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現在の検索キーワード：寺本光生

1743 件のヒット

審決年月日	審判番号	発明・考案の名称	結論	代理人	請求人
2011/03/31	不服 2008 -32526	エピタキシャル基板、当該エピタキシャル基板の製造方法、当該エピタキシャル基板の反り抑制方法、および当該エピタキシャル基板を用いた半導体積層構造	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	吉竹英俊	日本碍子株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/29	不服 2009 -2718	金属セラミックス回路基板	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	澤木紀一	DOWAホールディングス株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/29	不服 2009 -20567	炭酸ガスレーザー加工によるスルーホールを有する多層プリント配線板の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		三菱瓦斯化学株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/29	不服 2009 -10887	エッジストリップとカソード板の密着方法	本件審判の請求は、成り立たない。		JX日鉱日石金属株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/28	不服 2009 -15796	薄いストリップを連続的にキャストするための方法ならびにこの方法を実施するための装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	志賀正武その他	シーメンス・ファオアーイー・メタルズ・テクノロジーズ・ゲーエムベーハーティッセンクルップ・アシアイ・スペシアリ・テルニ・エッセ・ピ・ア	原文	保存
該当なし
2011/03/25	不服 2009 -20968	多層プリント配線板	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	杉村憲司その他	イビデン株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/24	不服 2010 -14	金属の表面処理剤	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	酒井正己	JX日鉱日石金属株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/23	不服 2009 -7630	ドライエッチング用ガスおよび半導体デバイスの加工方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		HOYA株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/23	不服 2009 -24343	電子装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	永井聡その他	株式会社デンソー	原文	保存
該当なし
2011/03/22	不服 2010 -12477	シリコンウェーハの加工方法、及び半導体ひずみセンサの製造方法	平成22年 3月 3日付けの補正の却下の決定を取り消す。原査定を……		株式会社フジクラ	原文	保存
該当なし
2011/03/22	不服 2009 -21196	フレキシブル配線基板の製造方法	本件審判の請求は、成り立たない。		トヨタ自動車株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/22	不服 2009 -19899	被圧延薄板の巻取時のしわ発生防止方法及び装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	梶良之	株式会社神戸製鋼所	原文	保存
該当なし
2011/03/22	不服 2009 -7871	極細線回路プリント配線板の製造方法。	本件審判の請求は、成り立たない。	永井隆	三菱瓦斯化学株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/22	不服 2010 -4261	半導体装置と画像読取装置と画像形成装置	本件審判の請求は、成り立たない。		株式会社リコー	原文	保存
該当なし
2011/03/22	不服 2009 -15545	ステンレス鋼管の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		住友金属工業株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/18	不服 2009 -4061	電子部品製造プロセスの検査解析システム及びウェーハの検査解析方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2011/03/16	不服 2009 -8339	半導体パッケージおよびその製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	高橋詔男その他	オリンパス株式会社株式会社フジクラ	原文	保存
該当なし
2011/03/15	不服 2009 -17573	膜形成方法、膜、及び素子	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	宇高克己	中山弘株式会社トリケミカル研究所	原文	保存
該当なし
2011/03/15	不服 2009 -18382	炭素鋼の高速連続鋳造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	杉村憲司その他	JFEスチール株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/15	訂正 2011 -390017	マンドレルバーとその製造方法	特許第3717745号に係る明細書を本件審判請求書に添付された訂正……	杉岡幹二その他	株式会社日本製鋼所住友金属工業株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/15	不服 2010 -10484	錫電気めっき液及びめっき方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		日本リーロナール有限会社	原文	保存
該当なし
2011/03/15	不服 2008 -30385	3C-SiCエピタキシャル薄膜の作製方法及び同方法で作製したSiCエピタキシャル薄膜	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		独立行政法人産業技術総合研究所	原文	保存
該当なし
2011/03/15	不服 2008 -29131	銀触媒および無電解金属組成物を用いた非導電表面のメタライゼーション	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー	原文	保存
該当なし
2011/03/11	不服 2008 -29011	急冷鋳造装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		シンフォニアテクノロジー株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/10	不服 2009 -18421	Ga窒化物半導体用基板及びその製造方法、Ga窒化物半導体及びその製造方法、並びに該Ga窒化物半導体を用いた発光ダイオード	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	特許業務法人京都国際特許事務所	学校法人立命館	原文	保存
該当なし
2011/03/10	不服 2009 -21870	PVD皮膜の剥離方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	倉内基弘	日本表面化学株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/09	不服 2009 -18090	集積回路内の同時的スイッチングノイズを減少させるためのシステム及び方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	福原淑弘その他	株式会社東芝インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション	原文	保存
パリ条約
2011/03/09	不服 2010 -9313	窒化ガリウム結晶の成長方法、窒化ガリウム結晶基板、エピウエハの製造方法およびエピウエハ	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	佐々木眞人その他	住友電気工業株式会社	原文	保存
該当なし
2011/03/08	不服 2008 -29649	配線基板、電子部品実装構造、および電子部品実装方法	本件審判の請求は、成り立たない。		ソニー株式会社株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント	原文	保存
該当なし
2011/03/08	不服 2009 -11673	金属ベース回路基板	本件審判の請求は、成り立たない。	小林義教	電気化学工業株式会社	原文	保存
該当なし

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