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| 審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由) C23C |
|---|---|
| 管理番号 | 1319784 |
| 審判番号 | 不服2014-18756 |
| 総通号数 | 203 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2016-11-25 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2014-09-19 |
| 確定日 | 2016-09-20 |
| 事件の表示 | 特願2011-508600「電子デバイス又は他の物品上のコーティングに使用するハイブリッド層」拒絶査定不服審判事件〔平成22年 1月28日国際公開、WO2010/011390、平成23年 7月14日国内公表、特表2011-520041〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
第1.手続の経緯 本願は、平成21年5月5日(パリ条約による優先権主張外国庁受理2008年5月7日 米国)を国際出願日とする出願であって、平成25年9月5日付けで拒絶理由が通知され、平成26年5月15日付けで拒絶査定がされ、同年9月19日付けで拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正書が提出され、平成27年7月27日付けで平成26年9月19日付けの手続補正が却下されて拒絶理由が通知され、平成28年2月3日付けで意見書及び手続補正書が提出されたものである。 第2.本願発明 本願の請求項1に係る発明は、平成28年2月3日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項1に記載された下記の事項により特定されるものである。 「【請求項1】 有機デバイス本体の基礎部として機能する表面に配置された前記有機デバイス本体を有する電子デバイスを保護するための方法であって、 前駆体物質の原料を提供する工程と、 前記電子デバイスに近接する反応位置に前記前駆体物質を移動する工程と、 前記前駆体物質の原料を使用する化学気相成長法によって前記有機デバイス本体上に第1のハイブリッド層を堆積する工程であり、前記第1のハイブリッド層がポリマー材料と非ポリマー材料との混合物を含み、ポリマー材料の非ポリマー材料に対する重量比が95:5?5:95の範囲であり、ポリマー材料及び非ポリマー材料が同一の前駆体物質原料から形成され、前記第1のハイブリッド層が、前記有機デバイス本体のエッジを超えて、前記有機デバイス本体の側面を下方に延びるように、また前記有機デバイス本体の基礎部として機能する前記表面上に延在するように堆積される工程と、 前記有機デバイス本体の周囲に近接する1つ又は複数の領域にエッジバリアを配置する工程と、を含む方法。」(以下、「本願発明1」という。) 第3.当審における拒絶理由の概要 平成27年7月27日付けの当審からの拒絶理由(以下、「当審拒絶理由」という。)の理由2)は、「本件出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。」というものである。 第4.本願発明に対する判断 1.引用例及び引用例の記載事項 本件優先日前に日本国内において頒布され、当審拒絶理由で刊行物として引用した次の引用例に記載された発明について検討する。 引用例1:国際公開第2005/51525号 引用例2:特開2001-326070号公報 (1)引用例1の記載事項 引用例1(国際公開第2005/51525号)には、「DESICCANT FILM IN TOP-EMITTING OLED」(当審の訳:「トップエミッション型OLEDの乾燥剤膜」)(発明の名称)について、次の記載がある。 (ア)「[0042] In accordance with another particular aspect of the invention, organic light emitting diodes are supported on a transparent substrate which is impermeable to oxygen and water vapor, and they are encapsulated with a flexible barrier having improved impermeability, where the improvement comprises a single coating layer having multiple gradual or oscillating changes of at least one property of the coating material, which are spatially continuous thus exhibiting modulated properties along its thickness.・・・」 (当審の訳「[0042]本発明の別の特定の態様によれば、有機発光ダイオードは、酸素及び水蒸気に対して不透過な透明基板上に支持されており、可撓性バリアで封入されることにより、不透過性が向上し、不透過性の向上は、少なくとも1つの徐々に又は振動的に複数回特性が変化するコーティング材料からなる単一コーティング層を含み、コーティング材料は、厚さ方向に沿って空間的に連続的に特性が変調している。