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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2011/08/05 不服
2008 -14889 
絶縁皮膜密着性に優れかつ鉄損の極めて低い方向性電磁鋼板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中村 朝幸 その他   新日本製鐵株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/29 不服
2009 -18084 
非揮発性強誘電体メモリ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 長谷 照一   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
該当なし  
2011/07/28 不服
2009 -6375 
電磁ソレノイド及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 堀田 幹生 その他   タカハ機工株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/28 不服
2008 -23018 
半導体装置及びその設計方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 宮坂 一彦 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/25 不服
2008 -15211 
静電放電保護回路 本件審判の請求は、成り立たない。 特許業務法人 エビス国際特許事務所 その他   友達光電股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2011/07/14 不服
2008 -25188 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2011 -8104 
レーザー照射装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2008 -13129 
電解コンデンサ 本件審判の請求は,成り立たない。   日本ケミコン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2008 -29132 
スプリットゲートフラッシュメモリセル及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 酒井 將行 その他   トンブ・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2008 -13187 
電解コンデンサ 本件審判の請求は,成り立たない。   日本ケミコン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2008 -21141 
半導体装置のキャパシタ製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2008 -29013 
磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッド、磁気ヘッド装置及び磁気記録再生装置 本件審判の請求は、成り立たない。   TDK株式会社   原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2011/07/06 不服
2008 -22459 
集積回路を製造するパターン化方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 田中 秀佳 その他   旺宏電子股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2011/06/21 不服
2008 -22915 
磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 羽切 正治 その他   キヤノンアネルバ株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/20 不服
2008 -1196 
2つのスピン・オン誘電材料から構成されるハイブリッド型低誘電率相互接続構造 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 市位 嘉宏 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2011/06/15 不服
2008 -16692 
コイル部品 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 北澤 一浩 その他   TDK株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/14 不服
2008 -31529 
選択的に連結された本体を有するシリコン酸化物絶縁体(SOI)半導体 本件審判の請求は、成り立たない。 堀井 豊 その他   アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2011/06/14 不服
2008 -23135 
低容量ESD耐性ダイオードの方法および構造 本件審判の請求は、成り立たない。 上野 剛史 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
 パリ条約  新規事項の追加  
2011/06/10 不服
2009 -4790 
薄膜半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社 液晶先端技術開発センター   原文 保存
該当なし  
2011/06/09 不服
2008 -21128 
局部エッチング阻止物質層を有するビットラインスタッド上のビットラインランディングパッドと非境界コンタクトとを有する半導体素子及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 志賀 正武 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/08 不服
2009 -6606 
表示装置の基板の製造方法及び結晶化装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/02 不服
2008 -32134 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   富士通セミコンダクター株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/05/30 不服
2010 -18569 
高いアーリー電圧,高周波性能及び高降伏電圧特性を具備した相補型バイポーラトランジスター及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ハリス・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2011/05/25 不服
2008 -14043 
表面実装サーミスタ部品 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社村田製作所   原文 保存
該当なし  
2011/05/25 不服
2008 -11046 
セラミック電子部品の製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 阿部 美次郎   TDK株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/05/25 不服
2009 -8386 
磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、磁気再生装置および磁気メモリ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2011/05/25 不服
2010 -2756 
汎用的にアクセス可能である十分にプログラム可能なメモリ組み込み自己テスト(MBIST)システムおよび方法 本件審判の請求は、成り立たない。 志賀 正武 その他   アナログ デバイシーズ インク   原文 保存
 新規事項の追加  
2011/05/11 不服
2009 -1235 
固体撮像装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/05/10 不服
2010 -1827 
半導体メモリ装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
 パリ条約  新規事項の追加  
2011/05/10 不服
2008 -30287 
固体撮像装置 本件審判の請求は、成り立たない。 角田 芳末   ソニー株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  実施可能要件  明確性  新規性  

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