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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 G02B
管理番号 1348316
審判番号 不服2017-14094  
総通号数 231 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2019-03-29 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2017-09-22 
確定日 2019-01-23 
事件の表示 特願2014-543725「回折装置」拒絶査定不服審判事件〔平成25年6月6日国際公開,WO2013/078503,平成27年2月12日国内公表,特表2015-504537〕について,次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は,成り立たない。 
理由 第1 事案の概要
1 手続等の経緯
特願2014-543725号(以下「本件出願」という。)は,2012年(平成24年)11月28日(パリ条約による優先権主張外国庁受理 2011年(平成23年)11月30日 オーストラリア)を国際出願日とする出願であって,その後の手続等の経緯は以下のとおりである。
平成26年 8月 7日付け:手続補正書
平成27年11月26日付け:手続補正書
平成28年 8月17日付け:拒絶理由通知書
平成29年 1月19日付け:意見書
平成29年 1月19日付け:手続補正書(以下「本件手続補正書」という。)
平成29年 5月19日付け:拒絶査定(以下「原査定」という。)
平成29年 9月22日付け:審判請求書
なお,審判請求書は,平成29年11月2日付け手続補正書(方式)により補正されている。また,請求の理由を補充することを目的として,平成29年12月21日付け上申書が提出されている。

2 本願発明
本件出願の請求項5に係る発明(以下「本願発明」という。)は,本件手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項5に記載された事項によって特定されるとおりの,次のものである。
「 透明な基材を含む回折セキュリティ装置であって,
該装置が,
前記透明な基材内に又は上に設けられると共に可視光の第1波長に応答する第1回折レリーフ構造と,
少なくとも1つの前記透明な基材内に又は上において可視光の第2波長に応答する第2回折レリーフ構造と,
少なくとも前記透明な基材内に又は上において可視光の第3波長に応答する第3回折レリーフ構造と,
を含み,
照射下において,前記第1回折レリーフ構造は,再構築プレーン内に第1色の第1部分画像を生成し,第2回折レリーフ構造は,前記再構築プレーン内に第2色の第2部分画像を生成し,且つ,前記第3回折レリーフ構造は,前記再構築プレーン内に第3色の第3部分画像を生成し,且つ,前記第1,第2,及び第3回折レリーフ構造は,それぞれが第1,第2及び第3グループのインターレースした画素をそれぞれ含む数値型の回折光学要素(DOE)であり,これによって前記第1,第2及び第3の回折レリーフ構造が互いに少なくとも部分的にインターレースしており,前記部分画像の前記第1,第2,及び第3色は,多色入力画像の3つの色に対応しており,
前記第1,第2,及び第3部分画像は,前記再構築プレーン内において少なくとも部分的にオーバーラップして多色画像を形成する,装置。」

3 原査定の拒絶の理由の概要
原査定は,概略,本願発明は,その優先権主張の日(以下「優先日」という。)前に日本国内又は外国において,頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて,その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから,特許法29条2項の規定により特許を受けることができない,という拒絶の理由を含むものである。
引用文献2:米国特許出願公開第2005/0219668号明細書
引用文献3:特開平7-92890号公報
引用文献4:特開2011-7967号公報
なお,いわゆる主引用例は,引用文献2であり,引用文献3及び引用文献4は,周知技術を示す文献として挙げられたものである。

第2 当合議体の判断
1 引用文献2の記載及び引用発明
(1) 引用文献2の記載
原査定の拒絶の理由で引用され,本件出願の優先日前に頒布された刊行物である前記引用文献2には,以下の事項が記載されている。なお,参考訳中の下線は当合議体が付したものであり,引用発明の認定や判断に活用した箇所を示す。
ア 「[0001] The present invention relates to a hologram and a method for making such a hologram. In particular, the invention relates to a hologram for use in a security device.」
(参考訳:[0001]本発明は,ホログラム及び前記ホログラムを製造する方法に関連するものである。特に,本発明は,セキュリティ装置における使用に関するものである。)

イ 「[0003] In the drive towards increased security, many hologram based validation or authentication techniques are becoming more complex. However, a problem with increasing the complexity of security is that it almost invariably increases the complexity of the procedures required to manufacture the security device and/or the hologram itself. This limits the use of such systems, particularly for applications where mass manufacture techniques are needed in order to make the devices commercially viable.」
(参考訳:[0003]セキュリティの向上を目指して,ホログラムをベースとした検証や認証の多くはより複雑になってきている。しかし,セキュリティが複雑になることに伴う問題は,セキュリティ装置及び/又はホログラム自体の製造に必要な手順もほぼ確実に複雑になるということである。これにより,特に装置を商業的に実現可能なものとするために大量生産が必要な場合,かかるシステムの使用が制限される。)