・・・」) (イ)「[0092] Fig. 8 shows an OLED device (200) on a flexible substrate (100) comprising a barrier-coating with modulated properties (10) therein, and enclosed using an encapsulating mean (40) which comprises the coating with modulated properties (410). a) thin film encapsulation, where the barrier-coating with modulated properties (410) is deposited onto a passivation layer (440), which, in turn, is in contact with OLED components (50). ・・・ c) thin film encapsulation using the coating with modulated properties (410).」 (当審の訳「[0092]図8には、変調特性(10)を有するバリア膜を含むフレキシブル基板(100)上のOLED装置(200)が示されており、OLED装置は、変調特性を有するコーティング(410)を含む封入手段(40)を用いて封入される。a)変調特性(410)を有するバリア膜(410)が、OLED要素(50)と接触するパッシベーション層(440)上に堆積された薄膜封入。 ・・・ c)変調特性(410)を有するコーティングを用いた薄膜封入。」) (ウ)「[0094] A coupon of optical grade polyester film (PET) was placed into a PECVD vacuum chamber, directly onto the powered electrode. The chamber was evacuated and deposition of silica (SiO_(2))- like coating was performed in an RF plasma discharge (13.56 MHz, 80 W) using a mixture of hexamethyldisiloxane (HMDSO)/ O_(2) /Ar at an approximate molar ratio of 1:8:3, respectively. During the deposition, oxygen flow was smoothly modulated manually from a high content (1:8:3) to a low content (1:0:3), then back again to a high content. After 5 minutes, during which the concentration of oxygen in the chamber was changed twice, HMDSO flow was terminated, thus causing a gradual decrease in the concentration of silicon source gas in the plasma. The sample, across its entire thickness, was then composed of the PET substrate in contact with silica, which gradually changed to plasma-polymerized HMDSO, then gradually changing back to silica, which was finally modified at the surface by the final exposure to oxygen/argon plasma. The sample had a hydrophilic surface, displaying a low water contact angle (10°).」 (当審の訳「[0094]光学グレードのポリエステル(PET)薄膜片を直接給電電極上に、PECVD真空チャンバ内に配置した。チャンバを排気し、シリカ(SiO_(2))様のコーティングを、おおよそのモル比で1:8:3となるヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)/O_(2)/Aｒの混合ガスを用いたRFプラズマ放電(13.56MHｚ、80W)で行った。堆積中に、酸素の流量を、高含有量の1:8:3から、低含有量の1:0:3へと滑らかに変調させ、その後、再び高含有量へ手動で変調した。チャンバ内の酸素濃度を2回変更した5分後に、HMDSOの流量を停止させ、徐々にプラズマ中のシリコンソースガスの濃度を減少させた。サンプルは、その厚さ全体にわたって、PET基板がシリカと接触し、緩やかにプラズマ重合HMDSOに変化した後、徐々にシリカに戻り、最終的に酸素/アルゴンプラズマへの曝露により表面が修飾された。このサンプルは、低い水接触角(＜10°)を示す親水性表面を有していた。」) (エ)図8C  (2)引用例2の記載事項 引用例2(特開2001-326070号公報)には、「有機EL素子」(発明の名称)について、次の記載がある (オ)「【0029】また、本実施形態の保護膜8としては、次に示す様な変形例も可能である。図2は、第1の変形例を示す概略断面図であり、保護膜8を、金属または半導体と有機物との化合物よりなる膜(以下、化合物膜という)8aの上に無機物よりなる無機膜8bを少なくとも1層以上成膜してなるものとしている。つまり、図2に示す無機膜8bは、1層のものでも2層以上の積層構造のものでも良い。 【0030】限定するものではないが、この第1の変形例の具体的な製造方法を示す。上記同様に、透明基板1上に構造体2?7及び化合物膜(Si-C_(ｘ)H_(ｙ)膜)8aを形成する。次に、この上に、Siをターゲットにして反応性直流スパッタ法により、N_(2)とAｒの混合ガスを用い、スパッタパワー:4kW、ガス圧:0.1Pa、基板温度:室温の成膜条件にて、無機膜8bとして膜厚100nmのSiN膜を成膜する。 