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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2011/03/28 不服
2009 -9735 
蒸発源アセンブリ及びそれを用いた蒸着装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三星モバイルディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし  
2011/03/28 不服
2007 -28293 
官能化されたナノチューブ 本件審判の請求は、成り立たない。 浅村 肇 その他   ハイピリオン カタリシス インターナショナル インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2011/03/18 不服
2009 -18173 
スパッタカソード 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 アインゼル・フェリックス=ラインハルト その他   エーリコン ドイチュラント ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2011/02/08 不服
2008 -6837 
成膜方法及びプラズマCVD装置 本件審判の請求は、成り立たない。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/31 不服
2009 -7971 
非付着性ダイヤモンド状ナノ合成組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 奥山 尚一 その他   ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム   原文 保存
該当なし  
2011/01/31 不服
2007 -15584 
原子層蒸着方法を利用した障壁金属膜の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 奈良 泰男 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/19 不服
2007 -30032 
窒化ガリウム系単結晶基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 三好 秀和   サムソン エルイーディー カンパニーリミテッド.   原文 保存
 パリ条約  
2010/12/20 不服
2007 -30171 
ガラスをコーティングする方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 澤田 達也 その他   ピルキントン グループ リミテッド   原文 保存
該当なし  
2010/12/17 不服
2008 -24879 
スパッタチャンバ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大塚 文昭 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2010/11/24 不服
2007 -34262 
プラズマで補強した原子層蒸着装置及びこれを利用した薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エー・エス・エムジニテックコリア株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/16 不服
2009 -13715 
真空処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 堀井 豊 その他   オー・ツェー・エリコン・バルザース・アクチェンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2010/11/02 不服
2007 -23590 
中空のターゲットを備えた、陰極スパッタによりサブストレートを被覆するための装置 本件審判の請求は、成り立たない。 山崎 利臣 その他   バルツァース プロツエス-ジステーメ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
 引用発明の認定  
2010/10/29 不服
2007 -21933 
窒化物半導体基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日亜化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/08 不服
2008 -25081 
硬質皮膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日立ツール株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/05 不服
2007 -22124 
単結晶の引上速度制御方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2010/09/13 不服
2007 -27086 
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   西山ステンレスケミカル株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2010/09/13 不服
2008 -9987 
ガラス基材の処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 永坂 友康 その他   サン-ゴバン グラス フランス   原文 保存
該当なし  
2010/09/07 不服
2007 -27125 
半導体基材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱化学株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/08/25 不服
2007 -24340 
帯域引上した半導体材料からなるドープされた半導体ウェハ及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 矢野 敏雄 その他   ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2010/08/18 不服
2006 -19665 
官能基化されたナノチューブ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 池田 幸弘 その他   ハイピリオン カタリシス インターナショナル インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2010/08/06 不服
2007 -25746 
複合スパッタリングカソードを有するスパッタリング装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 石島 茂男   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  
2010/08/04 不服
2007 -22127 
配向層表面の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 坂口 博 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2010/08/02 不服
2009 -14378 
真空装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 折居 章   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  
2010/07/27 不服
2007 -27876 
磁性薄膜形成装置 本件審判の請求は、成り立たない。 清水 善廣 その他   株式会社アルバック   原文 保存
 引用発明の認定  
2010/07/13 不服
2007 -13722 
対向ターゲット式スパッタ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社エフ・ティ・エスコーポレーション   原文 保存
該当なし  
2010/07/12 不服
2006 -28294 
炭素ナノチューブの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   鴻富錦精密工業(深▲セン▼)有限公司 ツィンファ ユニバーシティ   原文 保存
 パリ条約  
2010/07/07 不服
2007 -29263 
基板支持装置および堆積チャンバシールド組立体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 長谷川 芳樹 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
 パリ条約  
2010/06/29 不服
2007 -30813 
シリコン単結晶とエピタキシャルウェーハ並びにそれらの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2010/06/25 不服
2007 -23589 
中空ターゲットを用いて陰極スパッタリングによって基板を被覆するための装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山崎 利臣 その他   バルツァース プロツエス-ジステーメ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2010/06/24 不服
2007 -23915 
シリコン半導体に於ける化合物バリア膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿部 伸一 その他   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  

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