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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2006/06/19 不服
2003 -6240 
低摩擦性炭素膜及びこれを用いた摺動部材 本件審判の請求は、成り立たない。   日産自動車株式会社   原文 保存
該当なし  
2006/05/11 不服
2002 -23619 
鉄カーバイドの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 角田 嘉宏   三菱商事株式会社 川崎重工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2006/02/13 不服
2005 -2199 
シリコンウエーハおよびその製造方法ならびにシリコンウエーハの評価方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2006/02/07 不服
2002 -19805 
マグネトロンスパッタリング用セラミックスターゲット 本件審判の請求は、成り立たない。   三井金属鉱業株式会社   原文 保存
 引用発明の認定  
2006/01/13 異議
2003 -72751 
フルレン類を製造するための方法 訂正を認める。 特許第3404632号の請求項1ないし20に係る特許を維…… 千葉 昭男 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
2005/12/01 異議
2003 -70104 
Ru薄膜形成用スパッタリングターゲット 訂正を認める。 特許第3303065号の訂正後の請求項1に係る特許を維……     原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2005/10/26 不服
2002 -21513 
薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アネルバ株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/08/24 異議
2003 -73549 
成膜装置及び成膜装置用治具 訂正を認める。 特許第3462927号の請求項1ないし10に係る特許を維…… 吉岡 宏嗣     原文 保存
 新規事項の追加  
2005/06/21 異議
2003 -72305 
スパッタリングターゲット 訂正を認める。 特許第3386747号の請求項1ないし10に係る特許を維…… 須山 佐一     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  新規事項の追加  
2005/06/21 異議
2003 -72322 
スパッタリングターゲット 訂正を認める。 特許第3387934号の請求項1ないし11に係る特許を維…… 須山 佐一     原文 保存
 新規事項の追加  29条の2(拡大された先願の地位)  
2005/03/18 不服
2002 -19508 
低い固有応力および/または低い水素含有率をもつSiO▲X▼フィルムの堆積法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大塚 康弘   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2005/03/04 不服
2004 -8564 
フラーレンの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 朝日奈 宗太   小松 直樹   原文 保存
該当なし  
2005/02/22 異議
2003 -73586 
CVD成膜方法 訂正を認める。 特許第3476638号の訂正後の請求項1ないし8に係る…… 高山 宏志     原文 保存
該当なし  
2004/10/21 不服
2003 -21680 
帯材又はフィルムウェブをガイドしかつ延伸するためのドラム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 アインゼル・フェリックス=ラインハルト その他   アプライド フィルムス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2004/10/20 異議
2003 -73728 
透明なガスバリア性フィルムの製造方法 特許第3443976号の請求項1及び2に係る発明の特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2004/10/13 不服
2003 -23935 
炭素または炭素を主成分とする被膜の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2004/09/08 不服
2000 -19210 
被覆硬質合金 本件審判の請求は、成り立たない。   日立ツール株式会社   原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2004/09/08 異議
2003 -72786 
微生物菌体を固定した活性炭、その製法および用途 訂正を認める。 特許第3406631号の訂正後の請求項1ないし4、7ない…… 高島 一 その他     原文 保存
該当なし  
2004/08/06 異議
2003 -73518 
薄膜形成装置 特許第3449790号の請求項1ないし3に係る特許を維持する。 伊賀 誠司 その他     原文 保存
該当なし  
2004/06/22 異議
2002 -72585 
Al合金薄膜及びその製造方法並びにAl合金薄膜形成用スパッタリングターゲット 訂正を認める。 特許第3276446号の請求項1ないし10に係る特許を維…… 梶 良之     原文 保存
 新規事項の追加  
2004/06/15 異議
2003 -70900 
真空処理装置 特許第3332257号の請求項1、3〜5に係る特許を維持する。     原文 保存
 新規性  進歩性(29条2項)  
2004/06/08 異議
2003 -70881 
液体原料の気化装置及びその運転方法 特許第3333418号の請求項1ないし5に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2004/06/08 異議
2002 -71621 
プラズマCVD装置 訂正を認める。 特許第3243258号の請求項1、2に係る特許を維持す…… 樺沢 襄 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
2004/05/11 異議
2003 -73621 
高均質性ITO焼結体の製造方法 特許第3424980号の請求項1、2に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2004/03/12 異議
2002 -72000 
両面スパッタ成膜方法及びその装置並びにスパッタ成膜システム 訂正を認める。 特許第3254782号の請求項に係る特許を維持する。 作田 康夫 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
2003/12/10 異議
2002 -73075 
回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置 訂正を認める。 特許第3295310号の請求項1〜4、7〜13、18〜20、29、31…… 西森 浩司 その他     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2003/11/27 異議
2002 -71451 
プラズマ処理装置及び処理方法 訂正を認める。 特許第3236111号の訂正後の請求項3及び12に係る特…… 内尾 裕一 その他     原文 保存
 新規事項の追加  相違点の判断  
2003/10/15 補正
2003 -50012 
炭素または炭素を主成分とする被膜の形成方法 原決定を取り消す。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2003/09/08 不服
2001 -16843 
化学気相析出用有機金属錯体溶液 原査定を取り消す。 本願請求項1に係る発明は、特許すべきもの…… 渡邊 隆   日本酸素株式会社   原文 保存
該当なし  
2003/08/18 不服
2001 -11636 
大気圧プラズマ反応装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 多田 公子 その他   キモト テック インコーポレイテッド 株式会社きもと 岡崎 幸子 小駒 益弘   原文 保存
該当なし  

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