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現在の検索キーワード: 山本 雄一

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2017/03/31 異議
2016 -700713 
多層高分子フィルムを製造するためのフィードブロック 特許第5856149号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 古賀 哲次 その他     原文 保存
該当なし  
2017/03/27 不服
2015 -20928 
摺動部材の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   千住金属工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/21 不服
2015 -6499 
めっき密着性に優れた高強度合金化溶融亜鉛めっき鋼板とその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 古賀 哲次 その他   新日鐵住金株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/13 不服
2015 -12528 
ガス流分布が改善された熱反応器 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/01/30 不服
2015 -10033 
半導体デバイス上に共形酸化物層を形成するための方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/01/23 不服
2015 -17866 
鋼板安定化装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 原 裕子 その他   ポスコ   原文 保存
該当なし  
2016/10/17 不服
2015 -14748 
熱間プレス用めっき鋼板、めっき鋼板の熱間プレス方法及び自動車部品 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   新日鐵住金株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/10/11 不服
2015 -21713 
高Si含有の方向性電磁鋼板の冷間圧延方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 亀松 宏 その他   新日鐵住金株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/09/20 不服
2014 -16219 
軽減システムの改善された操作方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/09/13 不服
2014 -16163 
電子デバイス製造システムの操作を改善する方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/05/09 不服
2015 -11184 
半導体装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 黒瀬 泰之 その他   ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル   原文 保存
該当なし  
2016/04/18 不服
2014 -22784 
浸漬金属被覆槽の出口で被覆液体金属を脱液するための方法及び装置 本件審判の請求は、成り立たない。 久野 琢也 その他   ランスティテュ ポリテクニーク ド グルノーブル シーメンス ヴェ メタルス テクノロジーズ エスアーエス サントル ナショナル ドゥ ラ ルシャルシュ シアンティフィク   原文 保存
該当なし  
2016/03/15 不服
2014 -18894 
スタックICの静電放電(ESD)保護 本件審判の請求は、成り立たない。 峰 隆司 その他   クゥアルコム・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/02/22 不服
2015 -8251 
電子装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ロジャース ジャーマニー ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2016/01/18 不服
2013 -21286 
III族窒化物膜の成長方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   国立研究開発法人科学技術振興機構   原文 保存
該当なし  
2015/11/30 不服
2014 -15455 
エピタキシャルウエハおよびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 緒方 大介 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/10/14 不服
2014 -16511 
エピタキシャルウェーハの製造方法及びエピタキシャル成長装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/08/24 不服
2014 -8330 
半導体ウェハを処理するリアクタ、そのリアクタのカバー部材、および、そのリアクタを作動する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小林 義教   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2015/06/26 不服
2014 -11572 
エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2015/06/17 不服
2013 -21437 
原子層蒸着チャンバに対してガスを出し入れする装置及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大塚 文昭 その他   エドワーズ リミテッド   原文 保存
該当なし  
2015/03/09 不服
2014 -942 
半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 長谷川 芳樹 その他   日立マクセル株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/03/09 不服
2013 -25844 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 長谷川 芳樹 その他   日立マクセル株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/03/09 不服
2014 -943 
半導体装置用の中間部品および半導体装置用の中間部品の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 長谷川 芳樹 その他   日立マクセル株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/02/25 不服
2013 -9351 
半極性(Ga,Al,In,B)N薄膜、ヘテロ構造およびデバイスの成長と作製のための方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清水 守   独立行政法人科学技術振興機構 ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア   原文 保存
該当なし  
2014/09/24 不服
2013 -24035 
フッ素及び水素を使用する順次の酸化物の取り除き 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伊東 忠彦 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/08/04 不服
2013 -20624 
リードレス表面実装型の半導体装置の製造に用いる半導体素子搭載用基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   SHマテリアル株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/05/09 不服
2013 -11675 
薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法及び薄膜形成装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/04/30 不服
2013 -15309 
一体型スルーホール熱放散ピンを有するモールドされた半導体パッケージおよび該製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2014/03/05 不服
2013 -6326 
半導体装置およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2014/02/12 不服
2013 -8629 
窒化物半導体製造装置部品の洗浄方法と洗浄装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伏見 俊介 その他   大陽日酸株式会社   原文 保存
該当なし  

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