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宮澤 尚之
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2006/06/19
不服
2003 -6240
低摩擦性炭素膜及びこれを用いた摺動部材
本件審判の請求は、成り立たない。
日産自動車株式会社
原文
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該当なし
2006/05/11
不服
2002 -23619
鉄カーバイドの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
角田 嘉宏
三菱商事株式会社 川崎重工業株式会社
原文
保存
該当なし
2006/02/13
不服
2005 -2199
シリコンウエーハおよびその製造方法ならびにシリコンウエーハの評価方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
信越半導体株式会社
原文
保存
該当なし
2006/02/07
不服
2002 -19805
マグネトロンスパッタリング用セラミックスターゲット
本件審判の請求は、成り立たない。
三井金属鉱業株式会社
原文
保存
引用発明の認定
2006/01/13
異議
2003 -72751
フルレン類を製造するための方法
訂正を認める。 特許第3404632号の請求項1ないし20に係る特許を維……
千葉 昭男 その他
原文
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新規事項の追加
2005/12/01
異議
2003 -70104
Ru薄膜形成用スパッタリングターゲット
訂正を認める。 特許第3303065号の訂正後の請求項1に係る特許を維……
原文
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進歩性(29条2項)
2005/10/26
不服
2002 -21513
薄膜形成方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アネルバ株式会社
原文
保存
該当なし
2005/08/24
異議
2003 -73549
成膜装置及び成膜装置用治具
訂正を認める。 特許第3462927号の請求項1ないし10に係る特許を維……
吉岡 宏嗣
原文
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新規事項の追加
2005/06/21
異議
2003 -72305
スパッタリングターゲット
訂正を認める。 特許第3386747号の請求項1ないし10に係る特許を維……
須山 佐一
原文
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29条の2(拡大された先願の地位) 新規事項の追加
2005/06/21
異議
2003 -72322
スパッタリングターゲット
訂正を認める。 特許第3387934号の請求項1ないし11に係る特許を維……
須山 佐一
原文
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新規事項の追加 29条の2(拡大された先願の地位)
2005/03/18
不服
2002 -19508
低い固有応力および/または低い水素含有率をもつSiO▲X▼フィルムの堆積法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
大塚 康弘
ラム リサーチ コーポレーション
原文
保存
該当なし
2005/03/04
不服
2004 -8564
フラーレンの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
朝日奈 宗太
小松 直樹
原文
保存
該当なし
2005/02/22
異議
2003 -73586
CVD成膜方法
訂正を認める。 特許第3476638号の訂正後の請求項1ないし8に係る……
高山 宏志
原文
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該当なし
2004/10/21
不服
2003 -21680
帯材又はフィルムウェブをガイドしかつ延伸するためのドラム
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
アインゼル・フェリックス=ラインハルト その他
アプライド フィルムス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト
原文
保存
該当なし
2004/10/20
異議
2003 -73728
透明なガスバリア性フィルムの製造方法
特許第3443976号の請求項1及び2に係る発明の特許を維持する。
原文
保存
該当なし
2004/10/13
不服
2003 -23935
炭素または炭素を主成分とする被膜の形成方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社半導体エネルギー研究所
原文
保存
該当なし
2004/09/08
不服
2000 -19210
被覆硬質合金
本件審判の請求は、成り立たない。
日立ツール株式会社
原文
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29条の2(拡大された先願の地位)
2004/09/08
異議
2003 -72786
微生物菌体を固定した活性炭、その製法および用途
訂正を認める。 特許第3406631号の訂正後の請求項1ないし4、7ない……
高島 一 その他
原文
保存
該当なし
2004/08/06
異議
2003 -73518
薄膜形成装置
特許第3449790号の請求項1ないし3に係る特許を維持する。
伊賀 誠司 その他
原文
保存
該当なし
2004/06/22
異議
2002 -72585
Al合金薄膜及びその製造方法並びにAl合金薄膜形成用スパッタリングターゲット
訂正を認める。 特許第3276446号の請求項1ないし10に係る特許を維……
梶 良之
原文
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新規事項の追加
2004/06/15
異議
2003 -70900
真空処理装置
特許第3332257号の請求項1、3〜5に係る特許を維持する。
原文
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新規性 進歩性(29条2項)
2004/06/08
異議
2003 -70881
液体原料の気化装置及びその運転方法
特許第3333418号の請求項1ないし5に係る特許を維持する。
原文
保存
該当なし
2004/06/08
異議
2002 -71621
プラズマCVD装置
訂正を認める。 特許第3243258号の請求項1、2に係る特許を維持す……
樺沢 襄 その他
原文
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新規事項の追加
2004/05/11
異議
2003 -73621
高均質性ITO焼結体の製造方法
特許第3424980号の請求項1、2に係る特許を維持する。
原文
保存
該当なし
2004/03/12
異議
2002 -72000
両面スパッタ成膜方法及びその装置並びにスパッタ成膜システム
訂正を認める。 特許第3254782号の請求項に係る特許を維持する。
作田 康夫 その他
原文
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新規事項の追加
2003/12/10
異議
2002 -73075
回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
訂正を認める。 特許第3295310号の請求項1〜4、7〜13、18〜20、29、31……
西森 浩司 その他
原文
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29条の2(拡大された先願の地位)
2003/11/27
異議
2002 -71451
プラズマ処理装置及び処理方法
訂正を認める。 特許第3236111号の訂正後の請求項3及び12に係る特……
内尾 裕一 その他
原文
保存
新規事項の追加 相違点の判断
2003/10/15
補正
2003 -50012
炭素または炭素を主成分とする被膜の形成方法
原決定を取り消す。
株式会社半導体エネルギー研究所
原文
保存
該当なし
2003/09/08
不服
2001 -16843
化学気相析出用有機金属錯体溶液
原査定を取り消す。 本願請求項1に係る発明は、特許すべきもの……
渡邊 隆
日本酸素株式会社
原文
保存
該当なし
2003/08/18
不服
2001 -11636
大気圧プラズマ反応装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
多田 公子 その他
キモト テック インコーポレイテッド 株式会社きもと 岡崎 幸子 小駒 益弘
原文
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