ウ 「[0004] An object of the present invention is to provide a hologram that overcomes at least some of the problems associated with known holograms.
[0005] Another object of the invention is to provide a hologram based security device that can be mass manufactured.」
(参考訳:[0004]本発明の目的は,既知のホログラムに伴う少なくとも複数の問題を解決するホログラムを提供することである。
[0005]本発明のもう1つの目的は,大量生産が可能なホログラムをベースとするセキュリティ装置を提供することである。)

エ 「[0006] According to one aspect of the invention, there is provided a surface relief hologram that defines two or more patterns, each pattern being sensitive to radiation of different wavelengths one pattern being sensitive to visible radiation and the other pattern being sensitive to invisible radiation. A hologram of this nature can be made using standard processing techniques, and so is capable of mass manufacture. In addition, for security applications, by providing two or more patterns that are sensitive to different wavelengths, an additional barrier to copying is provided, so that security is enhanced.
[0007] Each pattern is defined by relief features that are formed in a suitable substrate. The relief features for each pattern are of different dimensions, so that one pattern is sensitive to light of a first wavelength and the other pattern is sensitive to light at another wavelength. Preferably, the relief features of both patterns are interspersed over the surface of the substrate. Optionally, more than two patterns may be provided, each being sensitive to radiation of different wavelengths.」
(参考訳:[0006]本発明の一様相によると,2つ以上のパターンを特定する表面レリーフホログラムが提供されるが,それぞれのパターンは異なる波長の照射に感度を有しており,1つのパターンは可視光に感度を有し,もう1つのパターンは不可視光線に感度を有する。かかる性質を有するホログラムは標準的な技術を用いて作ることができ,このため大量生産が可能である。さらに,セキュリティへの応用として,異なる波長に感度を持つ2つ以上のパターンを提供することで,さらに複製を防止することができるため,セキュリティが強化される。
[0007]それぞれのパターンは,適切な基板に形成されたレリーフの形状で特定される。各パターンのレリーフの形状は寸法が異なり,あるパターンはある波長の光に感度を有するが,別のパターンは別の波長の光に感度を有する。両方のパターンのレリーフ形状が,基板の表面を覆って散在させられていることが望ましい。また,2つ以上のパターンを提供することができ,そのそれぞれが異なる波長の光に感度を有する。)

オ 「[0017] As a first step, the wavelengths of operation are selected, for example blue and red. Ideally, the wavelengths selected should be spectrally well separated and easily distinguishable visually. Then, the masks that are used to define the hologram are generated or devised using any suitable technique, but preferably using computer software that performs an iterative Fourier transform algorithm for design optimisation. Software of this nature is well known. In this case, however, the algorithm is adapted to do a two-stage optimisation to take into account the relative phase information for the two selected wavelengths of operation. More specifically, as part of the mask optimisation process, the depth of the surface relief features is defined, so that some of the features are sensitive to a first wavelength and some are sensitive to a second wavelength.
[0018] The depth or height of the surface relief features and the refractive index of the material in which they are formed define the wavelengths to which they are sensitive. By defining different depths of different features, some features can be made sensitive to radiation of a first wavelength and others can be made sensitive to radiation of a second wavelength. As is well known, the step size for a surface relief hologram has to be a multiple or function of the wavelength of the illuminating light. Hence, to define patterns having different sensitivities, different etch depths, or more specifically different step heights, are required. Typically, the overall surface relief depth of the features defined is around 2 to 5 microns.
[0019] Following the mask optimisation stage, data files representing the two-dimensional masks are created. These are used to form the masks using any suitable technique, such as photolithography or e-beam lithography. Once the masks are designed, they can be used to form the surface relief hologram. This can be done using either photolithography or e-beam techniques.」
(参考訳:[0017]第1のステップとして,例えば青と赤など,使用する波長を選択する。選択した波長は,スペクトルを十分離し,視覚的に容易に区別できることが理想である。そして,ホログラムを決定するために用いるマスクは,適切な技術を用いて生成又は考案されるが,設計最適化のために,相互フーリエ変換アルゴリズムを実行するコンピュータソフトウェアを用いることが望ましい。この特性を持つソフトウェアはよく知られている。しかし,この場合,前記アルゴリズムは,選択された2つの使用波長の相対位相情報を考慮するための2段階の最適化を実行するために変更される。具体的には,マスクの最適化工程の一環として,表面レリーフの形状の深さが決定されるため,ある波長に感度を有する形状もあれば,別の波長に感度を有する形状もある。
[0018]表面レリーフの形状の深さ又は高さ及びレリーフが形成される素材の屈折率は,それが感度を有する波長を決定する。異なる形状の異なる深さを決定することで,ある光に感度を有する形状を作製することもできれば,別の波長の光に感度を有する他の形状を作製することもできる。よく知られているように,表面レリーフホログラムのステップサイズは,照射光の波長の倍数又は関数としなければならない。したがって,異なる感度を持つパターンを決定するためには,エッチングの深さ又はより具体的にはステップの高さが異なっている必要がある。典型的には,決定される形状の表面レリーフの深さは,全体的におおよそ2?5ミクロンである。
[0019]マスク最適化の工程に続いて,2次元のマスクを表すデータファイルが生成される。これらは,フォトリソグラフィー又は電子ビームリソグラフィなどのあらゆる最適な技術を用いたマスクの製造のために用いられる。マスクが設計されると,これらは表面レリーフホログラムを製造するために用いられる。これは,フォトリソグラフィー又は電子ビーム技術を用いて行うことができる。)

