審決検索結果一覧を表示しています。

現在の検索キーワード: 佐藤 秀樹

449 件のヒット

  • ポートフォリオ機能
  • 絞り込み検索機能

チェックした審決を…
  ポートフォリオ名を入力して新規に保存 → 

 既存のポートフォリオを選択して保存 → 
絞り込み検索ワード: or or  → 
審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2012/06/18 不服
2011 -7814 
光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク 本件審判の請求は、成り立たない。 山下 昭彦   マーク デイヴィッド レヴェンソン 大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/06/15 不服
2010 -26011 
カーボンナノウォールの処理方法、カーボンナノウォール、カーボンナノウォールデバイス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   堀 勝   原文 保存
該当なし  
2012/06/13 不服
2010 -23891 
電子ビーム露光システム 原査定を取り消す。 本願は特許すべきものとする。 河野 哲 その他   マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/05/29 不服
2011 -5254 
リソグラフィ装置、偏光特性を決定する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/05/28 不服
2010 -27883 
デジタル画像を書き込むためのリソグラフィ装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願は、特許すべきものとする。   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/05/21 不服
2011 -5457 
光学要素組立体の組立方法 本件審判の請求は、成り立たない。   京セラ株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/05/21 不服
2010 -26990 
画像データ圧縮に2Dランレングス符号化を使用するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/05/21 不服
2010 -25314 
露光装置、デバイス製造方法、及び液体除去方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西 和哉 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/05/15 不服
2011 -8493 
減圧乾燥装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/05/14 不服
2011 -7003 
ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西 和哉 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/05/11 不服
2011 -7811 
基板処理装置および基板処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SOKUDO   原文 保存
該当なし  
2012/05/11 不服
2011 -7810 
基板処理装置および基板処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SOKUDO   原文 保存
該当なし  
2012/05/09 不服
2011 -2830 
露光装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願は、特許すべきものとする。 大塚 康徳 その他   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/05/08 不服
2010 -3783 
ナノ物質の操作方法およびその利用 本件審判の請求は、成り立たない。   独立行政法人科学技術振興機構   原文 保存
該当なし  
2012/05/02 不服
2009 -19432 
ステッチング誤差防止用改良型パターン・ジェネレータ 本件審判の請求は、成り立たない。 岩本 行夫 その他   マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット   原文 保存
該当なし  
2012/04/11 不服
2011 -5105 
リソグラフィ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/04/02 不服
2010 -25044 
光近接効果補正のために集積回路を分類する方法及びシステム 本件審判の請求は、成り立たない。 小野 新次郎 その他   エルエスアイ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2012/03/29 不服
2009 -23471 
光学システム、リソグラフィ装置、光学システムのアポディゼーションを修正する方法、及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は特許すべきものとする。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/03/26 不服
2011 -7812 
基板処理装置および基板処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社SOKUDO   原文 保存
該当なし  
2012/03/23 不服
2010 -20696 
照明光学装置、露光装置、露光方法、およびマイクロデバイスの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 城戸 博兒 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/03/23 不服
2010 -20697 
光束変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒木 義樹 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/03/09 不服
2010 -20309 
リソグラフィ装置、偏光特性を決定する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/03/05 不服
2010 -22973 
リソグラフィ装置及び物体テーブルを位置決めするための位置決めデバイスを利用したデバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/03/01 不服
2010 -29142 
ナノポーラス表面を有する製品の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史 その他   エンパイア テクノロジー ディベロップメント エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2012/02/28 不服
2010 -22303 
リソグラフィシステム、センサ、および基板のプロパティを測定する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/02/17 不服
2010 -16125 
流路形成部材、露光装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 西 和哉 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/02/15 不服
2010 -17259 
光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山下 昭彦   マーク デイヴィッド レヴェンソン 大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/02/13 不服
2010 -28772 
反射マスク基板のコーティング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 勝沼 宏仁 その他   エクストリーム、ウルトラバイオレット、リミテッド、ライアビリティ、カンパニー   原文 保存
該当なし  
2012/02/08 不服
2010 -26639 
インプリント方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/02/06 不服
2010 -26052 
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