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市川 篤
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2011/08/05
不服
2008 -14889
絶縁皮膜密着性に優れかつ鉄損の極めて低い方向性電磁鋼板の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
中村 朝幸 その他
新日本製鐵株式会社
原文
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該当なし
2011/07/29
不服
2009 -18084
非揮発性強誘電体メモリ装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
長谷 照一
株式会社ハイニックスセミコンダクター
原文
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該当なし
2011/07/28
不服
2009 -6375
電磁ソレノイド及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
堀田 幹生 その他
タカハ機工株式会社
原文
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該当なし
2011/07/28
不服
2008 -23018
半導体装置及びその設計方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
宮坂 一彦 その他
セイコーエプソン株式会社
原文
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該当なし
2011/07/25
不服
2008 -15211
静電放電保護回路
本件審判の請求は、成り立たない。
特許業務法人 エビス国際特許事務所 その他
友達光電股▲ふん▼有限公司
原文
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該当なし
2011/07/14
不服
2008 -25188
半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士電機株式会社
原文
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該当なし
2011/07/06
不服
2011 -8104
レーザー照射装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社半導体エネルギー研究所
原文
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該当なし
2011/07/06
不服
2008 -13129
電解コンデンサ
本件審判の請求は,成り立たない。
日本ケミコン株式会社
原文
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該当なし
2011/07/06
不服
2008 -29132
スプリットゲートフラッシュメモリセル及びその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
酒井 將行 その他
トンブ・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド
原文
保存
該当なし
2011/07/06
不服
2008 -13187
電解コンデンサ
本件審判の請求は,成り立たない。
日本ケミコン株式会社
原文
保存
該当なし
2011/07/06
不服
2008 -21141
半導体装置のキャパシタ製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
三星電子株式会社
原文
保存
該当なし
2011/07/06
不服
2008 -29013
磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッド、磁気ヘッド装置及び磁気記録再生装置
本件審判の請求は、成り立たない。
TDK株式会社
原文
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29条の2(拡大された先願の地位)
2011/07/06
不服
2008 -22459
集積回路を製造するパターン化方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
田中 秀佳 その他
旺宏電子股▲ふん▼有限公司
原文
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該当なし
2011/06/21
不服
2008 -22915
磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
羽切 正治 その他
キヤノンアネルバ株式会社
原文
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該当なし
2011/06/20
不服
2008 -1196
2つのスピン・オン誘電材料から構成されるハイブリッド型低誘電率相互接続構造
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
市位 嘉宏 その他
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
原文
保存
該当なし
2011/06/15
不服
2008 -16692
コイル部品
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
北澤 一浩 その他
TDK株式会社
原文
保存
該当なし
2011/06/14
不服
2008 -31529
選択的に連結された本体を有するシリコン酸化物絶縁体(SOI)半導体
本件審判の請求は、成り立たない。
堀井 豊 その他
アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2011/06/14
不服
2008 -23135
低容量ESD耐性ダイオードの方法および構造
本件審判の請求は、成り立たない。
上野 剛史 その他
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
原文
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パリ条約 新規事項の追加
2011/06/10
不服
2009 -4790
薄膜半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社 液晶先端技術開発センター
原文
保存
該当なし
2011/06/09
不服
2008 -21128
局部エッチング阻止物質層を有するビットラインスタッド上のビットラインランディングパッドと非境界コンタクトとを有する半導体素子及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
志賀 正武 その他
三星電子株式会社
原文
保存
該当なし
2011/06/08
不服
2009 -6606
表示装置の基板の製造方法及び結晶化装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
シャープ株式会社
原文
保存
該当なし
2011/06/02
不服
2008 -32134
半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
富士通セミコンダクター株式会社
原文
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該当なし
2011/05/30
不服
2010 -18569
高いアーリー電圧,高周波性能及び高降伏電圧特性を具備した相補型バイポーラトランジスター及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ハリス・コーポレーション
原文
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該当なし
2011/05/25
不服
2008 -14043
表面実装サーミスタ部品
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社村田製作所
原文
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該当なし
2011/05/25
不服
2008 -11046
セラミック電子部品の製造装置
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
阿部 美次郎
TDK株式会社
原文
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該当なし
2011/05/25
不服
2009 -8386
磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、磁気再生装置および磁気メモリ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社東芝
原文
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該当なし
2011/05/25
不服
2010 -2756
汎用的にアクセス可能である十分にプログラム可能なメモリ組み込み自己テスト(MBIST)システムおよび方法
本件審判の請求は、成り立たない。
志賀 正武 その他
アナログ デバイシーズ インク
原文
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新規事項の追加
2011/05/11
不服
2009 -1235
固体撮像装置
本件審判の請求は、成り立たない。
ソニー株式会社
原文
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該当なし
2011/05/10
不服
2010 -1827
半導体メモリ装置
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社ハイニックスセミコンダクター
原文
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パリ条約 新規事項の追加
2011/05/10
不服
2008 -30287
固体撮像装置
本件審判の請求は、成り立たない。
角田 芳末
ソニー株式会社
原文
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進歩性(29条2項) 実施可能要件 明確性 新規性
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