウェーハステージ18に到達する時点でウェーハ温度はウェーハステージ18で維持される温度より高い状態になり、ウェーハの整列誤差が増えてウェーハに正確にパターンを転写できなくなる。これを防止するために、ウェーハステージ18でウェーハを長時間待機させてウェーハとウェーハステージ18を熱的平衡状態にした後に整列及び露光工程を進行できるが、ウェーハの待機時間が延びて生産性が急に低下する問題がある。
従来の技術が有するこのような問題点を解消することを目的として、ウェーハトランスファシステム、P-チャック周りにマークセンサー及びエッジセンサーを具備するウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステージ及びD-チャックを具備する露光装置において、ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予備整列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わっている露光装置を提供する。

具体的には、下記のような露光装置(以下「引用発明2」という。)を提供する。

「ステッパ型露光装置である露光装置であって、
露光装置はウェーハトランスファシステム、ウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステージ及びD-チャックよりなっており、ウェーハプレアライメントシステムにウェーハ冷却手段がさらに備わっていて、
ウェーハプレアライメントシステムの下部にウェーハがローディングされるP-チャックが備わっており、ウェーハを介在してP-チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わっていて、ウェーハ冷却手段はエアシャワーであり、
ウェーハを、ウェーハプレアライメントシステムからウェーハステージへ移送する手段を備え、
ウェーハステージは、常に、ウェーハステージが配置された空間内で移動するように構成されており、
ウェーハプレアライメントシステムでウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージへ移送してウェーハ整列を実施した後、露光を実施する、露光装置。」

この引用発明2では、ウェーハトランスファシステムを経てスピンナから移送されてくる間ヒーティングされたウェーハを前記ウェーハプレアライメントシステムで、次に移送するウェーハステージの温度と同じ温度になるまで冷却させることによって、ウェーハとウェーハステージとの温度差から発生するウェーハの過度な熱膨張を防止でき、その結果ウェーハ整列過程で過度な整列誤差が発生することを防止できるので正確なウェーハ整列をなすことができる。」

3 対比
(1)本願補正発明と引用発明1との対比
ア 引用発明1の「ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置である露光装置100」、「ウエハW」、「基板としてのウエハWが搭載されるステージ装置としてのウエハステージWST」及び「ウエハ搬入アーム(以下、「搬入アーム」という)36」は、それぞれ、本願補正発明の「リソグラフィ装置」、「基板」、「基板を保持する基板テーブル」及び「基板を保持するホルダ」に相当する。

イ 引用発明1の「露光装置100は、基板としてのウエハWが搭載されるステージ装置としてのウエハステージWSTを備えており、」「ウエハステージWST」「は、鏡筒定盤92、防振台94及びウエハベース盤17に囲まれた空間に配置され」ていることは、本願補正発明の「基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、」「を備え」ることに相当する。

ウ 引用発明1の「ウエハプリアライメント装置32」は、「制御装置69は、撮像データ格納領域72に格納されたウエハWの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハWのノッチN位置を検出し、これにより、ロードされたウエハWのZ軸回りの回転角を検出し、検出されたウエハWのZ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置69が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36を回転駆動」することにより、「ウエハ」の位置を調整する手段であることは明らかであるから、引用発明1の「ウエハプリアライメント装置32」と、本願補正発明の「該基板を熱調整する熱調整ユニット」は、「該基板を調整する手段」である点で、一致する。
また、引用発明1において、「露光装置100は、搬入アーム36にウエハを搬入するウエハ搬送アーム44及びこれらを駆動するアーム駆動機構46と、」「を備えて」いることから、引用発明1の「ウエハプリアライメント装置32」は、「ウエハ」を受け取るものであることは明らかである。
すると、引用発明1の「ウエハプリアライメント装置32」と、本願補正発明の「熱調整ユニット」は、「露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を調整する手段」である点で,一致する。

エ 引用発明1では、「制御装置69は、撮像データ格納領域72に格納されたウエハWの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハWのノッチN位置を検出し、これにより、ロードされたウエハWのZ軸回りの回転角を検出し、検出されたウエハWのZ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置69が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36を回転駆動し、引き続き、制御装置69が、プリアライメント制御装置34を介して上下動・回転機構38を制御し、搬入アーム36を駆動して、ウエハWをウエハホルダ18にロードする」のであるから、引用発明1の「搬入アーム36」及び「上下動・回転機構38」と、本願補正発明の「移送システム」は、「調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システム」である点で、一致する。

