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現在の検索キーワード: 村田 尚英

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2012/02/20 不服
2010 -15142 
面発光装置 本件審判の請求は、成り立たない。 豊栖 康弘   アーベル・システムズ株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/02/20 不服
2010 -26513 
カラーフィルタ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   凸版印刷株式会社 東洋インキSCホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/02/15 不服
2010 -17259 
光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山下 昭彦   大日本印刷株式会社 マーク デイヴィッド レヴェンソン   原文 保存
該当なし  
2012/02/14 無効
2011 -800135 
集束イオンビーム装置 本件審判の請求は、成り立たない。 審判費用は、請求人の負担…… 磯田 志郎 その他   エフ イー アイ カンパニ   原文 保存
該当なし  
2012/02/13 不服
2010 -28772 
反射マスク基板のコーティング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 横田 修孝 その他   エクストリーム、ウルトラバイオレット、リミテッド、ライアビリティ、カンパニー   原文 保存
該当なし  
2012/02/13 不服
2010 -28282 
X線発生器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 河野 登夫   株式会社堀場製作所 国立大学法人京都大学   原文 保存
該当なし  
2012/02/13 不服
2010 -25010 
塗布液組成物および薄膜形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 宮坂 一彦 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
 引用発明の認定  
2012/02/09 不服
2010 -25998 
カメラシステム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/02/08 不服
2010 -22006 
デバイス製造方法、トップコート材料、及び基板 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/01/31 不服
2010 -28087 
発光装置および電子機器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 宮坂 一彦 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/01/30 不服
2010 -29055 
原子炉格納容器 本件審判の請求は、成り立たない。   日立GEニュークリア・エナジー株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/01/24 不服
2010 -21447 
印刷版の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 朝日 伸光 その他   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2012/01/23 不服
2010 -10510 
フォトマスクの欠陥修正方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/01/23 不服
2010 -11074 
平板表示装置及び平板表示装置製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 三好 秀和   三星モバイルディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし  
2012/01/23 不服
2010 -10114 
厚膜誘電性エレクトロルミネッセンスディスプレイ用のバリア層 本件審判の請求は、成り立たない。 志賀 正武 その他   アイファイアー・アイピー・コーポレーション 三洋電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/01/20 不服
2009 -21485 
プラズマ処理システムをツールマッチングしかつトラブルシュートする方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 熊倉 禎男 その他   ラム リサーチ コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2012/01/13 不服
2010 -19213 
表面波励起プラズマ発生装置および表面波励起プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 江口 裕之   株式会社島津製作所   原文 保存
該当なし  
2012/01/10 不服
2010 -25724 
集積回路の製造における位置合わせ精度条件を緩和する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 杉村 憲司   旺宏電子股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2012/01/05 不服
2010 -12166 
支持デバイス及びリソグラフィ装置 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2012/01/05 不服
2010 -8353 
大面積高均一プラズマ処理方法及び装置 本件審判の請求は、成り立たない。 平井 輝一 その他   株式会社アルバック アルバック成膜株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  実施可能要件  新規性  
2011/12/27 不服
2010 -16495 
微細パターン形成装置 本件審判の請求は、成り立たない。 志賀 正武 その他   株式会社ディエムエス   原文 保存
該当なし  
2011/12/27 不服
2010 -25534 
ナノ構造及びナノワイヤーの組立方法並びにそれらから組立てられた装置 本件審判の請求は、成り立たない。 伊東 忠彦 その他   ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・カリフォルニア   原文 保存
該当なし  
2011/12/27 不服
2010 -5211 
プラズマ発生アセンブリ 本件審判の請求は、成り立たない。 曾我 道治 その他   ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2011/12/27 不服
2010 -11937 
電界発光ディスプレイ装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 三好 秀和   三星モバイルディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし  
2011/12/15 不服
2010 -4617 
高密度カーボンナノチューブフィルムまたはパターンを用いたバイオチップの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   韓国科学技術園   原文 保存
 パリ条約  
2011/12/15 不服
2010 -20985 
静電気駆動リソグラフィー 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小林 智彦 その他   ノースウエスタン ユニバーシティ   原文 保存
該当なし  
2011/12/14 不服
2010 -28207 
焦点検出装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/12/12 不服
2010 -24681 
飛行時間型質量分析装置 本件審判の請求は、成り立たない。 喜多 俊文   株式会社島津製作所   原文 保存
該当なし  
2011/12/12 不服
2010 -18959 
構造体および構造体の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   独立行政法人科学技術振興機構   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/12/09 不服
2009 -24378 
位相シフトフォトリソグラフィックマスクのための光学的近接補正 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上杉 浩 その他   シノプシス, インコーポレイテッド   原文 保存
 パリ条約  

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