カ 「[0023] Because the hologram defined using the steps illustrated in FIG. 1 has features that are of different dimensions, when the hologram is illuminated with radiation of suitable wavelengths, different patterns can be viewed. For example, in the case where blue light and red light are chosen as the wavelengths of interest, when the hologram is illuminated with red light, only the red pattern can be seen. This is shown as Pattern 1 in FIG. 2(a). Likewise, when the hologram is illuminated with blue radiation, only the blue pattern can be seen, see Pattern 2 in FIG. 2(b). Of course, when the hologram is simultaneously illuminated with red and blue radiation, both patterns can be seen, see FIG. 2(c).」
(参考訳:[0023]図1に示す段階により決定されたホログラムは異なる寸法の形状を有するため,適切な波長の光でホログラムを照射する場合,異なるパターンが見える。例えば,対象となる波長として青い光と赤い光を選択した場合は,ホログラムが赤い光で照射されると,赤いパターンのみが見られる。これは,図2(a)においてパターン1として示されている。同様に,ホログラムが青い光で照射されると,青いパターンのみが見られる(図2(b)のパターン2を参照のこと)。もちろん,ホログラムを赤と青の光で同時に照射すると,両方のパターンが見られる(図2(c)を参照のこと)。)
(当合議体注:図2(a)?図2(c)は以下の図である。

)

キ 「[0024] The main property of the hologram in which the invention is embodied is that it is a single diffractive surface relief element that can reconstruct distinct intensity patterns in the far field on illumination with light of different wavelengths. As will be appreciated, it could be designed to work in either a reflection or a transmission mode, depending on what is most convenient for a particular application. It is also capable of mass manufacture using a variety of replication and embossing techniques, so that many copies of the hologram can be made in a relatively simple manner. Techniques for replicating surface relief holograms are well known. In addition, assuming the wavelengths have been appropriately selected, the encoded patterns can be interrogated using very low cost and low power light emitting diodes. All of these features widen the scope for practical applications.
[0025] The surface relief hologram described above can be used in a security label or device. The hologram can be incorporated into the security device in any suitable manner. For example, the hologram may be provided in a laminated structure, such as a credit card or other security card. Of course, any coating applied to the hologram would have to be transmissive to the wavelengths that the hologram is sensitive to. Because it is relatively easy to replicate from a manufacturing perspective, but difficult to interpret the patterns without knowledge of both of the wavelengths, there is provided a high level of security in a device that can be readily mass manufactured.」
(参考訳:[0024]本発明が実施されているホログラムの主な特性は,異なる波長の光を用いれば広範囲の照射でも異なる強度パターンを再構成することが可能な単一の回折表面レリーフの要素である。特定の用途に対して都合のよさに応じて,反射モード又は透過モードのいずれにおいても機能するよう設計することができることが理解されるであろう。また,様々な複製技術とエンボス技術を使うことで大量生産ができる可能性があり,それにより,比較的簡単な方法で,ホログラムの複製を数多く作ることができる。表面レリーフホログラムを複製する技術はよく知られている。さらに,波長が適切に選定されているとすると,符号化されたパターンは極めて低コストで,かつ低出力の発光ダイオードを用いて読み取ることができる。こうしたあらゆる特徴により,実用的な用途の範囲が広がる。
[0025]上記表面レリーフホログラムはセキュリティラベルやセキュリティ装置で使うことができる。ホログラムは適切であればどのような方法でも,セキュリティ装置に組み込むことができる。例えば,ホログラムは,クレジットカードやその他のセキュリティカードのような積層構造に組み込むことができる。もちろん,ホログラムに施されるコーティングは,ホログラムが感度を有する波長が透過できるものでなくてはならない。製造の観点からは複製は比較的容易であるが,両方の波長の知識がなければパターンを理解することは難しいため,大量生産が容易な装置に高レベルのセキュリティを提供することが可能である。)

