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現在の検索キーワード： 若土 雅之

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2012/09/06 不服
2010 -4747  		基材上にDLCを含む疎水性コーティング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2012/08/30 不服
2011 -20888  		成膜方法及び成膜装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   藤田 静雄 株式会社陶喜   原文 保存
該当なし 　
2012/08/29 不服
2009 -10447  		ガラスへの四面体非晶質炭素コーティング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2012/08/27 不服
2010 -27512  		気相成長法による単結晶の製造装置および製造法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 池田 幸弘 その他   ノルステル アクチエボラグ   原文 保存
該当なし 　
2012/08/01 不服
2010 -4642  		窒化物半導体基板、半導体デバイス、半導体発光素子、半導体受光素子および窒化物半導体基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   学校法人 名城大学   原文 保存
該当なし 　
2012/07/20 不服
2009 -2392  		酸化ネオジウムドーピング車両用風防、安全ガラス材料と窓ガラス 本件審判の請求は、成り立たない。   カーペン, ダニエル, ネイサン   原文 保存
該当なし 　
2012/07/18 不服
2011 -20145  		真空スパッタリング用カソード 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 渡邊 隆 その他   アッシュ・ウー・エフ   原文 保存
該当なし 　
2012/06/25 不服
2011 -18159  		単結晶ダイヤモンド成長用基材の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 好宮 幹夫   AGDマテリアル株式会社 信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/06/22 不服
2011 -11608  		Ag系スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伊藤 浩彰 その他   株式会社コベルコ科研   原文 保存
該当なし 　
2012/06/21 不服
2009 -10529  		X線光学コンポーネントのための基板材料 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 村山 靖彦 その他   カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー ショット アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし 　
2012/06/21 不服
2011 -5130  		マイクロ波プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/05/29 不服
2011 -4284  		SiドープGaAｓ単結晶 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清野 仁   DOWAホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/05/17 不服
2010 -9486  		表面シール中空ガラス容器の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 矢野 敏雄 その他   オーバーラント グラース アクチエンゲゼルシャフト エボニック デグサ ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし 　
2012/05/02 不服
2009 -17191  		単結晶の製造方法及び原料結晶の管理方法並びに管理システム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/04/16 不服
2009 -5056  		ガラス・コーティング 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ ゲーエムベーハー ウント ツェーオー カーゲー   原文 保存
該当なし 　
2012/04/12 不服
2010 -3474  		シリカガラスルツボ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   コバレントマテリアル株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/04/05 不服
2009 -23612  		高抵抗シリコンウェーハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし 　
2012/03/30 不服
2008 -24779  		窒化物半導体基板および窒化物半導体基板の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/30 不服
2010 -3468  		シリカガラスルツボ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   コバレントマテリアル株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/29 不服
2009 -23092  		シリコン単結晶の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/28 不服
2010 -22909  		炭化珪素半導体基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/26 不服
2008 -31485  		エピタキシャル基板 本件審判の請求は、成り立たない。   日本碍子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/26 不服
2010 -20105  		加飾方法及び加飾された自動車用部品 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 廣瀬 繁樹 その他   株式会社アルバック 小島プレス工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/21 不服
2009 -12283  		磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子 本件審判の請求は、成り立たない。   TDK株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/21 不服
2009 -12282  		磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子 本件審判の請求は、成り立たない。   TDK株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/12 不服
2011 -6232  		炭化ケイ素単結晶及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 廣田 浩一   株式会社ブリヂストン   原文 保存
該当なし 　
2012/02/17 不服
2010 -26377  		スパッタリング装置及びスパッタリング装置用のターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし 　
2012/02/01 不服
2011 -4975  		I.S.機械の搬出機構 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 千葉 昭男 その他   エムハート・グラス・ソシエテ・アノニム   原文 保存
 パリ条約 　
2012/01/23 不服
2010 -20502  		薄膜製造方法および薄膜製造設備 本件審判の請求は、成り立たない。   住友電気工業株式会社   原文 保存
 引用発明の認定 　
2012/01/23 不服
2009 -10425  		低底面転位バルク成長SiCウェハ 本件審判の請求は、成り立たない。 林 鉐三 その他   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　

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