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正山 旭
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2000/07/13
審判
1999 -13192
半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日本電気株式会社
原文
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該当なし
2000/07/13
審判
1999 -7099
強誘電体デバイス
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
小栗 昌平 その他
ローム株式会社
原文
保存
該当なし
2000/07/13
審判
1998 -12799
超伝導集積回路の製造方法及び超伝導集積回路
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
福田 修一 その他
日本電気株式会社
原文
保存
該当なし
2000/06/21
審判
1999 -12050
半導体装置及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
福田 修一 その他
日本電気株式会社
原文
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該当なし
2000/05/30
異議
1998 -76084
露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
訂正を認める。 特許第2765422号の請求項1、2、3、4、9に係る特許……
高梨 幸雄
原文
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進歩性(29条2項)
2000/05/09
異議
1999 -73412
半導体メモリ装置
訂正を認める。 特許第2867774号の請求項に係る特許を維持する。
福田 修一 その他
原文
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29条の2(拡大された先願の地位)
2000/04/21
異議
1999 -72078
レジスト処理方法及びレジスト処理装置
特許第2829909号の請求項1ないし14に係る特許を取り消す。
伊賀 誠司 その他
原文
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該当なし
2000/04/19
審判
1998 -20379
投影露光方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社日立製作所
原文
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該当なし
2000/02/23
審判
1999 -3890
半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
河合 信明 その他
日本電気株式会社
原文
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該当なし
2000/02/08
審判
1998 -19084
露光用マスク及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社ソルテック
原文
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該当なし
1999/11/18
審判
1999 -2978
半導体集積回路装置
本件審判の請求は、成り立たない。
日本電気アイシーマイコンシステム株式会社
原文
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該当なし
1999/11/11
審判
1998 -8142
レジスト塗布方法およびその装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。
東京エレクトロン株式会社
原文
保存
該当なし
1999/11/11
異議
1998 -72247
露光装置
特許第2673517号の特許を取り消す。
関口 鶴彦 その他
原文
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該当なし
1999/11/10
審判
1998 -3136
半導体露光装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。
伊東 辰雄 その他
キヤノン株式会社
原文
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該当なし
1999/09/20
審判
1998 -1585
半導体装置およびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする
森田 俊雄 その他
三菱電機株式会社
原文
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該当なし
1999/07/09
審判
1998 -7468
パターン投影方法
本件審判の請求は、成り立たない。
小池 晃
ソニー株式会社
原文
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該当なし
1999/07/06
審判
1998 -2611
半導体装置及び半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
ソニー株式会社
原文
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該当なし
1999/06/02
異議
1998 -74330
半導体装置
訂正を認める。 特許第2721157号の特許を維持する。
外川 英明
原文
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