オ 引用発明1において、「ウエハステージWST」が、常に、「鏡筒定盤92、防振台94及びウエハベース盤17に囲まれた空間に配置され」ていることは、当業者には自明のことである。
また、引用発明1の「ウエハプリアライメント装置32は、鏡筒定盤92に固定されたプリアライメント制御装置34と、このプリアライメント制御装置34の下方に設けられ、支持部材としてのウエハ搬入アーム(以下、「搬入アーム」という)36を支持して上下動及び回転する上下動・回転機構38とを備えており、」「ウエハプリアライメント装置32は、鏡筒定盤92、防振台94及びウエハベース盤17に囲まれた空間に配置され」ていることから、「ウエハプリアライメント装置32」は、(「搬入アーム36を駆動して、ウエハWをウエハホルダ18にロードする」間、すなわち、「ウエハW」の「ウエハプリアライメント装置32」から「ウエハステージWST」への移送の間も含めて、)常に、「鏡筒定盤92、防振台94及びウエハベース盤17に囲まれた空間に配置され」ていることは明らかである。
すると、引用発明1の「ウエハステージWST及びウエハプリアライメント装置32」と、本願補正発明の「前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニット」は、「前記基板テーブル及び前記調整する手段は、前記調整された基板の前記調整する手段から前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され」ている点で、一致する。

カ 引用発明1の「ウエハプリアライメント装置32は、鏡筒定盤92に固定されたプリアライメント制御装置34と、このプリアライメント制御装置34の下方に設けられ、支持部材としてのウエハ搬入アーム(以下、「搬入アーム」という)36を支持して上下動及び回転する上下動・回転機構38とを備えて」いることと、本願補正発明の「前記移送システムは、前記熱調整ユニットに取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備え」ることは、「前記移送システムは、前記調整する手段に取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備え」ることで、一致する。

(2)一致点
してみると、両者は、
「リソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を調整する手段と、
調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
前記基板テーブル及び前記調整する手段は、前記調整された基板の前記調整する手段から前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され、
前記移送システムは、前記調整する手段に取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備える、リソグラフィ装置。」
で一致し、次の点で相違する。

(3)相違点
本願補正発明では、調整する手段が「該基板を熱調整する熱調整ユニット」であって、「前記ホルダは、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にする」のに対して、引用発明1では、調整する手段が、「ウエハプリアライメント装置32」である点。(以下「相違点ア」という。)

4 判断
(1)相違点アについて
引用発明1の、「支持部材としてのウエハ搬入アーム(以下、「搬入アーム」という)36」、「上下動・回転機構38」、「搬入アーム36にウエハを搬入するウエハ搬送アーム44」を備える点が、引用文献2の技術事項の「ウェーハトランスファシステム14やウェーハプレアライメントシステム16」を備える点に相当するから、引用発明1でも、引用文献2の技術事項の「露光設備12のウェーハトランスファシステム14やウェーハプレアライメントシステム16を通過するウェーハはヒーティングされて、ウェーハステージ18に到達する時点でウェーハ温度はウェーハステージ18で維持される温度より高い状態になり、ウェーハの整列誤差が増えてウェーハに正確にパターンを転写できなくなる。これを防止するために、ウェーハステージ18でウェーハを長時間待機させてウェーハとウェーハステージ18を熱的平衡状態にした後に整列及び露光工程を進行できるが、ウェーハの待機時間が延びて生産性が急に低下する問題がある。」という問題と同様の問題が生じることは、当業者には容易に理解し得るところである。
そこで、引用発明1において、これらの問題を解決するべく、引用文献2の技術事項の「ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予備整列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わ」る構成を適用することは容易に想到し得ることであって、その際、引用発明1の「プリアライメント装置32」と、引用発明2の「ウェーハプレアライメントシステム」は、それぞれ、その下部にウエハを支持・移送する手段(引用発明1においては、「支持部材としてのウエハ搬入アーム(以下、「搬入アーム」という)36」及び「上下動・回転機構38」、引用発明2においては、「ウェーハがローディングされるP-チャック」)を備えている点で共通するから、引用発明1に、引用発明2の「ウェーハを介在してP-チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わ」る構成を採用して、「搬入アーム36」で支持された「ウエハW」の上側に冷却手段を備えるよう構成することは、当業者が容易になし得ることである。
また、引用発明2では、「ウェーハ冷却手段」は「エアシャワー」であるが、ウエハの冷却手段として、冷却プレートは、特開2003-142386号公報(例えば、段落【0019】、【0038】、図1、2、7等参照)、特開2001-85323号公報(例えば、段落【0018】?【0019】、【0034】?【0036】、図2?4等参照)、特開2000-68176号公報(例えば、段落【0014】?【0018】、図1等参照)、特開2002-57092号公報(特に、段落【0001】、【0010】?【0011】、図1?4等参照)、特開2006-78029号公報(特に、段落【0001】、【0018】?【0022】、図1?4等参照)等に示されるように、当業者には周知の技術であるから、引用発明1に引用発明2の「ウェーハ冷却手段」の構成を適用する際に、ウエハの冷却手段として、冷却プレートを採用することは、当業者が適宜設計変更し得る程度の事項にすぎない。

したがって、引用発明1に、引用文献2の技術事項に基づいて、引用発明2及び周知技術を適用して、引用発明1の「プリアライメント装置32」に冷却プレートである冷却手段を備える構成とすることにより、上記相違点アに係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得ることである。

