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現在の検索キーワード： 岡 和久

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2004/10/01 不服
2002 -19195  		アクティブマトリクス表示装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし 　
2004/09/08 異議
2003 -71658  		圧電アクチュエータ用振動体 特許第3361608号の請求項1ないし5に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし 　
2004/08/19 異議
2003 -70551  		圧電セラミックスの製造方法 訂正を認める。 特許第3320184号の請求項1、2、5に係る特許を維持…… 内山 英夫     原文 保存
 進歩性(29条2項) 　
2004/06/22 不服
2001 -1741  		薄膜トランジスタ素子およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   セイコーインスツルメンツ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2004/05/11 不服
2002 -12487  		固体撮像装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2003/12/19 異議
2003 -70898  		圧電磁器組成物および積層型の圧電トランス 訂正を認める。 特許第3332205号の請求項1ないし3に係る特許を維……     原文 保存
 新規事項の追加 　
2003/05/06 不服
2000 -16516  		半導体装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
該当なし 　
2002/11/29 異議
2001 -72393  		光感知又はX線感知センサよりなる装置 特許第3141033号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。 伊東 忠彦 その他     原文 保存
該当なし 　
2002/11/01 異議
2001 -73309  		基板表面から液体を除去する方法、当該方法を用いる半導体装置の製造方法、及び基板表面から液体を除去する装置 訂正を認める。 特許第3174561号の請求項1、2、4乃至7、10乃至12、14…… 津軽 進     原文 保存
該当なし 　
2002/08/21 審判
1999 -7758  		高耐圧横型MOSFET半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 河合 信明 その他   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし 　
2002/08/21 審判
1999 -13191  		横型MOSトランジスタの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 河合 信明 その他   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし 　
2002/07/11 不服
2000 -4038  		半導体装置及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 木下 雅晴   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2002/07/02 審判
1999 -11180  		半導体トランジスタチップ 本件審判の請求は、成り立たない。 京本 直樹 その他   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし 　
2002/05/23 不服
2001 -14678  		MOSトランジスタにおいてセルフアラインソース/ドレインコンタクトを形成する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エスジーエス トムソン マイクロエレクトロニクス インク.   原文 保存
 パリ条約 　
2001/11/30 不服
2000 -14476  		MOSFETの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 玉真 正美 その他   エスジーエス‐トムソン、マイクロエレクトロニクス、リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2001/09/04 不服
2000 -3020  		電界効果トランジスタ装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2001/04/11 審判
1999 -11699  		偏差のあるドレインとソースを具備するトランジスタの構造及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 塩野入 章夫 その他   台湾茂▲しい▼電子股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし 　
2001/02/26 不服
2000 -4536  		高温・高圧洗浄方法及び洗浄装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福森 久夫   ユーシーティー株式会社 大見 忠弘   原文 保存
該当なし 　
2000/12/14 異議
1999 -74276  		シリコンウェーハの洗浄方法 訂正を認める。 特許第2893493号の請求項1に係る特許を維持する。 千葉 博史 その他     原文 保存
該当なし 　
2000/12/11 審判
1999 -13853  		ドーピングされたディスポーザブル層を用いたMOSトランジスタの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エルジイ・セミコン・カンパニイ・リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2000/11/08 異議
1999 -74631  		半導体装置の製造方法 特許第2905314号の請求項1に係る特許を維持する。 佐々木 晴康 その他     原文 保存
該当なし 　
2000/09/28 審判
1998 -18936  		MIS型半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/09/19 審判
1999 -4731  		半導体装置とその製法 本件審判の請求は、成り立たない。   ヤマハ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/09/08 異議
2000 -70108  		基板処理洗浄装置 訂正を認める。 特許第2920584号の請求項1ないし3に係る特許を維……     原文 保存
該当なし 　
2000/09/07 審判
1999 -7825  		半導体装置およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/08/25 審判
1999 -264  		半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 三好 秀和   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/08/14 審判
1999 -10110  		半導体素子及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エルジー セミコン カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2000/08/08 異議
1999 -74286  		半導体ウェハーの加工方法 特許第2893717号の請求項1ないし3に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし 　
2000/07/25 異議
1999 -73643  		洗浄用スポンジブラシ 特許第2875213号の請求項1及び2に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし 　
2000/07/25 不服
2000 -4510  		高温・高圧洗浄方法及び洗浄装置 本件審判の請求を却下する。   大見 忠弘   原文 保存
該当なし 　

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