ク 3頁右欄10?16行
「8. A security device or label that includes a surface relief hologram, that defines a plurality of patterns, each pattern being sensitive to radiation of different wavelengths.
9. A security device or label as claimed in claim 8, wherein one pattern is sensitive to radiation that is visible to the unaided eye and the other is sensitive to radiation that is invisible to the unaided eye.」
(参考訳:8.表面レリーフホログラムを含むセキュリティ装置又はラベルで,複数のパターンを決定し,各パターンは異なる波長の光に感度を有する。
9.請求項8に記載のセキュリティ装置又はラベルで,1つのパターンは視力補助なしの肉眼で見える光線に感度を有し,別のパターンは視力補助なしの肉眼には見えない光に感度を有する。)

(2) 引用発明
引用文献2の[0017]?[0025]には,青いパターンと赤いパターンを見ることができる,表面レリーフホログラムとして,次の発明が記載されている(以下「引用発明」という。)。
「 赤い光で照射されると,赤いパターンのみが見られ,青い光で照射されると,青いパターンのみが見られ,赤と青の光で同時に照射すると,両方のパターンが見られる表面レリーフホログラムであって,
表面レリーフホログラムを決定するために用いるマスクは,設計最適化のために,相互フーリエ変換アルゴリズムを実行するコンピュータソフトウェアを用い,ここで,表面レリーフホログラムのステップサイズは,照射光の波長の倍数又は関数としなければならないため,異なる感度を持つパターンを決定するためにはステップの高さが異なっている必要があり,マスク最適化の工程に続いて,2次元のマスクを表すデータファイルが生成され,マスクが設計されると,これらは表面レリーフホログラムを製造するために用いられ,
表面レリーフホログラムは,異なる波長の光を用いれば広範囲の照射でも異なる強度パターンを再構成することが可能な単一の回折表面レリーフの要素であり,反射モード又は透過モードのいずれにおいても機能するよう設計することができ,複製技術とエンボス技術を使うことで大量生産ができ,波長が適切に選定されていると低出力の発光ダイオードを用いて読み取ることができ,
セキュリティラベルやセキュリティ装置で使うことができる,
表面レリーフホログラム。」

(3) 引用文献3の記載
原査定の拒絶の理由で引用され,本件出願の優先日前に頒布された刊行物である前記引用文献3には,以下の事項が記載されている。
ア 「【0001】
【産業上の利用分野】本発明は2種類以上の波長の光を選択的に回折する必要のあるホログラムオプティカルエレメント,特に多色表示に好適なホログラム記録シート,および多色表示ヘッドアップディスプレイ,多色ディスプレイホログラムに関する。」

イ 「【0015】
【実施例】本発明のホログラム記録シートは,図1,図2に示すようにフィルム1に網点,あるいはストライプ状に青感光性,緑感光性,赤感光性のホログラム記録感材2,3,4を形成する。」
(当合議体注:図1は以下の図である。

)

ウ 「【0021】…(省略)…レリーフホログラムの場合は,CGH(計算機生成ホログラム)により作製することも可能である。」

(4) 引用文献4の記載
原査定の拒絶の理由で引用され,本件出願の優先日前に頒布された刊行物である前記引用文献4には,以下の事項が記載されている。
ア 「【0001】
本発明は,多重回折格子記録媒体及び機械読取装置に関する。特に,偽造防止及び機械読み取りを考慮した回折格子記録媒体に関する。」

イ 「【0030】
図1(a)に示す第一の画素パターンを用いたモチーフAと,図1(b)に示す第二の画素パターンを用いたモチーフBとを重ねて配置し記録すると,図1(c)に示すような,多重回折格子記録媒体が得られる。多重回折格子記録媒体は,モチーフAを構成する第一の画素パターン(P1),モチーフBを構成する第二の画素パターン(P2)及び第一の画素パターン(P1)と第二の画素パターン(P2)とが画素を共有する,多重画素パターン(P3)から構成される。
【0031】
そこで,多重画素パターン(P3)の一つの画素を,さらに,図1(d)に示すように,任意のm行n列に分割し,この分割されたm行n列に配置された微小画素から構成された「単位微小画素配列」というものを定義する。
…(省略)…
【0036】
本発明に係る多重回折格子記録媒体は,複数の画素の集合によって構成されるモチーフを,媒体上に多重回折格子として表現するものである。」
(当合議体注:図1は以下の図である。