(2)効果について
本願補正発明が奏し得る効果は、引用発明1、引用文献2の技術事項及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。

(3)結論
したがって、本願補正発明は、引用発明1、引用文献2の技術事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。

5.小括
以上のとおり、本件補正は、特許法第17条の2第6項において準用する同法第126条第7項の規定に違反するので、同法第159条第1項の規定により読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。


第3 本願発明について
1 本願発明
平成27年6月8日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項1に係る発明(以下「本願発明」という。)は、平成26年10月7日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。(上記「第2」「[理由]」「1」の本件補正前の請求項1の記載を参照)

2 引用刊行物
原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された引用文献2、その記載内容及び引用発明2は、上記「第2」「[理由]」「2」「(2)」に記載したとおりである。

3 対比
(1)本願発明と引用発明2との対比
ア 引用発明2の「ステッパ型露光装置である露光装置」、「ウェーハ」、「ウェーハステージ」、「ウェーハ冷却手段」は、それぞれ、本願発明の「リソグラフィ装置」、「基板」、「基板を保持する基板テーブル」、「該基板を熱調整する熱調整ユニット」に相当する。

イ 引用発明2の「ウェーハステージは、常に、ウェーハステージが配置された空間内で移動するように構成されている」ことは、本願発明の「前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、」「を備え」ることに相当する。

ウ 引用発明2において、「ウェーハプレアライメントシステムの下部に」「備わって」いる「P-チャック」は、「ウェーハがローディングされる」ものであり、「ウェーハを介在してP-チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わってい」るものであるから、引用発明2の「ウェーハプレアライメントシステムにウェーハ冷却手段がさらに備わっていて、ウェーハプレアライメントシステムの下部にウェーハがローディングされるP-チャックが備わっており、ウェーハを介在してP-チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わってい」ることは、本願発明の「露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、」「を備え」ることに相当する。

エ 引用発明2において、「ウェーハプレアライメントシステムでウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージへ移送してウェーハ整列を実施」するのであるから、引用発明2の「ウェーハを、ウェーハプレアライメントシステムからウェーハステージへ移送する手段」は、本願発明の「熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システム」に相当する。

オ 引用発明2の「ウェーハステージは、常に、ウェーハステージが配置された空間内で移動するように構成されて」いることは、本願発明の「前記基板テーブル」「は、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される」ことに相当する。

(2)一致点
してみると、両者は、
「リソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、
熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
前記基板テーブルは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される、リソグラフィ装置。」
で一致し、次の点で相違する。

(3)相違点
本願発明は、「前記熱調整ユニットは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される」のに対して、引用発明2では、「ウェーハ冷却手段」、すなわち、「ウェーハ冷却手段がさらに備わってい」る「ウェーハプレアライメントシステム」は、「ウェーハ」の「ウェーハ冷却手段」、すなわち、「ウェーハ冷却手段がさらに備わってい」る「ウェーハプレアライメントシステム」から「ウェーハステージ」への移送の間、「ウェーハステージが配置された空間内に」配置されるか否かが明らかでない点。(以下「相違点イ」という。)

4 判断
(1)相違点イについて
ステッパ型露光装置において、一般に、プリアライメント装置が、常に、ウエハステージが配置された空間内に配置されることは、特開平11-284052号公報(特に、段落【0087】、図1等参照)、特開2000-77314号公報(特に、段落【0054】?【0055】、図4等参照)、特開2005-44882号公報(特に、段落【0067】、図1、2等参照)、特開2010-73963号公報(特に、段落【0043】、図1、2等参照)等に示されるように、当業者には周知の技術であるから、引用発明2の「ウェーハ冷却手段がさらに備わってい」る「ウェーハプレアライメントシステム」を、(「ウェーハプレアライメントシステムでウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージへ移送」する間、すなわち、「ウェーハ」の「ウェーハ冷却手段がさらに備わってい」る「ウェーハプレアライメントシステム」から「ウェーハステージ」への移送の間も含めて、)常に、「ウェーハステージが配置された空間内」に配置するよう構成して、上記相違点イに係る本願発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になし得ることである。

(2)効果について
本願発明が奏し得る効果は、引用発明2及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。

(3)結論
したがって、本願発明は、引用発明2及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。


第4 むすび
したがって、本願発明は、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
 
審理終結日 2016-02-26 
結審通知日 2016-02-29 
審決日 2016-03-11 
出願番号 特願2012-232302(P2012-232302)
審決分類 P 1 8・ 575- Z (H01L)
P 1 8・ 121- Z (H01L)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 赤尾 隼人久保田 創  
特許庁審判長 森林 克郎
特許庁審判官 伊藤 昌哉
松川 直樹
発明の名称 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法  
代理人 稲葉 良幸  
代理人 大貫 敏史  
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