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大塚 徹
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2011/06/06
不服
2008 -24294
半導体処理チャンバ表面を洗浄する装置及び方法
本件審判の請求は、成り立たない。
小林 義教 その他
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2011/06/02
不服
2009 -10806
水素環境中のアニールにより炭化珪素層上に酸化物層を作製する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
特許業務法人浅村特許事務所 その他
クリー インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2011/04/20
不服
2009 -4769
固体有機金属化合物の充填方法および充填容器
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
高野 弘晋 その他
東ソー・ファインケム株式会社
原文
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該当なし
2011/03/04
不服
2009 -5848
GaN基板の保存方法、および半導体デバイスの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
森田 俊雄 その他
住友電気工業株式会社
原文
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該当なし
2011/03/04
不服
2008 -32210
エピタキシャルウェハの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
宮越 典明
SUMCO TECHXIV株式会社
原文
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該当なし
2011/02/23
不服
2009 -17245
半導体装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
関 啓 その他
パナソニック株式会社
原文
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該当なし
2011/01/28
不服
2009 -18462
窒化物半導体堆積基板
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
箱田 篤 その他
フィリップス ルミレッズ ライティング カンパニー リミテッド ライアビリティ カンパニー
原文
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該当なし
2011/01/25
不服
2008 -29096
シャワーノズル及び成膜装置
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社渡辺商行
原文
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該当なし
2011/01/24
不服
2008 -27626
基板処理装置および半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社日立国際電気
原文
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該当なし
2010/12/16
不服
2008 -3111
酸化珪素膜の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
大浪 一徳 その他
セイコーエプソン株式会社 三菱電機株式会社
原文
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該当なし
2010/10/06
不服
2008 -16695
薄膜及びトリシランを用いる薄膜の形成方法
本件審判の請求は、成り立たない。
八木澤 史彦
エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド
原文
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技術的範囲
2010/09/06
不服
2008 -16020
シリコンウェーハの表面処理方法
本件審判の請求は、成り立たない。
村山 靖彦 その他
株式会社SUMCO
原文
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該当なし
2010/08/04
不服
2008 -22970
半導体材料の積層構造の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
古河電気工業株式会社
原文
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該当なし
2010/07/20
不服
2008 -23119
ドーパント前駆体を用いた製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
八木澤 史彦
エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド
原文
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パリ条約
2010/07/20
不服
2008 -10281
エピタキシャルウエハ作製時に用いる炭化珪素平滑化基板の作製方法、炭化珪素基板表面の平滑化及びSiCエピタキシャル成長に用いる装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
独立行政法人産業技術総合研究所
原文
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該当なし
2010/06/30
不服
2008 -13390
ウエハ・パッシベーション層の形成方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
山川 茂樹 その他
インテル・コーポレーション
原文
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該当なし
2010/06/29
不服
2007 -30742
電子デバイス用材料およびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
石田 敬 その他
東京エレクトロン株式会社
原文
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該当なし
2010/04/12
不服
2008 -580
低誘電率膜及びその成膜方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
福森 久夫
杉野 隆 株式会社渡辺商行
原文
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該当なし
2010/03/24
不服
2008 -3544
プラズマCVD装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
高橋 省吾 その他
三菱電機株式会社
原文
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該当なし
2010/02/05
不服
2007 -32150
プラズマ処理装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立ハイテクノロジーズ
原文
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該当なし
2009/06/10
不服
2007 -27980
シリコンオキシカーバイド、半導体装置、および半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
原文
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該当なし
2009/06/09
不服
2007 -11858
被膜形成方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
東京応化工業株式会社
原文
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該当なし
2009/06/01
不服
2007 -18990
超低屈折率反射防止膜の作製方法及びこの超低屈折率反射防止膜を用いたディスプレイ用窓材
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
阿部 伸一 その他
株式会社アルバック
原文
保存
該当なし
2008/12/10
不服
2006 -25530
液体材料気化装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社堀場エステック
原文
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該当なし
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