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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) G03F
管理番号 1328576
審判番号 不服2015-18310  
総通号数 211 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2017-07-28 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2015-10-07 
確定日 2017-06-13 
事件の表示 特願2012-217564「パターン形成方法,半導体製造用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物,及び電子デバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成26年4月21日出願公開,特開2014-71304,請求項の数(22)〕について,次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 
理由 本願は,平成24年9月28日の出願であって,その請求項1?22に係る発明は,特許請求の範囲の請求項1?22に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして,本願については,原査定の拒絶の理由,及び当合議体の拒絶の理由を検討しても,その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また,他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって,結論のとおり審決する。
 
審決日 2017-05-29 
出願番号 特願2012-217564(P2012-217564)
審決分類 P 1 8・ 121- WYF (G03F)
最終処分 成立  
前審関与審査官 石附 直弥  
特許庁審判長 中田 誠
特許庁審判官 清水 康司
樋口 信宏
発明の名称 パターン形成方法、半導体製造用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び電子デバイスの製造方法  
代理人 特許業務法人航栄特許事務所  
代理人 高松 猛  
代理人 尾澤 俊之  

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