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現在の検索キーワード：今井彰

75 件のヒット

審決年月日	審判番号	発明・考案の名称	結論	代理人	請求人
2018/02/14	不服 2016 -16984	搬入方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社ニコン	原文	保存
該当なし
2017/12/13	不服 2016 -14139	表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法	本件審判の請求は、成り立たない。		HOYA株式会社	原文	保存
該当なし
2017/11/20	不服 2016 -6589	照明システム	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	原文	保存
該当なし
2017/10/30	不服 2016 -18553	ワークテーブルとマスクテーブルで共有するバランスマスシステム及びリソグラフィマシン	本件審判の請求は、成り立たない。		シャンハイマイクロエレクトロニクスイクイプメント(グループ)カンパニーリミティド	原文	保存
該当なし
2017/10/11	不服 2016 -8510	熱調整ユニット、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	大貫敏史	エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.	原文	保存
該当なし
2017/10/11	不服 2016 -12225	光学素子、照明装置、測定装置、フォトマスク、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	志賀正武	株式会社ニコン	原文	保存
該当なし
2017/08/25	異議 2017 -700512	ヒンジ	特許第6031001号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。			原文	保存
該当なし
2017/08/21	不服 2016 -12749	基板処理方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ	原文	保存
該当なし
2017/03/27	不服 2016 -6458	投影光学系の結像特性の変動量の算出方法、露光装置およびデバイス製造方法	本件審判の請求は、成り立たない。	阿部琢磨	キヤノン株式会社	原文	保存
該当なし
2016/12/05	不服 2016 -15649	ローラーインプリント用モールドとインプリント方法およびワイヤーグリッド偏光子とその製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	米田潤三	大日本印刷株式会社	原文	保存
該当なし
2016/09/26	不服 2015 -1888	処理システム	本件審判の請求は、成り立たない。	青木篤その他	クレオハルブライターテヒニクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング	原文	保存
該当なし
2016/06/24	不服 2015 -8560	露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社ニコン	原文	保存
該当なし
2016/06/13	不服 2015 -7068	基板処理方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ	原文	保存
該当なし
2016/01/20	異議 2015 -700182	基板処理方法および基板処理装置	特許第5715981号の請求項1ないし5に係る特許を維持する。	朝倉悟その他		原文	保存
該当なし
2016/01/05	不服 2015 -4566	インプリント用硬化性組成物およびその製造方法	本件審判の請求は、成り立たない。		富士フイルム株式会社	原文	保存
該当なし

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