)

ウ 「【0038】
以下に説明する各処理は,いずれもコンピュータを用いて実行されるものであり,モチーフに対応する画像データとして用意されるモチーフ画像情報は,ラスター画像データと呼ばれる一般的な画像データを公知の作画装置によって作成したり,紙上に描かれたデザインをスキャナ装置で取り込んでモチーフ画像情報を用意してもよく,詳細な記載は省略する。
…(省略)…
【0040】
一般に,回折格子を利用して所定の図柄等を表現する場合,図柄等を複数の領域の集合で構成し,各領域内に所定の回折格子パターンを配置する。このとき,各領域ごとに,配置する回折格子パターンを異ならせる。つまり,格子線のピッチや配置角度を変えることにより,視覚的に変化に富んだ図柄等を観察することができることは周知となっている。
…(省略)…
【0042】
第一の画素パターンと第二の画素パターンとが重複した多重画素パターン部分の一つの画素を,さらに,任意のm行n列の微小な画素に分割し,この分割されたm行n列に微小画素を配置して単位微小画素配列を構成し,各微小画素にはモチーフAの第一の画素パターンかモチーフBの第二の画素パターンのどちらかを割り付けることにする。」

エ 「【0060】
…(省略)…図4(b)は,画素パターンにおける回折格子の格子間隔(d)の変化による色彩の違いを示す図であり,格子間隔(d)は一意に決まっている必要はなく,可視光で観察時に見ることができるように,あらかじめ設計した格子間隔(d)で格子パターンを作成すればよく,格子間隔(d)の値を500,550,600,650,700と徐々に変化させることでモチーフの色彩が,例えば黄色,やまぶき色,橙色,朱色,赤色と切り替わるように表現することが可能である。」
(当合議体注:図4は以下の図である。

)

2 対比及び判断
(1) 対比
本願発明と引用発明を対比すると,以下のとおりとなる。
ア 回折セキュリティ装置
引用発明の「表面レリーフホログラム」は,「反射モード又は透過モードのいずれにおいても機能するよう設計することができ」る。そうしてみると,引用発明の「表面レリーフホログラム」は,少なくとも透過モードで設計された場合において,透明な基材の表面に形成されたものといえる。
また,引用発明の「表面レリーフホログラム」は,「単一の回折表面レリーフの要素であ」り,かつ,「セキュリティラベルやセキュリティ装置で使うことができる」。そうしてみると,引用発明の「表面レリーフホログラム」は,回折セキュリティ装置ということができる。
以上勘案すると,引用発明の「表面レリーフホログラム」は,本願発明の「装置」に相当し,また,本願発明の「装置」の「透明な基材を含む回折セキュリティ装置」という要件を満たすといえる。

イ 回折レリーフ構造
引用発明の「表面レリーフホログラム」は,「単一の回折表面レリーフの要素」であるが,色毎に分けて考えると,赤い光に感度を有する回折表面レリーフ形状と,青い光に感度を有する回折表面レリーフ形状が,単一の基材の表面に形成されている(引用文献2の[0007]の記載からも確認できる事項である。)。また,本願発明の「第1波長」及び「第2波長」は,それぞれ「赤」及び「青」であってよい。
そうしてみると,引用発明の「表面レリーフホログラム」は,1つの透明な基材の表面に形成されるとともに,可視光の赤の波長に応答する回折表面レリーフ形状(以下「赤の回折レリーフ形状」という。)と,1つの透明な基材の表面に形成されるとともに,可視光の青の波長に応答する回折表面レリーフ形状(以下「青の回折レリーフ形状」という。)を含むものといえる。
以上勘案すると,引用発明の「赤の回折レリーフ形状」及び「青の回折レリーフ形状」は,それぞれ,本願発明の「第1回折レリーフ構造」及び「第2回折レリーフ構造」に相当する。そして,引用発明の「表面レリーフホログラム」と本願発明の「装置」は,「前記透明な基材内に又は上に設けられると共に可視光の第1波長に応答する第1回折レリーフ構造と」,「少なくとも1つの前記透明な基材内に又は上において可視光の第2波長に応答する第2回折レリーフ構造と」を含む点において共通する。

