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現在の検索キーワード: 長谷部 智寿

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2010/01/06 不服
2008 -737 
プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし  
2009/12/28 不服
2008 -4910 
プラズマエッチング装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社日立製作所   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2009/11/13 不服
2007 -22982 
樹脂封止装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   新日本無線株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/11/05 不服
2007 -33965 
半導体装置製造用接着シート及びそれを用いた半導体装置並びに製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 鈴木 三義 その他   株式会社巴川製紙所   原文 保存
該当なし  
2009/10/20 不服
2007 -26116 
プラズマエッチングリアクタ及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小川 信夫 その他   ティーガル コーポレイション   原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2009/09/28 不服
2007 -16804 
二次元パターニング方法ならびにそれを用いた電子デバイスの作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 西澤 利夫   独立行政法人科学技術振興機構 独立行政法人物質・材料研究機構   原文 保存
該当なし  
2009/08/03 不服
2007 -13952 
ドライ・エッチング装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 園田 吉隆   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
 パリ条約  
2009/07/24 不服
2007 -16012 
表面改質方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人科学技術振興機構   原文 保存
該当なし  
2009/07/22 不服
2007 -17306 
半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 高田 守 その他   富士通マイクロエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/29 不服
2007 -2466 
半導体装置、並びに、該半導体装置を備えた液晶モジュールおよび半導体モジュール 本件審判の請求は、成り立たない。   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/24 不服
2007 -14989 
ドライエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 伊藤 高順 その他   株式会社デンソー 株式会社日本自動車部品総合研究所   原文 保存
該当なし  
2009/05/13 不服
2007 -5155 
反応性イオンエッチング方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 浜野 孝雄 その他   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし  
2009/05/11 不服
2007 -7692 
ガス伝熱形プラズマ処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。   パナソニック株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2009/04/24 不服
2007 -6037 
はんだコートリッド 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 広瀬 章一   株式会社住友金属エレクトロデバイス 千住金属工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/04/20 不服
2007 -8563 
表面実装型水晶振動子 本件審判の請求は、成り立たない。   東京電波株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/03/23 不服
2007 -27957 
プラズマエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/03/10 不服
2007 -5249 
終点検出のために外部光源を使用する方法および装置 本件審判の請求は、成り立たない。 恩田 博宣   マイクロン テクノロジー, インク.   原文 保存
 パリ条約  
2009/03/03 不服
2007 -5643 
プラズマエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/02/04 不服
2007 -3199 
半導体装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   沖電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/12/26 不服
2007 -5746 
半導体装置の製造方法と製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通マイクロエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/12/16 不服
2007 -990 
エッチング装置およびエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。   芝浦メカトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/10/15 不服
2006 -14328 
気密端子の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エヌイーシー ショット コンポーネンツ株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/10/02 不服
2006 -10742 
ドライエッチング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 内田 幸男 その他   日本ゼオン株式会社 独立行政法人産業技術総合研究所 財団法人機械システム振興協会 社団法人電子情報技術産業協会   原文 保存
該当なし  
2008/09/22 不服
2006 -25353 
トランジスタパッケージおよびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2008/04/30 不服
2006 -22884 
半導体装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2007/09/28 不服
2006 -22672 
電力用半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 青山 葆 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2007/03/20 不服
2004 -22698 
プラズマ処理装置用耐食性部材 本件審判の請求は、成り立たない。   京セラ株式会社   原文 保存
該当なし  
2007/03/06 不服
2005 -289 
半導体装置、およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 古澤 寛 その他   ローム株式会社   原文 保存
該当なし  
2007/01/22 不服
2004 -9411 
半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 今江 克実 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし  
2006/12/13 不服
2004 -7418 
プラズマ密度情報測定方法及びその装置、並びにプラズマ処理方法及びその装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 杉谷 勉   株式会社ニッシン 国立大学法人名古屋大学   原文 保存
該当なし  

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