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松田 成正
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2011/04/28
不服
2009 -7119
シリコンウェーハの熱処理装置
本件審判の請求は、成り立たない。
村山 靖彦 その他
株式会社SUMCO
原文
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進歩性(29条2項)
2011/04/27
不服
2008 -4697
グラニュラ磁性薄膜及びその製造方法,積層磁性膜,磁性部品,電子機器
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
太陽誘電株式会社
原文
保存
該当なし
2011/04/26
不服
2008 -28179
均一性に優れた薄膜トランジスタ及びこれを用いる有機電界発光素子
本件審判の請求は,成り立たない。
村山 靖彦 その他
三星モバイルディスプレイ株式會社
原文
保存
パリ条約 新規事項の追加
2011/04/25
不服
2009 -11410
薄膜トランジスタの半導体構造
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
井原 光雅 その他
トムソン ライセンシング
原文
保存
該当なし
2011/04/25
不服
2008 -8336
電気抵抗薄膜及びセンサデバイス
本件審判の請求は、成り立たない。
財団法人電気磁気材料研究所
原文
保存
進歩性(29条2項)
2011/04/25
不服
2008 -16905
張り合わせシリコン基板の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社SUMCO
原文
保存
該当なし
2011/04/22
不服
2008 -15092
集積回路を製造するための装置および方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
溝部 孝彦
ヒューレット・パッカード・カンパニー
原文
保存
パリ条約
2011/04/22
不服
2008 -15343
薄膜半導体装置
本件審判の請求は、成り立たない。
特許業務法人はるか国際特許事務所
株式会社 日立ディスプレイズ パナソニック液晶ディスプレイ株式会社
原文
保存
実施可能要件
2011/04/21
不服
2008 -18829
薄膜トランジスタ基板の製造方法、および表示デバイス
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
植木 久一 その他
株式会社神戸製鋼所
原文
保存
該当なし
2011/04/19
不服
2008 -15627
酸化物超電導体電流リード
本件審判の請求は、成り立たない。
新日本製鐵株式会社
原文
保存
進歩性(29条2項)
2011/04/15
不服
2009 -7972
ニッケルシリサイドのブリッジを減じるためのシリコン酸化物ライナ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
仲村 義平 その他
アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
原文
保存
該当なし
2011/04/14
不服
2008 -19290
光電気変換IC
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
ローム株式会社
原文
保存
該当なし
2011/04/11
不服
2007 -34078
インバータ変圧器
本件審判の請求は、成り立たない。
三枝 英二
耀勝電子股▲フェン▼有限公司 光詮科技股▲フェン▼有限公司
原文
保存
該当なし
2011/04/06
不服
2008 -6795
ソレノイド及びソレノイドバルブ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
坂井 浩一郎 その他
イーグル工業株式会社
原文
保存
該当なし
2011/04/05
不服
2009 -5637
SOIウエーハ及びSOIウエーハの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
信越半導体株式会社
原文
保存
進歩性(29条2項)
2011/04/05
不服
2009 -6238
レーザーアニーリング装置
本件審判の請求は、成り立たない。
山本 秀策 その他
シャープ株式会社
原文
保存
進歩性(29条2項)
2011/04/05
不服
2008 -17843
半導体装置
本件審判の請求は、成り立たない。
天城 聡 その他
ルネサスエレクトロニクス株式会社
原文
保存
該当なし
2011/04/05
不服
2008 -12533
半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
村松 貞男 その他
株式会社東芝
原文
保存
該当なし
2011/03/25
不服
2008 -1528
実質的に準安定なSiGe層とその形成方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
坂口 博 その他
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
原文
保存
該当なし
2011/03/22
不服
2008 -13636
半導体装置およびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
山崎 宏 その他
シャープ株式会社
原文
保存
該当なし
2011/03/22
不服
2008 -29885
磁気特性安定のための焼き鈍し磁性要素
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
センサーマティック・エレクトロニクス・コーポレーション
原文
保存
該当なし
2011/03/16
不服
2008 -5710
抵抗器、その製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
山田 文雄 その他
アルファ・エレクトロニクス株式会社 秋田県
原文
保存
該当なし
2011/03/02
不服
2008 -5369
厚膜チップコンデンサとその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
酒井 一
釜屋電機株式会社
原文
保存
該当なし
2011/03/02
不服
2008 -1529
六方晶フェライト磁石粉末と六方晶フェライト焼結磁石の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
TDK株式会社
原文
保存
該当なし
2011/03/01
不服
2008 -6111
画像表示装置およびその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
特許業務法人はるか国際特許事務所
株式会社 日立ディスプレイズ パナソニック液晶ディスプレイ株式会社
原文
保存
進歩性(29条2項)
2011/02/25
不服
2008 -24832
ナノスコピック熱電冷却装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
市位 嘉宏 その他
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
原文
保存
パリ条約
2011/02/24
不服
2007 -35059
電気二重層キャパシタおよびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
永野 大介 その他
パナソニック株式会社
原文
保存
該当なし
2011/02/18
不服
2008 -14620
薄膜トランジスタの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
特許業務法人はるか国際特許事務所
株式会社 日立ディスプレイズ パナソニック液晶ディスプレイ株式会社
原文
保存
該当なし
2011/02/17
不服
2009 -5944
SOIウエーハの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
石原 詔二
信越半導体株式会社
原文
保存
該当なし
2011/02/17
不服
2008 -10171
アニールウェーハの製造方法及びアニールウェーハ
本件審判の請求は、成り立たない。
信越半導体株式会社
原文
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進歩性(29条2項) 国内優先権
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