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現在の検索キーワード： 柴山 将隆

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2016/07/15 不服
2014 -22630  		高性能/高スループット複数チャンバMOCVD成長装置 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 泰 その他   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2016/06/30 不服
2015 -9873  		トランジスタデバイスおよび高電子移動度トランジスタ(HEMT) 本件審判の請求は、成り立たない。   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2016/06/28 不服
2015 -2720  		半導体装置の作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし 　
2016/06/22 不服
2015 -6365  		窒化物系半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福田 浩志 その他   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/06/14 不服
2015 -4839  		半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/06/14 不服
2015 -5429  		半導体集積回路装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 八田国際特許業務法人 その他   インフィネオン テクノロジーズ ノース アメリカ コーポレイション グローバルファウンドリーズ シンガポール プライベート リミテッド インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 三星電子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/06/14 不服
2015 -6986  		イメージセンサチップおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし 　
2016/06/09 不服
2015 -4171  		プラズマ損傷からフォトダイオードを保護するCMOSイメージセンサの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 有原 幸一 その他   インテレクチュアル・ヴェンチャーズ・II・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー   原文 保存
該当なし 　
2016/06/06 不服
2014 -25341  		バッチ式熱処理装置及び該装置に適用されるヒータ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 勝見 陽介 その他   株式会社テラセミコン   原文 保存
該当なし 　
2016/05/30 不服
2014 -22269  		高k材料ゲート構造の高温エッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2016/05/25 不服
2015 -6535  		縦チャネル型ノーマリオフ型パワーJFETの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/05/17 不服
2015 -1661  		基板処理方法、この基板処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体、および基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山下 和也 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/05/09 不服
2015 -1938  		基板の洗浄方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/04/11 不服
2015 -4311  		半導体デバイス製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 山口 和弘 その他   ソイテック   原文 保存
該当なし 　
2016/03/31 不服
2015 -8556  		半導体装置およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/03/29 不服
2015 -6167  		ダイオードおよび半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人快友国際特許事務所   株式会社豊田中央研究所 トヨタ自動車株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/03/14 不服
2015 -596  		半導体装置及び半導体装置の作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし 　
2016/03/02 不服
2015 -3002  		半導体素子 本件審判の請求は,成り立たない。   ヴィシェイ-シリコニックス   原文 保存
該当なし 　
2016/01/22 異議
2015 -700153  		基板処理方法及び基板処理装置 特許第5712101号の請求項1ないし9に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし 　

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