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佐藤 秀樹
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2012/06/18
不服
2011 -7814
光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク
本件審判の請求は、成り立たない。
山下 昭彦
マーク デイヴィッド レヴェンソン 大日本印刷株式会社
原文
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該当なし
2012/06/15
不服
2010 -26011
カーボンナノウォールの処理方法、カーボンナノウォール、カーボンナノウォールデバイス
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
堀 勝
原文
保存
該当なし
2012/06/13
不服
2010 -23891
電子ビーム露光システム
原査定を取り消す。 本願は特許すべきものとする。
河野 哲 その他
マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/05/29
不服
2011 -5254
リソグラフィ装置、偏光特性を決定する方法
本件審判の請求は、成り立たない。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/05/28
不服
2010 -27883
デジタル画像を書き込むためのリソグラフィ装置及びデバイス製造方法
原査定を取り消す。 本願は、特許すべきものとする。
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/05/21
不服
2011 -5457
光学要素組立体の組立方法
本件審判の請求は、成り立たない。
京セラ株式会社
原文
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該当なし
2012/05/21
不服
2010 -26990
画像データ圧縮に2Dランレングス符号化を使用するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/05/21
不服
2010 -25314
露光装置、デバイス製造方法、及び液体除去方法
本件審判の請求は、成り立たない。
西 和哉 その他
株式会社ニコン
原文
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該当なし
2012/05/15
不服
2011 -8493
減圧乾燥装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
東京エレクトロン株式会社
原文
保存
該当なし
2012/05/14
不服
2011 -7003
ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
西 和哉 その他
株式会社ニコン
原文
保存
該当なし
2012/05/11
不服
2011 -7811
基板処理装置および基板処理方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社SOKUDO
原文
保存
該当なし
2012/05/11
不服
2011 -7810
基板処理装置および基板処理方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社SOKUDO
原文
保存
該当なし
2012/05/09
不服
2011 -2830
露光装置及びデバイス製造方法
原査定を取り消す。 本願は、特許すべきものとする。
大塚 康徳 その他
キヤノン株式会社
原文
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該当なし
2012/05/08
不服
2010 -3783
ナノ物質の操作方法およびその利用
本件審判の請求は、成り立たない。
独立行政法人科学技術振興機構
原文
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該当なし
2012/05/02
不服
2009 -19432
ステッチング誤差防止用改良型パターン・ジェネレータ
本件審判の請求は、成り立たない。
岩本 行夫 その他
マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット
原文
保存
該当なし
2012/04/11
不服
2011 -5105
リソグラフィ装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
大貫 敏史
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/04/02
不服
2010 -25044
光近接効果補正のために集積回路を分類する方法及びシステム
本件審判の請求は、成り立たない。
小野 新次郎 その他
エルエスアイ コーポレーション
原文
保存
該当なし
2012/03/29
不服
2009 -23471
光学システム、リソグラフィ装置、光学システムのアポディゼーションを修正する方法、及びデバイス製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は特許すべきものとする。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/03/26
不服
2011 -7812
基板処理装置および基板処理方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社SOKUDO
原文
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該当なし
2012/03/23
不服
2010 -20696
照明光学装置、露光装置、露光方法、およびマイクロデバイスの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
城戸 博兒 その他
株式会社ニコン
原文
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該当なし
2012/03/23
不服
2010 -20697
光束変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
黒木 義樹 その他
株式会社ニコン
原文
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該当なし
2012/03/09
不服
2010 -20309
リソグラフィ装置、偏光特性を決定する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/03/05
不服
2010 -22973
リソグラフィ装置及び物体テーブルを位置決めするための位置決めデバイスを利用したデバイス製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
保存
該当なし
2012/03/01
不服
2010 -29142
ナノポーラス表面を有する製品の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
大貫 敏史 その他
エンパイア テクノロジー ディベロップメント エルエルシー
原文
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該当なし
2012/02/28
不服
2010 -22303
リソグラフィシステム、センサ、および基板のプロパティを測定する方法
本件審判の請求は、成り立たない。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
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該当なし
2012/02/17
不服
2010 -16125
流路形成部材、露光装置及びデバイス製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
西 和哉 その他
株式会社ニコン
原文
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該当なし
2012/02/15
不服
2010 -17259
光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
山下 昭彦
マーク デイヴィッド レヴェンソン 大日本印刷株式会社
原文
保存
該当なし
2012/02/13
不服
2010 -28772
反射マスク基板のコーティング
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
勝沼 宏仁 その他
エクストリーム、ウルトラバイオレット、リミテッド、ライアビリティ、カンパニー
原文
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該当なし
2012/02/08
不服
2010 -26639
インプリント方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
大日本印刷株式会社
原文
保存
該当なし
2012/02/06
不服
2010 -26052
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
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該当なし
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