ウ 部分画像
引用発明の「表面レリーフホログラム」は,「赤い光で照射されると,赤いパターンのみが見られ,青い光で照射されると,青いパターンのみが見られ」るものである。ここで,引用発明の「赤いパターン」及び「青いパターン」が,それぞれ「赤の回折レリーフ形状」及び「青の回折レリーフ形状」によって生成される画像であることは技術常識である。また,引用発明は,「赤と青の光で同時に照射すると,両方のパターンが見られる」ところ,その位置は「再構築プレーン」ということができる。
そうしてみると,引用発明の「表面レリーフホログラム」と本願発明の「装置」は,「照射下において,前記第1回折レリーフ構造は,再構築プレーン内に第1色の第1部分画像を生成し,第2回折レリーフ構造は,前記再構築プレーン内に第2色の第2部分画像を生成し」という点において共通する。

(2) 一致点及び相違点
ア 一致点
以上勘案すると,本願発明と引用発明は,次の構成で一致する。
「 透明な基材を含む回折セキュリティ装置であって,
該装置が,
前記透明な基材内に又は上に設けられると共に可視光の第1波長に応答する第1回折レリーフ構造と,
少なくとも1つの前記透明な基材内に又は上において可視光の第2波長に応答する第2回折レリーフ構造と,
を含み,
照射下において,前記第1回折レリーフ構造は,再構築プレーン内に第1色の第1部分画像を生成し,第2回折レリーフ構造は,前記再構築プレーン内に第2色の第2部分画像を生成する,装置。」

イ 相違点
本願発明と引用発明は,以下の点で相違する。
(相違点1)
「装置」に関して,本願発明は,「少なくとも前記透明な基材内に又は上において可視光の第3波長に応答する第3回折レリーフ構造」を具備し,「前記第3回折レリーフ構造は,前記再構築プレーン内に第3色の第3部分画像を生成し」,「前記部分画像の前記第1,第2,及び第3色は,多色入力画像の3つの色に対応しており」,「前記第1,第2,及び第3部分画像は,前記再構築プレーン内において少なくとも部分的にオーバーラップして多色画像を形成する」のに対して,引用発明は,「少なくとも前記透明な基材内に又は上において可視光の第3波長に応答する第3回折レリーフ構造」を具備するとはいえず,その結果,「前記第3回折レリーフ構造は,前記再構築プレーン内に第3色の第3部分画像を生成し」,「前記部分画像の前記第1,第2,及び第3色は,多色入力画像の3つの色に対応しており」,「前記第1,第2,及び第3部分画像は,前記再構築プレーン内において少なくとも部分的にオーバーラップして多色画像を形成する」ともいえない点。

(相違点2)
「装置」に関して,本願発明は,「前記第1,第2,及び第3回折レリーフ構造は,それぞれが第1,第2及び第3グループのインターレースした画素をそれぞれ含む数値型の回折光学要素(DOE)であり,これによって前記第1,第2及び第3の回折レリーフ構造が互いに少なくとも部分的にインターレースしており」という構成を具備するのに対して,引用発明は,この構成を具備するとはいえない点。

(3) 判断
ア 相違点1について
引用発明の「表面レリーフホログラム」は,「異なる波長の光を用いれば広範囲の照射でも異なる強度パターンを再構成することが可能な」ものであり,「波長が適切に選定されていると低出力の発光ダイオードを用いて読み取ることができ」るものである。
また,引用文献2の[0006]の「セキュリティへの応用として,異なる波長に感度を持つ2つ以上のパターンを提供することで,さらに複製を防止することができるため,セキュリティが強化される」という記載,及び[0007]の「両方のパターンのレリーフ形状が,基板の表面を覆って散在させられていることが望ましい」という記載からみて,引用発明の「表面レリーフホログラム」は,波長の数が多い方が,また,パターンは複雑・精巧な方が,セキュリティ強化に有効であるといえる(この点は,技術常識でもある。)。
そうしてみると,引用発明の「表面レリーフホログラム」において,赤及び青に加えて,緑の発光ダイオードを用いて読み取ることもできるように,「赤の回折レリーフ形状」及び「青の回折レリーフ形状」に「緑の回折レリーフ形状」を追加して,赤,緑,青のパターンが重なった多色の入力画像を再現するようなものとすることは,引用文献2の記載が示唆する範囲内の,色数及び図柄の設計にすぎないといえる。
そして,このようにしてなる引用発明の「表面レリーフホログラム」は,相違点1に係る本願発明の構成を具備したものとなる。

