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宮澤 尚之
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2003/06/16
不服
2001 -13917
二酸化チタン結晶配向膜を有する材料及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
芳村 武彦 その他
高野 雅志 恒成株式会社 斎藤 秀俊
原文
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該当なし
2003/06/10
不服
2001 -16335
真空蒸着方法および真空蒸着装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
東洋インキ製造株式会社
原文
保存
該当なし
2003/05/13
不服
2001 -5027
薄膜の製造方法とその装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
科学技術振興事業団
原文
保存
該当なし
2003/03/13
補正
2002 -50072
成膜装置
原決定を取り消す。
浜野 孝雄 その他
株式会社アルバック
原文
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該当なし
2003/01/28
不服
2001 -5229
ECR型プラズマ処理装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
橋本 剛
ソニー株式会社
原文
保存
該当なし
2003/01/06
訂正
2002 -39163
珪素酸化物系蒸着フィルムおよびその製造方法
特許第3094702号に係る明細書及び図面を本件審判請求書に添付さ……
岩崎 幸邦 その他
東洋インキ製造株式会社
原文
保存
新規事項の追加
2002/11/14
不服
2002 -3142
高周波プラズマCVD法による炭素膜の形成法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
倉内 基弘
ティーディーケイ株式会社
原文
保存
該当なし
2002/10/18
異議
2000 -73324
被覆硬質部材
訂正を認める。 特許第3016703号の請求項1ないし2に係る特許を維……
富田 和夫
原文
保存
新規事項の追加
2002/10/07
不服
2000 -16409
プラズマCVD法
本件審判の請求は、成り立たない。
風間 鉄也 その他
三菱重工業株式会社
原文
保存
該当なし
2002/06/18
異議
2001 -70496
透明なバリアフィルムとその製造方法
訂正を認める。 特許第3076774号の請求項2,3に係る特許を維持する。
武石 靖彦 その他
原文
保存
新規事項の追加
2002/06/11
異議
2000 -74420
加熱装置
訂正を認める。 特許第3050401号の請求項1ないし4に係る特許を維……
布施 行夫 その他
原文
保存
新規事項の追加
2002/04/23
異議
2001 -72699
ITOスパッタリングターゲット
特許第3152108号の請求項1〜5に係る発明の特許を維持する。
原文
保存
該当なし
2002/03/25
異議
2000 -74586
ダイヤモンド状炭素膜作製方法
訂正を認める。 特許第3057072号の請求項1ないし4、6ないし7に係る……
加藤 恭介
原文
保存
分割出願(出願分割)
2002/03/22
異議
2001 -73317
減圧CVD装置
特許第3175189号の請求項1に係る特許を維持する。
山口 邦夫
原文
保存
該当なし
2002/02/25
異議
2000 -72921
高温、高堆積率で膜を堆積する方法及び装置
特許第3004621号の請求項1ないし22に係る特許を維持する。
塩田 辰也 その他
原文
保存
該当なし
2002/02/05
異議
2000 -72722
スパッタリング装置とその成膜方法
特許第2998738号の請求項1、2に係る特許を取り消す。
福田 修一 その他
原文
保存
該当なし
2002/01/29
異議
2001 -71938
ガス分散機構付き減圧式気相成長装置
特許第3124002号の請求項1ないし2に係る特許を取り消す。
原文
保存
該当なし
2002/01/22
異議
2000 -74263
CVD-TiN膜の成膜方法
訂正を認める。 特許第3045158号の訂正後の請求項1ないし7に係る……
福田 修一 その他
原文
保存
進歩性(29条2項)
2002/01/04
不服
2001 -547
管内大気圧グロープラズマ反応方法
原査定を取り消す。 本願請求項1及び2に係る発明は、特許すべき……
科学技術振興事業団
原文
保存
該当なし
2001/11/06
不服
2000 -10719
保護膜
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社半導体エネルギー研究所
原文
保存
該当なし
2001/11/06
異議
2000 -71317
サーマルヘッドの製造方法
訂正を認める。 特許第2955319号の請求項1ないし3に係る特許を維……
須山 佐一
原文
保存
新規事項の追加
2001/10/12
異議
2001 -71016
半導体ウェーハ上へのタングステン層のCVD蒸着方法
特許第3094004号の請求項1ないし6に係る特許を維持する。
今城 俊夫 その他
原文
保存
分割出願(出願分割)
2001/09/27
異議
2001 -70981
珪素酸化物系蒸着フィルムおよびその製造方法
特許第3094702号の請求項に係る特許を維持する。
白井 博樹 その他
原文
保存
該当なし
2001/09/06
異議
2000 -74415
CVD装置の排気ガス処理方法及び装置
特許第3050195号の請求項1ないし12に係る特許を取り消す。
原文
保存
該当なし
2001/08/24
異議
2000 -71733
CVD装置
訂正を認める。 特許第2969596号の請求項1に係る発明の特許を取り……
田宮 寛祉
原文
保存
該当なし
2001/08/01
異議
2000 -74669
冷却器付基板加熱装置
訂正を認める。 特許第3065065号の請求項1ないし4に係る特許を維……
北條 和由 その他
原文
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新規事項の追加
2001/07/31
異議
2001 -71336
固体潤滑性を有する非晶質薄膜およびその製造方法
特許第3105962号の請求項1、3に係る特許を維持する。
原文
保存
該当なし
2001/07/25
異議
2000 -71881
潤滑性を有する硬質非晶質炭素―水素―珪素薄膜、表面に該薄膜を有する鉄系金属材料、およびその製造方法
訂正を認める。 特許第2971928号の訂正後の請求項1ないし4に係る……
大川 宏
原文
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国内優先権
2001/04/16
審判
1999 -14339
電気用部材
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社半導体エネルギー研究所
原文
保存
該当なし
2001/02/14
異議
2000 -73026
ITO導電膜とその製造方法
特許第3007758号の請求項1ないし2に係る特許を取り消す。
原文
保存
該当なし
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