| 審決年月日 |
審判番号 |
発明・考案の名称 |
結論 |
代理人 |
請求人 |
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2018/06/18
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不服
2017
-12679
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撮像素子、撮像装置、製造装置および方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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稲本 義雄
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ソニー株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/06/14
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不服
2017
-13838
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トレンチ金属酸化物半導体電界効果トランジスタ
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本件審判の請求は,成り立たない。
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ヴィシェイ-シリコニックス
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原文
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保存
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該当なし
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2018/06/04
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不服
2017
-11627
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シールドゲートを有する炭化珪素装置を形成する方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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インフィネオン テクノロジーズ アーゲー
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原文
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保存
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該当なし
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2018/06/04
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不服
2017
-2295
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半導体装置、半導体装置の製造方法、半導体製造装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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東京エレクトロン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/05/31
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不服
2017
-11455
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はんだ付け可能な絶縁電線及びその製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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東京特殊電線株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/05/25
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不服
2017
-7426
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イメージセンシングデバイスとその製造方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司
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原文
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保存
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該当なし
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2018/05/09
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不服
2017
-1712
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高圧化学蒸着装置、方法、およびそれにより製造される組成物
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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内藤 和彦
その他
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ジョージア ステート ユニバーシティ リサーチ ファウンデーション,インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2018/05/07
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不服
2017
-18162
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ワイヤハーネス生産システム及びワイヤハーネス生産方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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矢崎総業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/05/07
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異議
2018
-700153
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高分子圧電フィルム
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特許第6184611号の請求項1?13に係る特許を維持する。
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加藤 和詳
その他
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原文
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保存
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該当なし
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2018/05/07
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不服
2017
-14703
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半導体装置の製造方法及び半導体装置
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本件審判の請求は,成り立たない。
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清水 義憲
その他
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日立化成株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/05/02
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異議
2017
-700960
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エッチング液およびそのキット、これらを用いたエッチング方法、半導体基板製品の製造方法および半導体素子の製造方法
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特許第6110814号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正……
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赤羽 修一
その他
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原文
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保存
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該当なし
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2018/04/23
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不服
2017
-10444
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積層半導体構造における縦方向の電気接続の形成方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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アヴェニ
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原文
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保存
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該当なし
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2018/04/23
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不服
2017
-9873
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半導体装置及びその製造方法、電源装置、高周波増幅器
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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富士通株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/04/17
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不服
2017
-11327
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電気接続箱
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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瀧野 文雄
その他
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矢崎総業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/04/09
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不服
2017
-8753
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半導体装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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株式会社半導体エネルギー研究所
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原文
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保存
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該当なし
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2018/04/09
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不服
2016
-528
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膜の少なくとも一部を酸化シリコンに変換し、および/または、蒸気内紫外線硬化を利用して膜の品質を改善し、および、アンモニア内紫外線硬化を利用して膜を高密度化するシステムおよび方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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ノベラス・システムズ・インコーポレーテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2018/04/03
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訂正
2018
-390015
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撮像装置
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特許第6243498号の明細書を本件審判請求書に添付された訂正明細……
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磯野 富彦
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采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司
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原文
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保存
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該当なし
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2018/04/02
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不服
2017
-5632
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エピタキシャルウェハおよびその製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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特許業務法人深見特許事務所
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ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
インテル コーポレイション
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/29
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不服
2016
-17264
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スプリットゲート電界効果トランジスタ
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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ヴィシェイ-シリコニックス
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/29
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不服
2017
-5876
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エピタキシャルシリコンウェーハ
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本件審判の請求は、成り立たない。
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株式会社SUMCO
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/27
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不服
2017
-6958
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プラズマアニール方法及びその装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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加藤 勉
その他
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日産化学工業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/26
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不服
2017
-8236
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炭化珪素半導体装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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吉竹 英俊
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三菱電機株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/19
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不服
2017
-9552
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固体撮像装置
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本件審判の請求は,成り立たない。
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西川 孝
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ソニー株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/19
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不服
2017
-2954
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パッシベーション膜形成用組成物、パッシベーション膜付半導体基板及びその製造方法、並びに太陽電池素子及びその製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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日立化成株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/19
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不服
2017
-5406
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メモリセルのセンシング
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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大菅 義之
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マイクロン テクノロジー, インク.
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/19
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不服
2017
-9976
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高圧急速熱処理のための装置および方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/12
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不服
2017
-9574
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高分子圧電材料、およびその製造方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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加藤 和詳
その他
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三井化学株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/05
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不服
2017
-2955
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パッシベーション膜付半導体基板及びその製造方法、並びに太陽電池素子及びその製造方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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日立化成株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/02/19
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不服
2016
-17968
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プラズマチャンバーにおいて半導体ワークピースを取り巻く導電性カラー
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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鈴木 信彦
その他
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2018/02/19
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不服
2016
-12248
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半導体組成物
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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三星電子株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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