イ 相違点2について
当業者ならば,多色画像を表示するために,異なる波長の光に感度を有する画素をインターレースさせることによって,ホログラムを構成することを,周知技術として心得ている。例えば,引用文献3の図1からは,R,G,Bをインターレースさせて多色画像を表示できることが看取される。また,引用文献4の図1及び図4からも,異なる波長の光に感度を有する画素をインターレースさせることによって図柄を表示できることが看取され,加えて,【0040】のような記載もある。
ここで,引用発明の「表面レリーフホログラムを決定するために用いるマスクは,設計最適化のために,相互フーリエ変換アルゴリズムを実行するコンピュータソフトウェアを用い,ここで,表面レリーフホログラムのステップサイズは,照射光の波長の倍数又は関数としなければならないため,異なる感度を持つパターンを決定するためにはステップの高さが異なっている必要があり,マスク最適化の工程に続いて,2次元のマスクを表すデータファイルが生成され,マスクが設計されると,これらは表面レリーフホログラムを製造するために用いられ」るものである。また,引用発明の「表面レリーフホログラムは,異なる波長の光を用いれば広範囲の照射でも異なる強度パターンを再構成することが可能な単一の回折表面レリーフの要素であ」るところ,引用文献2の[0007]には,「両方のパターンのレリーフ形状が,基板の表面を覆って散在させられていることが望ましい」と記載されている。
そうしてみると,周知技術を心得た当業者が,引用発明を,前記アで述べたとおりの赤,緑,青の多色画像の表面レリーフホログラムとして具体化するに際して,「赤の回折レリーフ形状」,「緑の回折レリーフ形状」及び「青の回折レリーフ形状」を,赤,緑,青のパターンのインターレースした画素を含む,コンピュータソフトウェアを用いた数値演算による回折表面レリーフ形状のものとし,これによって,赤,緑,青の回折レリーフ形状が互いにインターレースしたものとすることは,引用発明の構成を前提とした当業者が採用する選択肢の一つにすぎないといえる。
そして,このようにしてなる引用発明の「表面レリーフホログラム」は,相違点2に係る本願発明の構成を具備したものとなる。

ウ 事案に鑑みて,さらに具体的に検討する。
本願発明の「前記第1,第2,及び第3回折レリーフ構造は,それぞれが第1,第2及び第3グループのインターレースした画素をそれぞれ含む数値型の回折光学要素(DOE)であり,これによって前記第1,第2及び第3の回折レリーフ構造が互いに少なくとも部分的にインターレースして」いる。そして,本件出願の【図1】には,明細書の【0037】?【0040】の記載とともに,本願発明の具体例として,緑色を背景とした赤色の文字「E」及び青色の文字「P」が形成された装置が看取される。また,【図1】からは,文字「E」を表すピクセルにおいては,正方形(□)と円(○)が組み合わされており,文字「P」を表すピクセルにおいては,正方形(□)とダイアモンド(◇)が組み合わされている様子が看取される。すなわち,本件出願の【図1】から看取される装置は,回折レリーフ構造としては,緑色の回折レリーフ構造と赤色の回折レリーフ構造が組み合わされ,また,緑色の回折レリーフ構造と青色の回折レリーフ構造が組み合わされたものといえる。
(当合議体注:図1は以下の図である。

)
そこで,上記ア及びイで述べたとおり,引用発明に基づいて容易推考した場合に,本件出願の【図1】と同様のものが得られるかを検討すると,以下のとおりとなる。
すなわち,前記アで述べたとおり,セキュリティ強化を考慮した当業者ならば,引用発明の「表面レリーフホログラム」を,赤,緑,青のパターンが重なった多色画像を形成すると考えられる。また,前記イで述べたとおり,周知技術を心得た当業者ならば,例えば,緑と赤が重なる部分においては緑の回折レリーフ形状と赤の回折レリーフ形状を組み合わせることになるし,緑と青が重なる部分においては,緑の回折レリーフ形状と青の回折レリーフ形状を組み合わせることになる。また,マスクとしては,このような赤,緑,青の回折レリーフ形状の組み合わせたものを,コンピュータソフトウェアを用いた計算により設計することとなる。

エ 本願発明の効果について
本件出願の発明の詳細な説明には,本願発明の効果に関する明示的な記載がない。
ただし,本願発明の発明が解決しようとする課題に関して,明細書の【0013】には,「更に高度な有色画像を生成する能力を有する回折装置を提供することが望ましいであろう。」と記載されている。したがって,このような課題を解決することが,本願発明の効果と考えられる。
しかしながら,このような効果は,前記ア?ウのように容易推考する当業者が期待する効果にすぎない。

