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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2004/01/26 異議
2003 -70980 
弾球遊技機 訂正を認める。 特許第3335595号の請求項1及び2に係る特許を取り…… 今崎 一司     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  新規事項の追加  
2003/01/21 不服
2002 -219 
基板端縁部被膜の除去方法及び除去装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/10/21 異議
2002 -70803 
位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造方法 訂正を認める。 特許第3214840号の請求項1ないし5に係る特許を維…… 藤村 康夫 その他     原文 保存
 分割出願(出願分割)  
2002/09/17 不服
2001 -3494 
レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 本件審判の請求は、成り立たない。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/08/05 不服
2000 -14275 
プリント写真の焼付方法 本件審判の請求は、成り立たない。 杉本 勝徳   ノーリツ鋼機株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/05/28 異議
2001 -72984 
成膜方法 訂正を認める。 特許第3162157号の請求項1に係る特許を維持する。 井上 俊夫 その他     原文 保存
該当なし  
2002/05/09 不服
2001 -12396 
写真処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。 石田 敬 その他   イーストマン コダック カンパニー   原文 保存
 新規性  進歩性(29条2項)  パリ条約  
2002/05/09 異議
2001 -72007 
位相シフトマスクを製造する方法 訂正を認める。 特許第3126649号の請求項1ないし5に係る特許を取…… 加藤 伸晃 その他     原文 保存
該当なし  
2002/04/25 不服
2001 -5204 
基板端縁洗浄装置及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉田 茂明 その他   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/04/03 異議
2001 -72790 
感光材料処理装置用乾燥装置 特許第3155393号の請求項5に係る特許を取り消す。 韮澤 弘 その他     原文 保存
該当なし  
2002/03/05 異議
2001 -71754 
転写マスク及びその製造方法 訂正を認める。 特許第3118429号の請求項1ないし4、7ないし10に係…… 藤村 康夫     原文 保存
 新規事項の追加  
2002/02/27 不服
2001 -13274 
反射型マスク、その製造方法及び該マスクを用いた露光装置 本件審判の請求は、成り立たない。 石橋 政幸 その他   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/02/12 異議
2001 -71774 
処理方法及び処理装置 訂正を認める。 特許第3120168号の請求項1、8、9に係る特許を維持…… 中本 菊彦     原文 保存
該当なし  
2002/02/01 不服
2000 -16828 
電子線描画装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 渡邉 昌幸   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし  
2002/01/24 不服
2001 -4042 
塗膜の加熱処理方法及び加熱処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中村 誠 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/01/24 不服
2000 -18011 
処理装置および処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/01/17 異議
2001 -71757 
レジスト塗布装置とその洗浄方法 訂正を認める。 特許第3118858号の請求項1、2に係る特許を維持す…… 横山 淳一     原文 保存
該当なし  
2002/01/07 不服
2000 -11536 
X線マスク及びX線マスクの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 高瀬 彌平   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/12/26 異議
2001 -71614 
露光装置及び露光方法 特許第3114681号の請求項1ないし5に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  
2001/12/17 不服
2000 -15424 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 河合 信明 その他   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/12/04 不服
2001 -5092 
投影露光装置及び半導体デバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/12/03 不服
2000 -20239 
電子線描画装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし  
2001/11/27 不服
2001 -3883 
写真感光材料処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。 朝日奈 宗太   ノーリツ鋼機株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/11/27 不服
2000 -20252 
塗布方法 本件審判の請求は、成り立たない。   東京応化工業株式会社   原文 保存
 国内優先権  
2001/11/27 不服
2000 -12678 
写真感光材料の搬送装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ノーリツ鋼機株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/11/21 不服
2000 -17854 
処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 金本 哲男 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/11/06 不服
2001 -3595 
電子線描画方法及び電子線描画装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 京本 直樹 その他   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/11/05 不服
2001 -3517 
ハロゲン化銀感光材料用処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。   富士写真フイルム株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/11/05 不服
2000 -17530 
処理ガスの供給装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 萩原 康司 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/10/19 不服
2000 -14327 
X線マスクおよびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 福田 修一 その他   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし  

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