審決検索結果一覧を表示しています。

現在の検索キーワード: 大塚 徹

114 件のヒット

  • ポートフォリオ機能
  • 絞り込み検索機能

チェックした審決を…
  ポートフォリオ名を入力して新規に保存 → 

 既存のポートフォリオを選択して保存 → 
絞り込み検索ワード: or or  → 
審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2011/06/06 不服
2008 -24294 
半導体処理チャンバ表面を洗浄する装置及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 義教 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2011/06/02 不服
2009 -10806 
水素環境中のアニールにより炭化珪素層上に酸化物層を作製する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人浅村特許事務所 その他   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2011/04/20 不服
2009 -4769 
固体有機金属化合物の充填方法および充填容器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 高野 弘晋 その他   東ソー・ファインケム株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/03/04 不服
2009 -5848 
GaN基板の保存方法、および半導体デバイスの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森田 俊雄 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/03/04 不服
2008 -32210 
エピタキシャルウェハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 宮越 典明   SUMCO TECHXIV株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/23 不服
2009 -17245 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 関 啓 その他   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/28 不服
2009 -18462 
窒化物半導体堆積基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 箱田 篤 その他   フィリップス ルミレッズ ライティング カンパニー リミテッド ライアビリティ カンパニー   原文 保存
該当なし  
2011/01/25 不服
2008 -29096 
シャワーノズル及び成膜装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社渡辺商行   原文 保存
該当なし  
2011/01/24 不服
2008 -27626 
基板処理装置および半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2010/12/16 不服
2008 -3111 
酸化珪素膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大浪 一徳 その他   セイコーエプソン株式会社 三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/06 不服
2008 -16695 
薄膜及びトリシランを用いる薄膜の形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 八木澤 史彦   エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド   原文 保存
 技術的範囲  
2010/09/06 不服
2008 -16020 
シリコンウェーハの表面処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2010/08/04 不服
2008 -22970 
半導体材料の積層構造の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   古河電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/07/20 不服
2008 -23119 
ドーパント前駆体を用いた製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 八木澤 史彦   エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド   原文 保存
 パリ条約  
2010/07/20 不服
2008 -10281 
エピタキシャルウエハ作製時に用いる炭化珪素平滑化基板の作製方法、炭化珪素基板表面の平滑化及びSiCエピタキシャル成長に用いる装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2010/06/30 不服
2008 -13390 
ウエハ・パッシベーション層の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山川 茂樹 その他   インテル・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2010/06/29 不服
2007 -30742 
電子デバイス用材料およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 石田 敬 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/04/12 不服
2008 -580 
低誘電率膜及びその成膜方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福森 久夫   杉野 隆 株式会社渡辺商行   原文 保存
該当なし  
2010/03/24 不服
2008 -3544 
プラズマCVD装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 高橋 省吾 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/02/05 不服
2007 -32150 
プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立ハイテクノロジーズ   原文 保存
該当なし  
2009/06/10 不服
2007 -27980 
シリコンオキシカーバイド、半導体装置、および半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通マイクロエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/09 不服
2007 -11858 
被膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/01 不服
2007 -18990 
超低屈折率反射防止膜の作製方法及びこの超低屈折率反射防止膜を用いたディスプレイ用窓材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿部 伸一 その他   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  
2008/12/10 不服
2006 -25530 
液体材料気化装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社堀場エステック   原文 保存
該当なし  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