オ 小括
以上のとおりであるから,本願発明は,周知技術を心得た当業者が,引用発明に基づいて容易に発明をすることができたものである。

(4) 請求人の主張について
ア インターレースについて
請求人は,審判請求書において,概略,周知技術のものは,本願発明でいう「インターレース」したものではないと主張する。
ここで,「インターレース」とは,通常,「走査方式の一つ。1回の画面表示を奇数段目と偶数段目の2回の走査に分けて行うもの。」(広辞苑6版)を意味する。ただし,当業者ならば,本願発明でいう「インターレース」が,上記走査方式そのものを意味するのではなく,上記走査方法が前提とする画素の配置,すなわち「interlace」(織り交ぜる,組み合わせる)と表現され得る画素の配置を意味するものと理解することができる。
そして,前記(3)イで述べたとおり,周知技術のホログラムもまた,引用文献3の図1や引用文献4の図1から看取されるとおり,インターレースしたものにほかならない。

請求人は,引用文献3の図1のものは,インターレースではないと主張している。そして,この主張は,R,G,Bが全面的に網点として配置されていることを根拠としたものと解される。
しかしながら,特許請求の範囲には「前記第1,第2及び第3の回折レリーフ構造が互いに少なくとも部分的にインターレースしており」と記載されているから,本願発明は,前記第1,第2及び第3の回折レリーフ構造が互いに全てインターレースしている場合を含むものである。
また,部分的なインターレースの場合のみ考えたとしても,結論は変わらない。すなわち,引用文献3の図1は,青感光性,緑感光性,赤感光性のホログラム記録感材2,3,4を形成する場合の態様である(例えば,青及び緑を表示する画素においては,青感光性のホログラム記録感材2及び緑感光性のホログラム記録感材3のみが感光されて青と緑の干渉構造が形成され,赤の干渉構造は形成されないことを前提としている。)。他方,引用文献3の【0021】において言及された計算機生成ホログラムにより作製されるレリーフホログラムを前提とする場合には,図柄に合わせて記録感材2,3,4を部分的に感光させることに替えて,必然的に,図柄に合わせて青,緑,赤のレリーフを部分的に形成することとなる(例えば,青及び緑を表示する画素においては,計算機により青に感度を有するマスクデータ及び緑に感度を有するマスクデータのみが生成されて青と緑の表面レリーフが形成され,赤に感度を有する表面レリーフは形成されないこととなる。)。
したがって,請求人の主張は採用できない。

イ 数値型の回折光学要素(DOE)について
請求人は,上申書において,概略,ボリュームホログラムと,コンピュータホログラム及び数値型の回折光学要素の相違を主張する。
しかしながら,引用発明において,「表面レリーフホログラムを決定するために用いるマスクは,設計最適化のために,相互フーリエ変換アルゴリズムを実行するコンピュータソフトウェアを用い」て設計される。そうしてみると,引用発明の表面レリーフは,本願発明でいう数値型の回折光学要素(DOE)といえる。また,引用文献3において,主に論じられているものはボリュームホログラムであるとしても,【0021】で言及されているレリーフは,本願発明でいう数値型の回折光学要素(DOE)といえる。さらに,引用文献4に記載のものも,コンピュータによって作製される回折格子パターンであるから,その画素は,本願発明でいう数値型の回折光学要素(DOE)といえる。
したがって,請求人の主張は採用できない。

第3 まとめ
以上のとおりであるから,本願発明は,特許法29条2項の規定により特許を受けることができない。
したがって,他の請求項に係る発明について検討するまでもなく,本件出願は拒絶されるべきものである。
よって,結論のとおり審決する。
 
別掲
 
審理終結日 2018-08-14 
結審通知日 2018-08-20 
審決日 2018-09-06 
出願番号 特願2014-543725(P2014-543725)
審決分類 P 1 8・ 121- Z (G02B)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 福村 拓清水 裕勝  
特許庁審判長 中田 誠
特許庁審判官 関根 洋之
樋口 信宏
発明の名称 回折装置  
代理人 田中 伸一郎  
代理人 弟子丸 健  
代理人 須田 洋之  
代理人 上杉 浩  
代理人 西島 孝喜  
代理人 ▲吉▼田 和彦  
代理人 大塚 文昭  
代理人 近藤 直樹  
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