特許審決検索結果一覧 - 特許審決データベース

会員機能

ランキング

請求人別審判件数

判例データベース

審決データベース

審決検索結果一覧を表示しています。

前の30件

1 2 3 4 5 6

現在の検索キーワード：長谷部智寿

179 件のヒット

審決年月日	審判番号	発明・考案の名称	結論	代理人	請求人
2006/12/11	不服 2004 -6382	半導体製造装置用のガス供給装置及びガス供給方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	杉本丈夫	東京エレクトロン株式会社株式会社フジキン	原文	保存
該当なし
2006/11/16	不服 2004 -20231	半導体素子の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社日立ハイテクノロジーズ	原文	保存
該当なし
2006/11/13	不服 2004 -25122	配線基板とその製造方法	本件審判の請求は、成り立たない。		日本特殊陶業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/11/13	不服 2004 -4793	半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		沖電気工業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/11/08	不服 2005 -11953	半導体装置	本件審判の請求は、成り立たない。	稲岡耕作	ローム株式会社	原文	保存
該当なし
2006/11/02	不服 2004 -13805	半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	前田実	沖電気工業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/10/31	不服 2004 -9929	基板表面処理方法および基板表面処理装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	稲岡耕作	大日本スクリーン製造株式会社	原文	保存
該当なし
2006/10/25	不服 2004 -7595	ナノ構造の形成方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		独立行政法人科学技術振興機構	原文	保存
該当なし
2006/10/13	不服 2004 -4595	プラズマのための接地路を提供する電極構造を具えたプラズマ反応器、及び同プラズマ反応器を製造する方法	本件審判の請求は、成り立たない。	西尾務その他	マイクロンテクノロジー, インク.	原文	保存
該当なし
2006/10/04	不服 2004 -4409	プラズマ処理装置及び方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	紺野正幸その他	東京エレクトロン株式会社八坂保能	原文	保存
該当なし
2006/10/04	不服 2004 -4997	半導体製造装置および半導体製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2006/08/29	不服 2004 -8354	プラズマ処理装置及びその管理方法	本件審判の請求は、成り立たない。	石田敬	富士通株式会社	原文	保存
該当なし
2006/08/22	不服 2004 -7155	エッチング方法及び半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		富士通株式会社	原文	保存
該当なし
2006/06/13	不服 2004 -10959	ICパッケージ等に用いるベースの製法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	足立勉	日本特殊陶業株式会社日本電信電話株式会社	原文	保存
該当なし
2006/05/29	不服 2004 -5517	プラズマ処理方法	本件審判の請求は、成り立たない。	岩橋文雄その他	松下電器産業株式会社	原文	保存
進歩性(29条2項)
2006/05/25	不服 2004 -6610	半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		シャープ株式会社	原文	保存
該当なし
2006/05/11	不服 2004 -10377	基板表面処理方法および基板表面処理装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	稲岡耕作	大日本スクリーン製造株式会社	原文	保存
該当なし
2006/04/25	不服 2003 -24658	パワーモジュール用基板の製造法	本件審判の請求は、成り立たない。	澤木誠一	同和鉱業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/04/20	不服 2004 -3819	プラズマ処理方法及び装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	永野大介その他	松下電器産業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/04/19	不服 2004 -9316	プラズマ処理装置用シリコンリング	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		信越化学工業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/03/03	不服 2004 -9163	プラズマ処理装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	中村誠その他	財団法人名古屋産業科学研究所株式会社東芝	原文	保存
該当なし
2006/03/01	不服 2004 -8867	半導体装置の製造装置およびドライエッチング方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	岩橋文雄その他	松下電器産業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/02/01	不服 2004 -3362	シリコンの異方性エッチング方法及び装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		住友精密工業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/01/31	不服 2003 -21877	プラズマエッチング方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	浅井章弘	東京エレクトロン株式会社株式会社東芝	原文	保存
該当なし
2006/01/13	不服 2004 -8293	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	内藤浩樹その他	松下電器産業株式会社	原文	保存
該当なし
2006/01/05	不服 2004 -8712	プラズマ生成装置	本件審判の請求は、成り立たない。	作田康夫	株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2005/11/14	不服 2004 -7402	半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2005/11/14	不服 2004 -7403	半導体装置の製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
2005/08/23	不服 2003 -16173	ACF接合構造	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。	永野大介その他	松下電器産業株式会社	原文	保存
該当なし

前の30件

1 2 3 4 5 6

プライバシーポリシーセキュリティーポリシー運営会社概要サービスに関しての問い合わせ

ポートフォリオ名を入力して新規に保存　→
既存のポートフォリオを選択して保存　→