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加藤 浩一
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2016/11/09
不服
2015 -106
電力損失を制御するための方法及びデバイス
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
辻居 幸一 その他
マイクロン テクノロジー, インク.
原文
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該当なし
2016/11/08
不服
2015 -13558
CDの均一性を向上させるための基板温度調整を行う方法及びプラズマエッチングシステム
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ラム リサーチ コーポレーション
原文
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該当なし
2016/11/08
不服
2015 -1985
トレイデバイスおよび結晶膜成長装置
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
北京北方▲微▼▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司
原文
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該当なし
2016/11/07
不服
2015 -21802
化合物半導体装置及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士通株式会社
原文
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該当なし
2016/11/02
異議
2016 -700693
ガスノズル、これを用いたプラズマ装置およびガスノズルの製造方法
特許第5865916号の請求項1ないし5に係る特許を維持する。
原文
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該当なし
2016/11/02
異議
2016 -700571
半導体装置用ボンディングワイヤ及びその製造方法
特許第5840328号の請求項に係る特許を維持する。
福地 律生 その他
原文
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該当なし
2016/11/02
異議
2016 -700570
半導体装置用ボンディングワイヤ及びその製造方法
特許第5840327号の請求項に係る特許を維持する。
古賀 哲次 その他
原文
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該当なし
2016/11/02
不服
2015 -22093
半導体装置及び半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
伊東 忠重 その他
富士通株式会社
原文
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該当なし
2016/11/01
不服
2014 -20758
へテロ接合トランジスタ及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
クリー インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2016/10/25
不服
2015 -3378
鉛フリーC4相互接続の信頼性を改善するための方法
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
大渕 美千栄
ウルトラテック インク
原文
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該当なし
2016/10/25
不服
2015 -8363
クラスレート化合物および熱電変換材料ならびに熱電変換材料の製造方法
本件審判の請求は,成り立たない。
荒船 博司
古河電気工業株式会社
原文
保存
該当なし
2016/10/25
不服
2015 -12684
SiO2膜を堆積する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
鶴田 準一 その他
エスピーピー プロセス テクノロジー システムズ ユーケー リミティド
原文
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該当なし
2016/10/17
不服
2015 -1907
エッチングガスの供給方法及びエッチング装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
金本 哲男 その他
東京エレクトロン株式会社
原文
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該当なし
2016/10/17
不服
2015 -10908
高アスペクト比の接続孔へのタングステン堆積方法
本件審判の請求は、成り立たない。
ノベラス・システムズ・インコーポレーテッド
原文
保存
該当なし
2016/10/17
不服
2014 -16603
ガリウムで汚染された層の電子ビーム誘起エッチング方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
齋藤 恭一
カールツァイス エスエムエス ゲーエムベーハー
原文
保存
該当なし
2016/10/14
異議
2015 -700276
厚みのある擬似格子整合型の窒化物エピタキシャル層
特許第5730484号の特許請求の範囲を,平成28年5月16日付け訂正請求……
細井 玲 その他
原文
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該当なし
2016/09/30
不服
2015 -12260
半導体装置およびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
川崎 実夫 その他
ローム株式会社
原文
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該当なし
2016/09/30
不服
2015 -1782
強誘電体基板を使用した転写方法
本件審判の請求は、成り立たない。
村山 靖彦
コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ
原文
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該当なし
2016/09/30
不服
2015 -22084
薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
三星ディスプレイ株式會社
原文
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該当なし
2016/09/26
訂正
2016 -390093
半導体装置の製造方法
特許第5333241号の特許請求の範囲を本件審判請求書に添付された……
鈴木 信彦 その他
富士電機 株式会社
原文
保存
該当なし
2016/09/26
不服
2015 -1429
分子イオンのイオン注入技術
本件審判の請求は、成り立たない。
杉村 憲司
ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2016/09/21
不服
2015 -8201
集積回路用相互接続構造の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
田中 光雄 その他
アイメック
原文
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該当なし
2016/09/20
不服
2014 -16219
軽減システムの改善された操作方法及び装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2016/09/20
不服
2015 -21630
クリーニング用組成物
本件審判の請求は、成り立たない。
青木 篤 その他
エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2016/09/14
不服
2015 -5860
基板に組成物の平坦な上面を有する堆積物を塗布することを包含する方法
本件審判の請求は、成り立たない。
曾我 道治 その他
ダウ・コーニング・コーポレイション
原文
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該当なし
2016/09/13
不服
2015 -1678
半導体ドライプロセス後の残渣除去液及びそれを用いた残渣除去方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ダイキン工業株式会社
原文
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該当なし
2016/09/13
不服
2014 -16163
電子デバイス製造システムの操作を改善する方法及び装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2016/09/12
不服
2015 -10485
半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
池田 正人 その他
日立化成株式会社
原文
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該当なし
2016/09/07
不服
2015 -350
半導体構造又は半導体素子を製造する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
城戸 博兒 その他
ソイテック
原文
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該当なし
2016/09/06
不服
2015 -12521
高電子移動度トランジスタおよび絶縁ゲート電界効果トランジスタ
本件審判の請求は、成り立たない。
竹内 三喜夫 その他
クリー インコーポレイテッド
原文
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該当なし
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