【0031】図2に示す第1の変形例によれば、上記図1において保護膜8の上を更に無機膜8bで被覆した形となるため、上記した保護膜8による効果に加えて、更に、水分の侵入防止を確実にすることができる。」 (カ)図2  2.引用発明の認定 記載事項(イ)(エ)によれば、引用例1には、可撓性の基板上に配置されたOLED要素を囲むように、変調特性を有するバリア膜を形成することが記載されている。 記載事項(ウ)によれば、引用例1には、「ポリエステル(PET)薄膜片が直接給電電極上に配置されたPECVD真空チャンバに、ヘキサメチルジシロキサン、酸素及びアルゴンからなる混合ガスを、酸素の割合を滑らかに変調させながら供給しつつ、RFプラズマ電力を供給することにより、PET基板に接する部分がシリカからなり、徐々に組成がプラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサンへと変化し、再度徐々にシリカへと戻る組成を有するバリア膜を堆積すること」が記載されている。 したがって、引用例1には、 「可撓性のPET基板上に、上面及び側面を有するOLED要素が配置されたOLED装置の、OLED要素の上面及び側面を囲む、変調特性を有するバリアコーティングを形成する方法であって、 真空チャンバにヘキサメチルジシロキサンを提供し、 ヘキサメチルジシロキサンに、酸素及びアルゴンを混合した混合ガスを、酸素の割合を滑らかに変調させながら供給することにより、PET基板に接する部分がシリカからなり、徐々に組成がプラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサンへと変化し、徐々にシリカへと変化する組成を有するバリア膜を、PECVD法により堆積する方法。」が記載されている(以下、「引用発明1」という)。 3.対比 本願発明1と引用発明1とを対比する。 引用発明1の「OLED要素」は、本願発明1の「有機デバイス本体」に相当し、以下同様に、「可撓性のPET基板」は「基礎部」に、「OLED装置」は「電子デバイス」に、「ヘキサメチルジシロキサン」は「前駆体物質」に、「PECVD法」は「化学気相成長法」に、「プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサン」は「ポリマー材料」に、「シリカ」は「非ポリマー材料」に相当する。 引用発明1においては、可撓性のPET基板を直接給電電極上に配置してRFプラズマ電力を供給していることから、ヘキサメチルジシロキサンの重合反応、又は、ヘキサメチルジシロキサンと酸素との反応は、OLED装置に近接する位置で行われているといえるから、引用発明1は、OLED装置に近接する反応位置に、ヘキサメチルジシロキサンを移動する工程を有している。 引用発明1においては、「バリア膜」は、ヘキサメチルジシロキサン、酸素及びアルゴンからなる混合ガスを、酸素の割合を「滑らかに」変調させながら供給することにより、組成が「シリカ」から「プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサン」へと「徐々に」変化した後、「徐々に」「シリカ」へと戻るものである。 ここで、「シリカ」は100%非ポリマー材料であり、「プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサン」は100%ポリマー材料であるから、「シリカ」と「プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサン」との間の部分は、「ポリマー材料」と「非ポリマー材料」との「混合物」を含む「ハイブリッド層」であり、該混合物中における組成変化は、「徐々に」行われるものであるから、該混合物中には、「ポリマー材料の非ポリマー材料に対する重量比が95:5?5:95の範囲」となる領域が含まれているといえる。 引用発明1の「バリア膜」は、「上面及び側面を有するOLED要素」の、「側面」にも形成されるものであって、OLED要素の「側面を下方に延びるように堆積され」ており、「PET基板に接する部分」が存在することから、「PET基板」の「表面上」に「延在」している。 したがって、本願発明1と引用発明1とは、「有機デバイス本体の基礎部として機能する表面に配置された前記有機デバイス本体を有する電子デバイスを保護するための方法であって、 前駆体物質の原料を提供する工程と、 前記電子デバイスに近接する反応位置に前記前駆体物質を移動する工程と、 前記前駆体物質の原料を使用する化学気相成長法によって前記有機デバイス本体上に第1のハイブリッド層を堆積する工程であり、前記第1のハイブリッド層がポリマー材料と非ポリマー材料との混合物を含み、ポリマー材料の非ポリマー材料に対する重量比が95:5?5:95の範囲であり、ポリマー材料及び非ポリマー材料が同一の前駆体物質原料から形成され、前記第1のハイブリッド層が、前記有機デバイス本体のエッジを超えて、前記有機デバイス本体の側面を下方に延びるように、また前記有機デバイス本体の基礎部として機能する前記表面上に延在するように堆積される工程と、を含む方法。」である点で一致し、下記(相違点)で相違する。 (相違点) 本願発明1が、「前記有機デバイス本体の周囲に近接する1つ又は複数の領域にエッジバリアを配置する工程」を有しているのに対し、引用発明1は、該工程を有していない点。 4.判断 上記(相違点)について検討する。 本願発明1の「エッジバリア」は、本願明細書の段落【0064】、【0067】等の記載からみて、側方からの水分の不浸透性向上を目的としているものである。 一方、引用例2の記載事項(オ)(カ)には、有機層を囲む第1の保護膜のさらに上面及び側面上に形成された第2の保護膜が記載されている。当該第2の保護膜は、水分の侵入防止を確実にする機能を有していることから、「バリア」であり、第1の保護膜の端部、すなわち「エッジ」を覆うように形成されているから、本願発明1の「エッジバリア」に相当するものであるといえる。 