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小野田 誠
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2011/04/05
不服
2008 -24222
多層拡張ドレイン構造を有する高電圧トランジスタを作製する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
大塚 文昭 その他
パワー・インテグレーションズ・インコーポレーテッド
原文
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該当なし
2011/03/23
不服
2008 -24221
多層拡張ドレイン構造を有する高電圧ラテラルトランジスタ
本件審判の請求は、成り立たない。
大塚 文昭 その他
パワー・インテグレーションズ・インコーポレーテッド
原文
保存
新規事項の追加
2011/02/01
不服
2008 -8241
トレンチゲート半導体デバイスおよびそれらの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
高橋 佳大 その他
エヌエックスピー ビー ヴィ
原文
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該当なし
2011/01/28
不服
2008 -12142
有機回路の作製プロセス
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
岡部 讓 その他
アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド
原文
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該当なし
2011/01/20
不服
2008 -18072
液晶表示装置用アレー基板製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
朝日 伸光 その他
エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド
原文
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パリ条約
2010/12/28
不服
2008 -7565
半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
富士電機システムズ株式会社
原文
保存
該当なし
2010/11/29
不服
2008 -10807
トランジスタ
本件審判の請求は、成り立たない。
白石 光男 その他
中華映管股▲ふん▼有限公司
原文
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該当なし
2010/11/24
不服
2008 -9957
半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
須澤 修 その他
セイコーエプソン株式会社
原文
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該当なし
2010/10/12
不服
2008 -10179
アニールウエーハの製造方法及びアニールウエーハ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
信越半導体株式会社
原文
保存
該当なし
2010/09/27
不服
2008 -3330
シリコン半導体基板及びその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
シルトロニック・ジャパン株式会社
原文
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該当なし
2010/09/08
不服
2007 -29418
MOSゲート半導体デバイスの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
下地 健一 その他
インターナショナル レクティフィアー コーポレイション
原文
保存
該当なし
2010/08/30
不服
2007 -22340
半導体デバイス
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2010/08/03
不服
2008 -11466
半導体装置
本件審判の請求は、成り立たない。
佐藤 一雄 その他
株式会社東芝
原文
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該当なし
2010/08/02
不服
2008 -6978
逆阻止型IGBTおよびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士電機システムズ株式会社
原文
保存
該当なし
2010/07/02
不服
2008 -15927
半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
熊倉 禎男 その他
アナム セミコンダクター リミテッド
原文
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該当なし
2010/07/02
不服
2007 -27133
半導体素子の製造方法、および半導体素子製造用処理室
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
岡田 宏之
OKIセミコンダクタ株式会社
原文
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該当なし
2010/06/24
不服
2008 -685
半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
竹内 宏 その他
パナソニック株式会社
原文
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該当なし
2010/05/20
不服
2007 -28922
窒素化合物半導体素子
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社東芝
原文
保存
該当なし
2010/05/18
不服
2007 -14077
圧電体素子および液体吐出ヘッド
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
稲葉 良幸 その他
セイコーエプソン株式会社
原文
保存
該当なし
2010/05/10
不服
2007 -31253
ダミー充填パターンを用いる半導体回路におけるデカップリングキャパシタの形成方法および半導体構造
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
特許業務法人原謙三国際特許事務所
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション インフィネオン テクノロジーズ ノース アメリカ コーポレイション
原文
保存
該当なし
2010/04/26
不服
2007 -20872
固体撮像装置とその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
角田 芳末
ソニー株式会社
原文
保存
新規事項の追加
2010/04/23
不服
2007 -23076
半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士電機システムズ株式会社
原文
保存
該当なし
2010/04/13
不服
2007 -4112
シリコン半導体基板およびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
八田 幹雄 その他
シルトロニック・ジャパン株式会社
原文
保存
該当なし
2010/04/12
不服
2007 -22688
薄膜トランジスタ及びその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
シャープ株式会社
原文
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新規事項の追加
2010/03/23
不服
2009 -15686
ペロブスカイト型酸化物、強誘電体膜、強誘電体素子、及び液体吐出装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
柳田 征史
富士フイルム株式会社
原文
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該当なし
2010/03/23
不服
2007 -14471
半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社東芝
原文
保存
該当なし
2010/03/23
不服
2006 -20033
磁気メモリ装置
本件審判の請求は、成り立たない。
伊藤 仁恭
ソニー株式会社
原文
保存
該当なし
2010/02/03
不服
2006 -16455
半導体デバイス
本件審判の請求は、成り立たない。
岡部 正夫 その他
アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド
原文
保存
実施可能要件 パリ条約
2010/02/01
不服
2007 -12673
シリコンエピタキシャルウェーハ及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
石原 進介
信越半導体株式会社
原文
保存
該当なし
2010/01/25
不服
2007 -12282
半導体集積回路
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
原文
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該当なし
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