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現在の検索キーワード：橋本憲一郎

119 件のヒット

審決年月日	審判番号	発明・考案の名称	結論	代理人	請求人
2010/07/30	不服 2009 -13272	気液混合物生成装置、汚水浄化装置及び燃料噴射装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	黒田博道その他	東京鉄興株式会社株式会社計算流体力学研究所横山工業株式会社	原文	保存
該当なし
2010/06/09	不服 2008 -2482	二段式ホモジナイザー	本件審判の請求は、成り立たない。	谷征史その他	みづほ工業株式会社	原文	保存
該当なし
2010/01/29	不服 2007 -15686	浴室システム	本件審判の請求は、成り立たない。		三浦工業株式会社	原文	保存
該当なし
2009/03/10	不服 2007 -5249	終点検出のために外部光源を使用する方法および装置	本件審判の請求は、成り立たない。	恩田誠	マイクロンテクノロジー, インク.	原文	保存
パリ条約
2009/02/23	不服 2007 -30520	化学プロセス塔用降水管	本件審判の請求は、成り立たない。		コックグリッシュエルピー	原文	保存
パリ条約
2008/07/07	不服 2006 -10104	半導体処理装置	本件審判の請求は、成り立たない。		株式会社日立ハイテクノロジーズ	原文	保存
技術的範囲実施可能要件
2008/06/17	不服 2005 -25036	基板をエッチングするための方法と装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	市東篤	サーフィステクノロジーシステムズピーエルシー	原文	保存
パリ条約
2008/04/14	不服 2006 -35	半導体ウエーファーを試験する装置及び方法	本件審判の請求は、成り立たない。		エレクトログラス・インコーポレーテツド	原文	保存
該当なし
2008/02/06	不服 2005 -15145	有機反射防止層の構造化方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		インフィネオンテクノロジーズアクチエンゲゼルシャフト	原文	保存
パリ条約
2007/08/15	不服 2006 -17805	酸化物層のエッチング方法	本件審判の請求は、成り立たない。	西山修その他	サイプレスセミコンダクターコーポレイション	原文	保存
パリ条約
2007/05/11	不服 2003 -22977	接続材料	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	田治米惠子その他	ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社	原文	保存
該当なし
2007/04/03	不服 2006 -5327	半導体デバイスの検査方法	本件審判の請求は、成り立たない。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2007/03/30	不服 2005 -18107	シリコンウエーハの評価方法および窒素ドープアニールウエーハ	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		信越半導体株式会社	原文	保存
該当なし
2007/01/09	不服 2004 -1591	マイクロ波プラズマエッチング装置のプラズマクリーニング方法	本件審判の請求は、成り立たない。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2006/12/19	不服 2005 -6260	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	本件審判の請求は、成り立たない。	亀谷美明	東京エレクトロン株式会社株式会社東芝	原文	保存
該当なし
2006/11/30	不服 2005 -7528	半導体装置の微細レジストパターンの形成方法	本件審判の請求は、成り立たない。		ユー・エム・シー・ジャパン株式会社	原文	保存
該当なし
2006/11/20	不服 2005 -7336	シリコンウェーハ内部のCｕ濃度の検出方法	本件審判の請求は、成り立たない。		株式会社SUMCO	原文	保存
該当なし
2006/10/20	不服 2005 -7924	化合物半導体素子の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	佐久間剛	富士フイルムホールディングス株式会社	原文	保存
該当なし
2006/10/17	不服 2005 -11864	半導体素子の製造方法	本件審判の請求は、成り立たない。	武顕次郎その他	株式会社日立製作所株式会社日立ハイテクノロジーズ	原文	保存
該当なし
2006/09/28	不服 2005 -6185	金属含有層を構造化する方法	本件審判の請求は、成り立たない。	山崎利臣その他	インフィネオンテクノロジースアクチエンゲゼルシャフト	原文	保存
該当なし
2006/09/28	不服 2004 -4560	プラズマ処理の終点検出方法およびその装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	橋本良郎その他	東京エレクトロン株式会社	原文	保存
該当なし
2006/09/11	不服 2005 -9558	減圧処理方法	本件審判の請求は、成り立たない。		東京応化工業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/09/04	不服 2004 -632	鋳物の欠陥防止法	本件審判の請求は、成り立たない。	持田信二その他	花王株式会社	原文	保存
該当なし
2006/08/21	不服 2004 -7004	半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社東芝	原文	保存
該当なし
2006/08/21	不服 2004 -829	ウェーハレベルのバーンインおよびテスト	本件審判の請求は、成り立たない。	古谷聡	フォームファクター,インコーポレイテッド	原文	保存
該当なし
2006/08/18	不服 2004 -14020	半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		三洋電機株式会社	原文	保存
該当なし
2006/08/18	不服 2003 -21982	プラズマ処理装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2006/08/16	不服 2004 -4987	透明導電性膜のドライエッチング方法	本件審判の請求は、成り立たない。	北村欣一	株式会社アルバック	原文	保存
該当なし
2006/08/02	不服 2003 -24441	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2006/07/26	不服 2004 -9884	電子回路基板装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	渡辺昇	株式会社ガスター	原文	保存
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