そして、引用例1の記載事項(ア)によれば、引用例1には、「酸素及び水分に対する不浸透性を向上させる」という動機付けの記載もあるので、引用発明1において、本願発明1の「第1のハイブリッド層」に相当する「バリア膜」の上面及び側面上に、「エッジバリア」として機能する第2の保護膜を形成することは、当業者が容易になし得ることである。 5.まとめ したがって、本願発明1は、引用発明1及び引用例2の記載から、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができない。 第5.請求人の主張について 請求人は平成28年2月3日付けで提出された、当審拒絶理由に対する意見書にて、本願明細書の段落[0026]、[0041]、[0050]、[0066]、[0069]、[0071]?[0075]の記載、及び図13、16、19、21?33に基づき、同日付け手続補正書にて、補正前の請求項1に係る発明に、「前記第1のハイブリッド層が、前記有機デバイス本体のエッジを超えて、前記有機デバイス本体の側面を下方に延びるように」、また「前記有機デバイス本体の基礎部として機能する前記表面上に延在するように」堆積される発明特定事項を付け加えて、本願発明1とした旨、記載している。 そして、本願発明1では、ハイブリッド層が基板(または基板上に形成されたハイブリッド層、平坦化副層、接着促進副層、介在層などの層)の表面上に「延在する」ように形成されているのに対し、引用例1では、「変調特性を有するバリア膜410」が、「OLED要素50の近傍に形成されている」のみで、「基板100の表面上」に「延在する」ように形成された記載はない旨、主張している。 そこで、この点について検討する。 本願明細書には、「延在」という用語の定義は記載されていない。 また、当該補正の根拠とされた箇所において、「第1のハイブリッド層」について「延在」という用語が使用されている部分は、段落【0026】、と【0088】であるが、段落【0088】は、「ハイブリッド層」の「基板のエッジや基板の下等」への「延在」について記載されているのみで、「有機デバイス本体の基礎部として機能する表面」の上への「延在」については記載されていない。段落【0026】についても、「複数のハイブリッド層」を使用する場合に、「次に堆積されるハイブリッド層」を、「その基礎であるハイブリッド層のエッジ上」に「延在させることができる」旨記載されているのみで、「延在」という用語の意味の説明はない。 さらに、「エンドキャップ」についての説明がなされている図19を除く図13、16、21?33の記載をみても、「ハイブリッド層」が、「前記有機デバイス本体の基礎部として機能する前記表面」と接しているという共通点が見いだせるのみで、「延在」という用語で表現されるような共通の特徴は存在しない。 よって、本願明細書の記載からは、「ハイブリッド層」の「延在」という用語が意味する技術内容は明らかでない。 一方、「延在」という用語は、一般的に使われているわけでもない。このことは、例えば一般的な辞典(「広辞苑」第5版、株式会社岩波書店、1998年11月11日)にも、技術用語の辞典(「岩波 理化学辞典」第4版、株式会社岩波書店、1987年10月12日)にも、「延在」という用語が記載されていないことからも明らかである。 よって、「ハイブリッド層」の「延在」という用語が意味する技術内容は、当業者の技術常識によっても明らかでない。 したがって、本願発明1の、「前記有機デバイス本体の基礎部として機能する前記表面上」に「延在する」という表現は、(上方、側方又は下方等、他の場所から)「延」びてきて、「前記有機デバイス本体の基礎部として機能する」「表面」の上に存「在」しているという、「延在」という文字から読み取れる一般的な意味を表していると解するべきであるといえる。 そして、「第4.1.(1)」の記載事項(ウ)(エ)によれば、引用例1の「変調特性を有するバリア膜410」は(上方又は側方から)「延」びてきて、「基板100の表面」に接して存「在」しているから、本願の請求項1で用いられているのと同じ意味で「延在」しているといえる。 よって、引用例1では、「変調特性を有するバリア膜410」が「基板100の表面上」に「延在する」ように形成された記載はないという上記主張は採用できない。 したがって、上記意見書で述べられた出願人の主張を参酌しても、本願発明1は、引用発明1及び引用例2の記載から、当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができないものである。 第6.むすび 以上のとおり、本願の請求項1に係る発明は、本願の優先日前に日本国内又は外国において頒布又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用例1、2に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものである。 したがって、その余の拒絶理由について言及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審理終結日 | 2016-03-15 |
| 結審通知日 | 2016-03-18 |
| 審決日 | 2016-05-10 |
| 出願番号 | 特願2011-508600(P2011-508600) |
| 審決分類 |
P
1
8・
121-
WZ
(C23C)
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| 最終処分 | 不成立 |
| 前審関与審査官 | 浅野 裕之 |
| 特許庁審判長 |
真々田 忠博 |
| 特許庁審判官 |
萩原 周治 後藤 政博 |
| 発明の名称 | 電子デバイス又は他の物品上のコーティングに使用するハイブリッド層 |
| 代理人 | 実広 信哉 |
| 代理人 | 村山 靖彦 |
| 代理人 | 志賀 正武 |
| 代理人 | 志賀 正武 |
| 代理人 | 村山 靖彦 |
| 代理人 | 実広 信哉 |