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現在の検索キーワード: 若土 雅之

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2011/05/23 不服
2009 -16343 
TiZr炭窒化物皮膜被覆工具の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日立ツール株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/15 不服
2009 -6245 
薄膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 細田 益稔   日本碍子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/03/30 不服
2009 -16220 
加飾プラスチック成形品 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社吉野工業所   原文 保存
該当なし  
2011/03/28 不服
2007 -33517 
シリコン単結晶の育成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2011/03/16 不服
2009 -548 
物品をコーティングする装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 岡部 正夫 その他   ショット アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
 パリ条約  
2011/03/07 不服
2008 -23554 
薄膜形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エー・エス・エムジニテックコリア株式会社   原文 保存
 引用発明の認定  
2011/03/03 不服
2008 -626 
エピタキシャルシリコンウェーハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2008 -14218 
単結晶引き上げ用炭素繊維強化炭素複合材料製ルツボ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 梶 良之   東洋炭素株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2008 -1203 
単結晶の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2008 -25511 
誘導結合プラズマ化学気相蒸着装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三星モバイルディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし  
2011/02/08 不服
2008 -6837 
成膜方法及びプラズマCVD装置 本件審判の請求は、成り立たない。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/01 不服
2007 -31347 
電灯用ガラス組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本電気硝子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/31 不服
2007 -15584 
原子層蒸着方法を利用した障壁金属膜の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 宇谷 勝幸 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/27 不服
2007 -34335 
エピタキシャルウェーハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2011/01/19 不服
2007 -30032 
窒化ガリウム系単結晶基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 伊藤 正和   サムソン エルイーディー カンパニーリミテッド.   原文 保存
 パリ条約  
2010/12/20 不服
2007 -30171 
ガラスをコーティングする方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 来間 清志 その他   ピルキントン グループ リミテッド   原文 保存
該当なし  
2010/11/29 不服
2007 -30898 
多結晶シリコンの製造方法及び多結晶シリコン製造用ルツボ 本件審判の請求は、成り立たない。 柳井 則子 その他   三菱マテリアル株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/24 不服
2007 -34262 
プラズマで補強した原子層蒸着装置及びこれを利用した薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エー・エス・エムジニテックコリア株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/02 不服
2007 -23590 
中空のターゲットを備えた、陰極スパッタによりサブストレートを被覆するための装置 本件審判の請求は、成り立たない。 久野 琢也 その他   バルツァース プロツエス-ジステーメ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
 引用発明の認定  
2010/10/29 不服
2007 -21933 
窒化物半導体基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日亜化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/05 不服
2007 -22124 
単結晶の引上速度制御方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2010/09/28 不服
2008 -19324 
プラズマCVD装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社神戸製鋼所   原文 保存
該当なし  
2010/09/15 不服
2008 -3719 
薄膜の製造方法及び薄膜製造装置 本件審判の請求は、成り立たない。   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/09/14 不服
2009 -25464 
カーボンナノチューブを安全に充填する方法と、充填システムと、それを用いた工業プラント 本件審判の請求は,成り立たない。 越場 隆   アルケマ フランス   原文 保存
該当なし  
2010/09/13 不服
2007 -27086 
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   西山ステンレスケミカル株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2010/09/13 不服
2008 -9987 
ガラス基材の処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 良博 その他   サン-ゴバン グラス フランス   原文 保存
該当なし  
2010/09/07 不服
2007 -27125 
半導体基材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱化学株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/09/01 不服
2008 -5439 
プラズマCVD装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社神戸製鋼所   原文 保存
該当なし  
2010/08/25 不服
2007 -24340 
帯域引上した半導体材料からなるドープされた半導体ウェハ及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 久野 琢也 その他   ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2010/08/11 不服
2008 -29626 
薄膜及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社豊田中央研究所   原文 保存
該当なし  

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