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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2003/06/16 不服
2001 -13917 
二酸化チタン結晶配向膜を有する材料及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 芳村 武彦 その他   高野 雅志 恒成株式会社 斎藤 秀俊   原文 保存
該当なし  
2003/06/10 不服
2001 -16335 
真空蒸着方法および真空蒸着装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東洋インキ製造株式会社   原文 保存
該当なし  
2003/05/13 不服
2001 -5027 
薄膜の製造方法とその装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   科学技術振興事業団   原文 保存
該当なし  
2003/03/13 補正
2002 -50072 
成膜装置 原決定を取り消す。 浜野 孝雄 その他   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  
2003/01/28 不服
2001 -5229 
ECR型プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 橋本 剛   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし  
2003/01/06 訂正
2002 -39163 
珪素酸化物系蒸着フィルムおよびその製造方法 特許第3094702号に係る明細書及び図面を本件審判請求書に添付さ…… 岩崎 幸邦 その他   東洋インキ製造株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  
2002/11/14 不服
2002 -3142 
高周波プラズマCVD法による炭素膜の形成法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 倉内 基弘   ティーディーケイ株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/10/18 異議
2000 -73324 
被覆硬質部材 訂正を認める。 特許第3016703号の請求項1ないし2に係る特許を維…… 富田 和夫     原文 保存
 新規事項の追加  
2002/10/07 不服
2000 -16409 
プラズマCVD法 本件審判の請求は、成り立たない。 風間 鉄也 その他   三菱重工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/06/18 異議
2001 -70496 
透明なバリアフィルムとその製造方法 訂正を認める。 特許第3076774号の請求項2,3に係る特許を維持する。 武石 靖彦 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
2002/06/11 異議
2000 -74420 
加熱装置 訂正を認める。 特許第3050401号の請求項1ないし4に係る特許を維…… 布施 行夫 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
2002/04/23 異議
2001 -72699 
ITOスパッタリングターゲット 特許第3152108号の請求項1〜5に係る発明の特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2002/03/25 異議
2000 -74586 
ダイヤモンド状炭素膜作製方法 訂正を認める。 特許第3057072号の請求項1ないし4、6ないし7に係る…… 加藤 恭介     原文 保存
 分割出願(出願分割)  
2002/03/22 異議
2001 -73317 
減圧CVD装置 特許第3175189号の請求項1に係る特許を維持する。 山口 邦夫     原文 保存
該当なし  
2002/02/25 異議
2000 -72921 
高温、高堆積率で膜を堆積する方法及び装置 特許第3004621号の請求項1ないし22に係る特許を維持する。 塩田 辰也 その他     原文 保存
該当なし  
2002/02/05 異議
2000 -72722 
スパッタリング装置とその成膜方法 特許第2998738号の請求項1、2に係る特許を取り消す。 福田 修一 その他     原文 保存
該当なし  
2002/01/29 異議
2001 -71938 
ガス分散機構付き減圧式気相成長装置 特許第3124002号の請求項1ないし2に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  
2002/01/22 異議
2000 -74263 
CVD-TiN膜の成膜方法 訂正を認める。 特許第3045158号の訂正後の請求項1ないし7に係る…… 福田 修一 その他     原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2002/01/04 不服
2001 -547 
管内大気圧グロープラズマ反応方法 原査定を取り消す。 本願請求項1及び2に係る発明は、特許すべき……   科学技術振興事業団   原文 保存
該当なし  
2001/11/06 不服
2000 -10719 
保護膜 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2001/11/06 異議
2000 -71317 
サーマルヘッドの製造方法 訂正を認める。 特許第2955319号の請求項1ないし3に係る特許を維…… 須山 佐一     原文 保存
 新規事項の追加  
2001/10/12 異議
2001 -71016 
半導体ウェーハ上へのタングステン層のCVD蒸着方法 特許第3094004号の請求項1ないし6に係る特許を維持する。 今城 俊夫 その他     原文 保存
 分割出願(出願分割)  
2001/09/27 異議
2001 -70981 
珪素酸化物系蒸着フィルムおよびその製造方法 特許第3094702号の請求項に係る特許を維持する。 白井 博樹 その他     原文 保存
該当なし  
2001/09/06 異議
2000 -74415 
CVD装置の排気ガス処理方法及び装置 特許第3050195号の請求項1ないし12に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  
2001/08/24 異議
2000 -71733 
CVD装置 訂正を認める。 特許第2969596号の請求項1に係る発明の特許を取り…… 田宮 寛祉     原文 保存
該当なし  
2001/08/01 異議
2000 -74669 
冷却器付基板加熱装置 訂正を認める。 特許第3065065号の請求項1ないし4に係る特許を維…… 北條 和由 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
2001/07/31 異議
2001 -71336 
固体潤滑性を有する非晶質薄膜およびその製造方法 特許第3105962号の請求項1、3に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2001/07/25 異議
2000 -71881 
潤滑性を有する硬質非晶質炭素―水素―珪素薄膜、表面に該薄膜を有する鉄系金属材料、およびその製造方法 訂正を認める。 特許第2971928号の訂正後の請求項1ないし4に係る…… 大川 宏     原文 保存
 国内優先権  
2001/04/16 審判
1999 -14339 
電気用部材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2001/02/14 異議
2000 -73026 
ITO導電膜とその製造方法 特許第3007758号の請求項1ないし2に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  

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