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藤田 年彦
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2004/01/26
異議
2003 -70980
弾球遊技機
訂正を認める。 特許第3335595号の請求項1及び2に係る特許を取り……
今崎 一司
原文
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29条の2(拡大された先願の地位) 新規事項の追加
2003/01/21
不服
2002 -219
基板端縁部被膜の除去方法及び除去装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
東京応化工業株式会社
原文
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該当なし
2002/10/21
異議
2002 -70803
位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造方法
訂正を認める。 特許第3214840号の請求項1ないし5に係る特許を維……
藤村 康夫 その他
原文
保存
分割出願(出願分割)
2002/09/17
不服
2001 -3494
レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法
本件審判の請求は、成り立たない。
東京エレクトロン株式会社
原文
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該当なし
2002/08/05
不服
2000 -14275
プリント写真の焼付方法
本件審判の請求は、成り立たない。
杉本 勝徳
ノーリツ鋼機株式会社
原文
保存
該当なし
2002/05/28
異議
2001 -72984
成膜方法
訂正を認める。 特許第3162157号の請求項1に係る特許を維持する。
井上 俊夫 その他
原文
保存
該当なし
2002/05/09
不服
2001 -12396
写真処理装置
本件審判の請求は、成り立たない。
石田 敬 その他
イーストマン コダック カンパニー
原文
保存
新規性 進歩性(29条2項) パリ条約
2002/05/09
異議
2001 -72007
位相シフトマスクを製造する方法
訂正を認める。 特許第3126649号の請求項1ないし5に係る特許を取……
加藤 伸晃 その他
原文
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該当なし
2002/04/25
不服
2001 -5204
基板端縁洗浄装置及び方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
吉田 茂明 その他
大日本スクリーン製造株式会社
原文
保存
該当なし
2002/04/03
異議
2001 -72790
感光材料処理装置用乾燥装置
特許第3155393号の請求項5に係る特許を取り消す。
韮澤 弘 その他
原文
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該当なし
2002/03/05
異議
2001 -71754
転写マスク及びその製造方法
訂正を認める。 特許第3118429号の請求項1ないし4、7ないし10に係……
藤村 康夫
原文
保存
新規事項の追加
2002/02/27
不服
2001 -13274
反射型マスク、その製造方法及び該マスクを用いた露光装置
本件審判の請求は、成り立たない。
石橋 政幸 その他
キヤノン株式会社
原文
保存
該当なし
2002/02/12
異議
2001 -71774
処理方法及び処理装置
訂正を認める。 特許第3120168号の請求項1、8、9に係る特許を維持……
中本 菊彦
原文
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該当なし
2002/02/01
不服
2000 -16828
電子線描画装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
渡邉 昌幸
株式会社日立製作所
原文
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該当なし
2002/01/24
不服
2001 -4042
塗膜の加熱処理方法及び加熱処理装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
中村 誠 その他
東京エレクトロン株式会社
原文
保存
該当なし
2002/01/24
不服
2000 -18011
処理装置および処理方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
東京エレクトロン株式会社
原文
保存
該当なし
2002/01/17
異議
2001 -71757
レジスト塗布装置とその洗浄方法
訂正を認める。 特許第3118858号の請求項1、2に係る特許を維持す……
横山 淳一
原文
保存
該当なし
2002/01/07
不服
2000 -11536
X線マスク及びX線マスクの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
高瀬 彌平
三菱電機株式会社
原文
保存
該当なし
2001/12/26
異議
2001 -71614
露光装置及び露光方法
特許第3114681号の請求項1ないし5に係る特許を取り消す。
原文
保存
該当なし
2001/12/17
不服
2000 -15424
半導体装置の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
河合 信明 その他
日本電気株式会社
原文
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該当なし
2001/12/04
不服
2001 -5092
投影露光装置及び半導体デバイス製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
キヤノン株式会社
原文
保存
該当なし
2001/12/03
不服
2000 -20239
電子線描画装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社日立製作所
原文
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該当なし
2001/11/27
不服
2001 -3883
写真感光材料処理装置
本件審判の請求は、成り立たない。
朝日奈 宗太
ノーリツ鋼機株式会社
原文
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該当なし
2001/11/27
不服
2000 -20252
塗布方法
本件審判の請求は、成り立たない。
東京応化工業株式会社
原文
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国内優先権
2001/11/27
不服
2000 -12678
写真感光材料の搬送装置
本件審判の請求は、成り立たない。
ノーリツ鋼機株式会社
原文
保存
該当なし
2001/11/21
不服
2000 -17854
処理方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
金本 哲男 その他
東京エレクトロン株式会社
原文
保存
該当なし
2001/11/06
不服
2001 -3595
電子線描画方法及び電子線描画装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
京本 直樹 その他
日本電気株式会社
原文
保存
該当なし
2001/11/05
不服
2001 -3517
ハロゲン化銀感光材料用処理装置
本件審判の請求は、成り立たない。
富士写真フイルム株式会社
原文
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該当なし
2001/11/05
不服
2000 -17530
処理ガスの供給装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
萩原 康司 その他
東京エレクトロン株式会社
原文
保存
該当なし
2001/10/19
不服
2000 -14327
X線マスクおよびその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
福田 修一 その他
日本電気株式会社
原文
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該当なし
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